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    • 1. 发明专利
    • 氣化裝置、成膜裝置、程序記錄介質及濃度控制方法
    • 气化设备、成膜设备、进程记录介质及浓度控制方法
    • TW202030357A
    • 2020-08-16
    • TW109104112
    • 2020-02-10
    • 日商堀場STEC股份有限公司HORIBA STEC, CO., LTD.
    • 志水徹SHIMIZU, TORU南雅和MINAMI, MASAKAZU
    • C23C16/448C23C16/52G05D21/02G05D7/06H01L21/02
    • 本發明提供氣化裝置、成膜裝置、程序記錄介質及濃度控制方法,其中在氣化裝置中的濃度控制機構具備:濃度計算部,基於來自濃度監測器的輸出信號計算材料氣體的實際濃度;濃度控制部,在供給材料氣體的供給期間,進行以使構成濃度控制機構的流體控制設備的控制值成為預先設定的初始設定值的方式進行控制的第一控制後,進行以通過控制流體控制設備而使實際濃度接近預先設定的目標值的方式進行反饋控制的第二控制;及控制切換部,基於濃度控制部開始第一控制後的實際濃度的經時變化,將濃度控制部的控制狀態從第一控制切換到第二控制。
    • 本发明提供气化设备、成膜设备、进程记录介质及浓度控制方法,其中在气化设备中的浓度控制机构具备:浓度计算部,基于来自浓度监测器的输出信号计算材料气体的实际浓度;浓度控制部,在供给材料气体的供给期间,进行以使构成浓度控制机构的流体控制设备的控制值成为预先设置的初始设置值的方式进行控制的第一控制后,进行以通过控制流体控制设备而使实际浓度接近预先设置的目标值的方式进行反馈控制的第二控制;及控制切换部,基于浓度控制部开始第一控制后的实际浓度的经时变化,将浓度控制部的控制状态从第一控制切换到第二控制。
    • 2. 发明专利
    • 氣體控制系統、成膜裝置、存儲介質和氣體控制方法
    • 气体控制系统、成膜设备、存储介质和气体控制方法
    • TW201835981A
    • 2018-10-01
    • TW107108102
    • 2018-03-09
    • 日商堀場STEC股份有限公司HORIBA STEC, CO., LTD.
    • 坂口有平SAKAGUCHI, YUHEI志水徹SHIMIZU, TORU南雅和MINAMI, MASAKAZU林大介HAYASHI, DAISUKE
    • H01L21/205C23C16/448
    • 本發明涉及氣體控制系統、成膜裝置、存儲介質和氣體控制方法,容易控制從容器匯出的材料氣體的總量。氣體控制系統向收容有材料的容器(10)導入載氣,並且將材料氣化後的材料氣體與載氣一起從容器(10)匯出,氣體控制系統具有控制部(60),控制部(60)控制載氣的流量,使濃度指標值接近預先確定的目標濃度指標值,濃度指標值直接或間接表示測量從容器(10)匯出的混合氣體而得到的混合氣體中的材料氣體濃度,控制部(60)在進行控制載氣的流量以規定變化率變化的第一控制後進行第二控制,第二控制基於濃度指標值和目標濃度指標值的偏差來控制載氣的流量。
    • 本发明涉及气体控制系统、成膜设备、存储介质和气体控制方法,容易控制从容器导出的材料气体的总量。气体控制系统向收容有材料的容器(10)导入载气,并且将材料气化后的材料气体与载气一起从容器(10)导出,气体控制系统具有控制部(60),控制部(60)控制载气的流量,使浓度指针值接近预先确定的目标浓度指针值,浓度指针值直接或间接表示测量从容器(10)导出的混合气体而得到的混合气体中的材料气体浓度,控制部(60)在进行控制载气的流量以规定变化率变化的第一控制后进行第二控制,第二控制基于浓度指针值和目标浓度指针值的偏差来控制载气的流量。