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1. 发明专利

TW201448187A 固態成像器件、電子裝置、透鏡控制方法及成像模組审中-公开
简体标题：固态成像器件、电子设备、透镜控制方法及成像模块
公开(公告)号：TW201448187A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103116748
申请日：2014-05-12
申请人：新力股份有限公司 , SONY CORPORATION
发明人：中田征志 , NAKATA, MASASHI , 高橋浩司 , TAKAHASHI, KOJI , 井上裕士 , INOUE, YUUJI , 池田健兒 , IKEDA, KENJI , 岡治 , OKA, OSAMU , 服部芳郎 , HATTORI, YOSHIRO , 佐藤信也 , SATO, SHINYA , 加藤英明 , KATO, HIDEAKI , 長治保宏 , CHOUJI, YASUHIRO , 西岡惠美 , NISHIOKA, EMI , 河野邉宏 , KAWANOBE, HIROSHI
IPC分类号： H01L27/146 , H04N5/232
CPC分类号： H04N5/3696 , G02B7/346 , H01L27/14605 , H01L27/14621 , H01L27/14623 , H01L27/14627 , H04N5/23212 , H04N9/045 , H04N13/128 , H04N2005/2255
摘要：本發明提供一種固態成像器件，其包含：一像素區域，該像素區域包含經配置成一個二維矩陣圖案之複數個像素。該複數個像素之一些經組態為相位差偵測像素，該等相位差偵測像素包含經安置於一半導體基板上之一光電轉換區段及經安置於該光電轉換區段之一部分上方之一光阻斷膜。特定言之，該等相位差偵測像素之該光阻斷膜之一部位根據相位差偵測像素之一部位而改變。例如，定位於像素區域之一周邊處之一相位差偵測像素之光阻斷膜之部位係不同於定位於該像素區域之一中心部分中之一相位差偵測像素之光阻斷膜之一部位。
简体摘要：本发明提供一种固态成像器件，其包含：一像素区域，该像素区域包含经配置成一个二维矩阵图案之复数个像素。该复数个像素之一些经组态为相位差侦测像素，该等相位差侦测像素包含经安置于一半导体基板上之一光电转换区段及经安置于该光电转换区段之一部分上方之一光阻断膜。特定言之，该等相位差侦测像素之该光阻断膜之一部位根据相位差侦测像素之一部位而改变。例如，定位于像素区域之一周边处之一相位差侦测像素之光阻断膜之部位系不同于定位于该像素区域之一中心部分中之一相位差侦测像素之光阻断膜之一部位。

2. 发明专利

TWI643322B 固態成像器件、電子裝置、透鏡控制方法及成像模組有权
简体标题：固态成像器件、电子设备、透镜控制方法及成像模块
公开(公告)号：TWI643322B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW103116748
申请日：2014-05-12
申请人：新力股份有限公司 , SONY CORPORATION
发明人：中田征志 , NAKATA, MASASHI , 高橋浩司 , TAKAHASHI, KOJI , 井上裕士 , INOUE, YUUJI , 池田健兒 , IKEDA, KENJI , 岡治 , OKA, OSAMU , 服部芳郎 , HATTORI, YOSHIRO , 佐藤信也 , SATO, SHINYA , 加藤英明 , KATO, HIDEAKI , 長治保宏 , CHOUJI, YASUHIRO , 西岡惠美 , NISHIOKA, EMI , 河野邉宏 , KAWANOBE, HIROSHI
IPC分类号： H01L27/146 , H04N5/232

3. 发明专利

TWI362108B 固體攝像裝置及其製造方法與照像機有权
简体标题：固体摄像设备及其制造方法与照像机
公开(公告)号：TWI362108B
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：TW096142893
申请日：2007-11-13
申请人：新力股份有限公司
发明人：東宮祥哲 , 田谷圭司 , 味沢治彥 , 井上裕士 , 岩下哲大 , 加藤英明
IPC分类号： H01L , H04N
摘要：本發明係提供一種即使設置光波導，亦可以較簡單之步驟製造之固體攝像裝置及其製造方法與照像機。該固體攝像裝置之構成為：在半導體基板(10)之成為受光面之像素區域RPX形成按各像素區分之光電二極體PD、和對產生及儲存於光電二極體之信號電荷或與信號電荷相對應之電壓進行讀取之信號讀取部，且覆蓋光電二極體地在半導體基板上形成絕緣膜(15~17、20~22、25~27、30、31、33)，在光電二極體之上方部分於絕緣膜中形成凹部H，在電極墊區域RPAD於絕緣膜之上層形成電極墊32，又，覆蓋凹部之內壁地在電極墊更上層形成高折射率之鈍化膜36，在鈍化膜之上層填入凹部地形成高折射率之填入層37。
简体摘要：本发明系提供一种即使设置光波导，亦可以较简单之步骤制造之固体摄像设备及其制造方法与照像机。该固体摄像设备之构成为：在半导体基板(10)之成为受光面之像素区域RPX形成按各像素区分之光电二极管PD、和对产生及存储于光电二极管之信号电荷或与信号电荷相对应之电压进行读取之信号读取部，且覆盖光电二极管地在半导体基板上形成绝缘膜(15~17、20~22、25~27、30、31、33)，在光电二极管之上方部分于绝缘膜中形成凹部H，在电极垫区域RPAD于绝缘膜之上层形成电极垫32，又，覆盖凹部之内壁地在电极垫更上层形成高折射率之钝化膜36，在钝化膜之上层填入凹部地形成高折射率之填入层37。

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