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1. 发明专利

TWI563558B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI563558B
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：TW103108361
申请日：2014-03-11
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：宗德皓太 , SOTOKU, KOTA , 田中孝佳 , TANAKA, TAKAYOSHI , 佐藤雅伸 , SATO, MASANOBU
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/67051 , B08B3/041 , H01L21/67028

2. 发明专利

TWI556877B 基板處理裝置及吐出頭待機方法有权
简体标题：基板处理设备及吐出头待机方法
公开(公告)号：TWI556877B
公开(公告)日：2016-11-11
申请号：TW103109414
申请日：2014-03-14
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：宗德皓太 , SOTOKU, KOTA , 屋敷啟之 , YASHIKI, HIROYUKI , 佐藤雅伸 , SATO, MASANOBU
IPC分类号： B05C11/10
CPC分类号： H01L21/02052 , H01L21/67051

3. 发明专利

TWI672757B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI672757B
公开(公告)日：2019-09-21
申请号：TW106131184
申请日：2017-09-12
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：宗徳皓太 , SOTOKU, KOTA , 林豊秀 , HAYASHI, TOYOHIDE , 波多野章人 , HATANO, AKITO , 郷原隆行 , GOHARA, TAKAYUKI , 高橋弘明 , TAKAHASHI, HIROAKI
IPC分类号： H01L21/67 , B05C21/00 , B05C5/02

4. 发明专利

TW201843540A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW201843540A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107123818
申请日：2017-02-23
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：宗德皓太 , SOTOKU, KOTA
IPC分类号： G03F7/42 , C08J11/14 , B05D7/04
摘要：本發明為一種基板處理方法，係用於由在表面形成了具有硬化層之抗蝕劑的基板去除該抗蝕劑的基板處理方法，其包括：基板保持步驟，係保持上述基板；與抗蝕劑剝離步驟，係對用於混合複數流體而生成液滴之複數流體噴嘴，供給臭氧氣體與過熱水蒸氣，將含有藉由臭氧氣體與過熱水蒸氣之混合所生成之臭氧水之液滴的臭氧氣體與過熱水蒸氣的混合氣體，由上述複數流體噴嘴朝上述基板之表面吐出，藉此由上述基板之表面剝離抗蝕劑。
简体摘要：本发明为一种基板处理方法，系用于由在表面形成了具有硬化层之抗蚀剂的基板去除该抗蚀剂的基板处理方法，其包括：基板保持步骤，系保持上述基板；与抗蚀剂剥离步骤，系对用于混合复数流体而生成液滴之复数流体喷嘴，供给臭氧气体与过热水蒸气，将含有借由臭氧气体与过热水蒸气之混合所生成之臭氧水之液滴的臭氧气体与过热水蒸气的混合气体，由上述复数流体喷嘴朝上述基板之表面吐出，借此由上述基板之表面剥离抗蚀剂。

5. 发明专利

TWI665725B 阻劑去除方法以及阻劑去除裝置有权
简体标题：阻剂去除方法以及阻剂去除设备
公开(公告)号：TWI665725B
公开(公告)日：2019-07-11
申请号：TW107123134
申请日：2018-07-04
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：宗徳皓太 , SOTOKU, KOTA , 鰍場真樹 , INABA, MASAKI
IPC分类号： H01L21/306

6. 发明专利

TW201816842A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201816842A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106131185
申请日：2017-09-12
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：波多野章人 , HATANO, AKITO , 林豊秀 , HAYASHI, TOYOHIDE , 郷原隆行 , GOHARA, TAKAYUKI , 高橋弘明 , TAKAHASHI, HIROAKI , 宗徳皓太 , SOTOKU, KOTA
IPC分类号： H01L21/027
摘要：本發明之基板處理裝置具備：支持構件、遮罩、供氣單元、及排氣單元。供氣單元向基板之上表面與頂面間之空間，自該空間之周圍供給自供氣口噴出之氣體。排氣單元於頂面中經由於與基板之上表面中心部對向之位置開口之排氣口排出基板之上表面與頂面間的氣體。基板之上表面與頂面在基板之上表面中心部的間隔，窄於基板之上表面與頂面在基板之上表面外周部的間隔。
简体摘要：本发明之基板处理设备具备：支持构件、遮罩、供气单元、及排气单元。供气单元向基板之上表面与顶面间之空间，自该空间之周围供给自供气口喷出之气体。排气单元于顶面中经由于与基板之上表面中心部对向之位置开口之排气口排出基板之上表面与顶面间的气体。基板之上表面与顶面在基板之上表面中心部的间隔，窄于基板之上表面与顶面在基板之上表面外周部的间隔。

7. 发明专利

TWI688837B 基板處理方法及基板處理裝置有权
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI688837B
公开(公告)日：2020-03-21
申请号：TW107123818
申请日：2017-02-23
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：宗德皓太 , SOTOKU, KOTA
IPC分类号： G03F7/42 , C08J11/14 , B05D7/04

8. 发明专利

TWI686867B 基板處理方法以及基板處理裝置有权
简体标题：基板处理方法以及基板处理设备
公开(公告)号：TWI686867B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW107107149
申请日：2018-03-05
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：郷原隆行 , GOHARA, TAKAYUKI , 林豊秀 , HAYASHI, TOYOHIDE , 波多野章人 , HATANO, AKITO , 宗徳皓太 , SOTOKU, KOTA , 高橋弘明 , TAKAHASHI, HIROAKI
IPC分类号： H01L21/316 , H01L21/67 , H01L21/8242

9. 发明专利

TW201838034A 基板處理方法以及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法以及基板处理设备
公开(公告)号：TW201838034A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107107149
申请日：2018-03-05
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：郷原隆行 , GOHARA, TAKAYUKI , 林豊秀 , HAYASHI, TOYOHIDE , 波多野章人 , HATANO, AKITO , 宗徳皓太 , SOTOKU, KOTA , 高橋弘明 , TAKAHASHI, HIROAKI
IPC分类号： H01L21/316 , H01L21/67 , H01L21/8242
摘要：用以自基板的表面去除抗蝕劑的基板處理方法包括：支持步驟，使支持構件水平地支持所述基板；混合氣體供給步驟，將水蒸氣與臭氧氣體的混合氣體供給於所述基板的表面附近；以及紫外線照射步驟，對供給於所述基板的表面附近的混合氣體照射紫外線。
简体摘要：用以自基板的表面去除抗蚀剂的基板处理方法包括：支持步骤，使支持构件水平地支持所述基板；混合气体供给步骤，将水蒸气与臭氧气体的混合气体供给于所述基板的表面附近；以及紫外线照射步骤，对供给于所述基板的表面附近的混合气体照射紫外线。

10. 发明专利

TWI632438B 基板處理方法及基板處理裝置有权
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI632438B
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW106106121
申请日：2017-02-23
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：宗德皓太 , SOTOKU, KOTA
IPC分类号： G03F7/42 , C08J11/14 , B05D7/04

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