专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201331294A 界面活性劑組成物、摻合其的塗敷溶液及使用該溶液所處理的橡膠製品审中-公开
简体标题：界面活性剂组成物、掺合其的涂敷溶液及使用该溶液所处理的橡胶制品
公开(公告)号：TW201331294A
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW101137713
申请日：2012-10-12
申请人：日信化學工業股份有限公司 , NISSIN CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. , 信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：水崎透 , MIZUSAKI, TORU , 中西昌幸 , NAKANISHI, MASAYUKI , 有馬尚市 , ARIMA, SHOICHI , 谷井一郎 , TANII, ICHIRO , 峯村正彥 , MINEMURA, MASAHIKO , 小野猪智郎 , ONO, ICHIRO
IPC分类号： C08L71/00 , C08L83/04 , C09D171/00 , C09D183/04 , B05D7/02
CPC分类号： C09D5/027 , C09D7/63 , Y10T428/1386 , Y10T428/266 , Y10T428/31663
摘要：本發明為一種界面活性劑組成物，其含有乙炔二醇乙氧化物(A)與聚矽氧系界面活性劑(B)，其中該乙炔二醇乙氧化物(A)係具有構造式(I)之以縮水甘油醚封端者， (R1為氫原子、或碳數1~6之直鏈狀、分枝狀或環狀之烷基，R2為碳數1~12之直鏈狀、分枝狀或環狀之烷基，R3為-CH2OR4，R4為碳數2~30之直鏈狀、分枝狀或環狀之烷基、烯基、芳基或芳烷基，n、m、p、q為正數，(n+m)之平均值為1~100，而且(p+q)之平均值為0.5~5)。摻合本發明之界面活性劑組成物之塗敷溶液在塗佈於橡膠製品時不會起泡，且不會塗佈不均。因此，可工業上有利地製造表面非黏著性之橡膠製品。
简体摘要：本发明为一种界面活性剂组成物，其含有乙炔二醇乙氧化物(A)与聚硅氧系界面活性剂(B)，其中该乙炔二醇乙氧化物(A)系具有构造式(I)之以缩水甘油醚封端者， (R1为氢原子、或碳数1~6之直链状、分枝状或环状之烷基，R2为碳数1~12之直链状、分枝状或环状之烷基，R3为-CH2OR4，R4为碳数2~30之直链状、分枝状或环状之烷基、烯基、芳基或芳烷基，n、m、p、q为正数，(n+m)之平均值为1~100，而且(p+q)之平均值为0.5~5)。掺合本发明之界面活性剂组成物之涂敷溶液在涂布于橡胶制品时不会起泡，且不会涂布不均。因此，可工业上有利地制造表面非黏着性之橡胶制品。

2. 发明专利

TWI525147B 界面活性劑組成物、摻合其的塗敷溶液及使用該溶液所處理的橡膠製品有权
简体标题：界面活性剂组成物、掺合其的涂敷溶液及使用该溶液所处理的橡胶制品
公开(公告)号：TWI525147B
公开(公告)日：2016-03-11
申请号：TW101137713
申请日：2012-10-12
申请人：日信化學工業股份有限公司 , NISSIN CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. , 信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：水崎透 , MIZUSAKI, TORU , 中西昌幸 , NAKANISHI, MASAYUKI , 有馬尚市 , ARIMA, SHOICHI , 谷井一郎 , TANII, ICHIRO , 峯村正彥 , MINEMURA, MASAHIKO , 小野猪智郎 , ONO, ICHIRO
IPC分类号： C08L71/00 , C08L83/04 , C09D171/00 , C09D183/04 , B05D7/02
CPC分类号： C09D5/027 , C09D7/63 , Y10T428/1386 , Y10T428/266 , Y10T428/31663

3. 发明专利

TW201335243A 含有酸酐基之有機矽氧烷及其製造方法审中-公开
简体标题：含有酸酐基之有机硅氧烷及其制造方法
公开(公告)号：TW201335243A
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW101148326
申请日：2012-12-19
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：雨宮正博 , AMEMIYA, MASAHIRO , 小野猪智郎 , ONO, ICHIRO
IPC分类号： C08G77/14 , C08G77/46 , C08G77/06 , C08K5/541
摘要：解決課題之手段為一種有機矽氧烷，其係如下述式〔1a〕所示，分子內為分別具有至少1個水解性矽烷基及酸酐基之有機矽氧烷，式中，X示為具有酸酐基之一價烴基，Y示為具有聚醚基之一價烴基，Z示為具有水解性矽烷基之一價烴基，R1示為氫原子或可經鹵素原子取代之一價烴基，M1示為選自於上述X、Y、Z、R1之基，並示為0≦a≦100、0≦b≦100、0≦c≦100、0≦d≦100之整數，惟，當a為0時，M1為X，c為1≦c≦100之整數，當c為0時，M1為Z，a為1≦a≦100之整數)。本發明之有機矽氧烷為分子內具有水解性矽烷基、酸酐基、及進而因應所需的聚醚基者，並可自由地調整各官能基之數。
简体摘要：解决课题之手段为一种有机硅氧烷，其系如下述式〔1a〕所示，分子内为分别具有至少1个水解性硅烷基及酸酐基之有机硅氧烷，式中，X示为具有酸酐基之一价烃基，Y示为具有聚醚基之一价烃基，Z示为具有水解性硅烷基之一价烃基，R1示为氢原子或可经卤素原子取代之一价烃基，M1示为选自于上述X、Y、Z、R1之基，并示为0≦a≦100、0≦b≦100、0≦c≦100、0≦d≦100之整数，惟，当a为0时，M1为X，c为1≦c≦100之整数，当c为0时，M1为Z，a为1≦a≦100之整数)。本发明之有机硅氧烷为分子内具有水解性硅烷基、酸酐基、及进而因应所需的聚醚基者，并可自由地调整各官能基之数。

4. 发明专利

TWI609023B 含有酸酐基之有機矽氧烷及其製造方法有权
简体标题：含有酸酐基之有机硅氧烷及其制造方法
公开(公告)号：TWI609023B
公开(公告)日：2017-12-21
申请号：TW101141349
申请日：2012-11-07
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：雨宮正博 , AMEMIYA, MASAHIRO , 小野猪智郎 , ONO, ICHIRO
IPC分类号： C07F7/18 , C08K5/5419 , C08G77/38

5. 发明专利

TWI537311B 含有酸酐基之有機矽氧烷及其製造方法有权
简体标题：含有酸酐基之有机硅氧烷及其制造方法
公开(公告)号：TWI537311B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW101148326
申请日：2012-12-19
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：雨宮正博 , AMEMIYA, MASAHIRO , 小野猪智郎 , ONO, ICHIRO
IPC分类号： C08G77/14 , C08G77/46 , C08G77/06 , C08K5/541

6. 发明专利

TW201425433A 光學用感壓黏著劑組成物审中-公开
简体标题：光学用感压黏着剂组成物
公开(公告)号：TW201425433A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW102129657
申请日：2013-08-19
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：小野猪智郎 , ONO, ICHIRO , 柳澤秀好 , YANAGISAWA, HIDEYOSHI
IPC分类号： C08L33/00 , C08F283/12 , C08F283/06 , C08F283/10 , G02B5/30 , G02F1/1335
摘要：本發明之課題在於提供光學用感壓黏著劑組成物，其適合於液晶元件中的玻璃基板與偏光板等之黏著。本發明之解決手段為一種光學用感壓黏著劑組成物，其含有：(A)丙烯酸系聚合物　　 100質量份，(B)下述(a)、(b)、(c)及(d)成分之自由基共聚物，且由具有水解性矽烷基的丙烯酸/聚矽氧系接枝共聚物所構成之黏著性改質劑　　 0.01~10質量份；(a)自由基聚合性有機聚矽氧烷化合物，(b)式(1)所示的自由基聚合性有機矽化合物，X-R1-SiR23-a(OR3)a (1) (式中，X係自由基聚合性基，R1係氧原子可介於之間存在的碳原子數1~12的2價烴基或單鍵，R2及R3各自係碳原子數1~4的1價烴基，a為1~3之整數)，(c)自由基聚合性聚氧化烯化合物，(d)丙烯酸系單體(相當於上述(a)、(b)、(c)成分者除外)。
简体摘要：本发明之课题在于提供光学用感压黏着剂组成物，其适合于液芯片件中的玻璃基板与偏光板等之黏着。本发明之解决手段为一种光学用感压黏着剂组成物，其含有：(A)丙烯酸系聚合物　　 100质量份，(B)下述(a)、(b)、(c)及(d)成分之自由基共聚物，且由具有水解性硅烷基的丙烯酸/聚硅氧系接枝共聚物所构成之黏着性改质剂　　 0.01~10质量份；(a)自由基聚合性有机聚硅氧烷化合物，(b)式(1)所示的自由基聚合性有机硅化合物，X-R1-SiR23-a(OR3)a (1) (式中，X系自由基聚合性基，R1系氧原子可介于之间存在的碳原子数1~12的2价烃基或单键，R2及R3各自系碳原子数1~4的1价烃基，a为1~3之整数)，(c)自由基聚合性聚氧化烯化合物，(d)丙烯酸系单体(相当于上述(a)、(b)、(c)成分者除外)。

7. 发明专利

TWI577726B 光學用感壓黏著劑組成物有权
简体标题：光学用感压黏着剂组成物
公开(公告)号：TWI577726B
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：TW102129657
申请日：2013-08-19
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：小野猪智郎 , ONO, ICHIRO , 柳澤秀好 , YANAGISAWA, HIDEYOSHI
IPC分类号： C08L33/00 , C08F283/12 , C08F283/06 , C08F283/10 , G02B5/30 , G02F1/1335

8. 发明专利

TW201333025A 含有酸酐基之有機矽氧烷及其製造方法审中-公开
简体标题：含有酸酐基之有机硅氧烷及其制造方法
公开(公告)号：TW201333025A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101141349
申请日：2012-11-07
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：雨宮正博 , AMEMIYA, MASAHIRO , 小野猪智郎 , ONO, ICHIRO
IPC分类号： C07F7/18 , C08K5/5419 , C08G77/38
摘要：本發明係揭示一種有機矽氧烷，其為[1]式所表示之烷氧基矽烷或其部分水解縮合物之分子內所存在之O-Si鍵中至少1個的O與Si之原子間，插入A式之矽氧烷單位與必要時之B式之矽氧烷單位。R1nSi(OR2)4-n [1](R1表示可被鹵原子取代之碳原子數1至20之一價烴基；R2表示碳原子數1至10之烷基；n表示0或1)。 (X表示具有酸酐基之一價烴基；R3表示相互獨立之氫原子，或可被鹵原子取代之碳原子數1至20之一價烴基)。本發明之有機矽氧烷為，分子內具有烷氧基、酸酐基與必要時之聚醚基之物，可自由調整各官能基之數量。
简体摘要：本发明系揭示一种有机硅氧烷，其为[1]式所表示之烷氧基硅烷或其部分水解缩合物之分子内所存在之O-Si键中至少1个的O与Si之原子间，插入A式之硅氧烷单位与必要时之B式之硅氧烷单位。R1nSi(OR2)4-n [1](R1表示可被卤原子取代之碳原子数1至20之一价烃基；R2表示碳原子数1至10之烷基；n表示0或1)。 (X表示具有酸酐基之一价烃基；R3表示相互独立之氢原子，或可被卤原子取代之碳原子数1至20之一价烃基)。本发明之有机硅氧烷为，分子内具有烷氧基、酸酐基与必要时之聚醚基之物，可自由调整各官能基之数量。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式