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1. 发明专利

TWI619141B 用於前級管線電漿減量系統之氣體套管有权
简体标题：用于前级管线等离子减量系统之气体套管
公开(公告)号：TWI619141B
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW103108181
申请日：2014-03-10
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：赫柏特安德魯 , HERBERT, ANDREW , 迪辛森柯林約翰 , DICKINSON, COLIN JOHN
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： H01J37/32834 , H01J37/32844 , Y02C20/30

2. 发明专利

TW201447974A 用於前級管線電漿減量系統之氣體套管审中-公开
简体标题：用于前级管线等离子减量系统之气体套管
公开(公告)号：TW201447974A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103108181
申请日：2014-03-10
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：赫柏特安德魯 , HERBERT, ANDREW , 迪辛森柯林約翰 , DICKINSON, COLIN JOHN
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： H01J37/32834 , H01J37/32844 , Y02C20/30
摘要：本文提供用於保護基板處理系統的前級管線之內壁的方法和裝置。在一些實施例中，用於在基板處理系統的前級管線中處理廢氣之裝置包括：氣體套管發生器，該氣體套管發生器包括主體，該主體具有設置成穿過該主體的中心開口；氣室，該氣室設置在該主體內並且圍繞該中心開口；入口，該入口耦接至該氣室；以及環孔，該環孔在第一端耦接至該氣室並且在與該第一端相對的第二端處形成環形出口，其中該環形出口與該中心開口同心並且通向該中心開口。該氣體套管發生器可以設置在前級管線電漿減量系統的上游，以提供氣體套管至基板處理系統的前級管線。
简体摘要：本文提供用于保护基板处理系统的前级管线之内壁的方法和设备。在一些实施例中，用于在基板处理系统的前级管线中处理废气之设备包括：气体套管发生器，该气体套管发生器包括主体，该主体具有设置成穿过该主体的中心开口；气室，该气室设置在该主体内并且围绕该中心开口；入口，该入口耦接至该气室；以及环孔，该环孔在第一端耦接至该气室并且在与该第一端相对的第二端处形成环形出口，其中该环形出口与该中心开口同心并且通向该中心开口。该气体套管发生器可以设置在前级管线等离子减量系统的上游，以提供气体套管至基板处理系统的前级管线。

3. 发明专利

TWI679922B 霍爾效應增強電容耦合電漿源、減輕系統、及真空處理系統有权
简体标题：霍尔效应增强电容耦合等离子源、减轻系统、及真空处理系统
公开(公告)号：TWI679922B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW104104595
申请日：2015-02-11
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：寇克斯麥可S , COX, MICHAEL S. , 王榮平 , WANG, RONGPING , 魏斯特布萊恩 , WEST, BRIAN , 強森羅傑M , JOHNSON, ROGER M. , 迪辛森柯林約翰 , DICKINSON, COLIN JOHN
IPC分类号： H05H1/24 , H01J37/32

4. 发明专利

TWI533353B 用於處理製程系統中之排放氣體的方法與設備有权
简体标题：用于处理制程系统中之排放气体的方法与设备
公开(公告)号：TWI533353B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：TW099141967
申请日：2010-12-02
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：迪辛森柯林約翰 , DICKINSON, COLIN JOHN , 摩萊美倫 , MOALEM, MEHRAN , 克拉克丹尼爾O , CLARK, DANIEL O.
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： B01D53/32 , B01D53/92 , B01D2258/0216 , B01D2259/122 , B01D2259/80 , B01D2259/818 , C23C16/4412

5. 发明专利

TW201604320A 試劑輸送系統防凍熱交換器审中-公开
简体标题：试剂输送系统防冻热交换器
公开(公告)号：TW201604320A
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW104116503
申请日：2015-05-22
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：迪辛森柯林約翰 , DICKINSON, COLIN JOHN
IPC分类号： C23C16/513 , C23C16/54
CPC分类号： H01J37/32844 , H01J37/32357 , H01J37/32522 , Y02C20/30
摘要：於此提供在前線減緩系統中提供試劑氣體的設備及方法。在一些實施例中，試劑輸送系統包含：一水槽，該水槽具有一內容積，在設置於該水槽中時該內容積保持一試劑液體；及一熱交換器，該熱交換器具有一中央開口，該中央開口設置於該內容積中且經配置以在試劑液體設置於該水槽內時避免該試劑液體的一頂部表面結凍。
简体摘要：于此提供在前线减缓系统中提供试剂气体的设备及方法。在一些实施例中，试剂输送系统包含：一水槽，该水槽具有一内容积，在设置于该水槽中时该内容积保持一试剂液体；及一热交换器，该热交换器具有一中央开口，该中央开口设置于该内容积中且经配置以在试剂液体设置于该水槽内时避免该试剂液体的一顶部表面结冻。

6. 发明专利

TW201401936A 用於處理前級真空管線中廢氣的設備审中-公开
简体标题：用于处理前级真空管线中废气的设备
公开(公告)号：TW201401936A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102113786
申请日：2013-04-18
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：寇克斯麥可S , COX, MICHAEL S. , 迪辛森柯林約翰 , DICKINSON, COLIN JOHN
IPC分类号： H05H1/30 , C23C14/56
CPC分类号： H05B6/36 , F01N3/0275 , F01N2240/28 , H01J37/32834 , H01J37/32844 , H05H1/46 , H05H2001/4667 , H05H2245/1215 , Y02C20/30
摘要：在某些具體實施例中，一種在處理一基材處理系統一前級真空管線中廢氣的設備，可以包含一介電管，該介電管經配置以與該基材處理系統之該前級真空管線連接，以允許一廢氣流從該前級真空管線通過該介電管；一射頻線圈關於該介電管之一外部表面捲繞，該射頻線圈具有一第一端以提供一射頻輸入至該射頻線圈，該射頻線圈第一端位靠近於該介電管之一第一端，而一第二端位靠近於該介電管之一第二端；一分接頭連接至該射頻線圈，以提供一射頻回程路徑，該分接頭位於該介電管第一端與該介電管之一中央部分之間。
简体摘要：在某些具体实施例中，一种在处理一基材处理系统一前级真空管线中废气的设备，可以包含一介电管，该介电管经配置以与该基材处理系统之该前级真空管线连接，以允许一废气流从该前级真空管线通过该介电管；一射频线圈关于该介电管之一外部表面卷绕，该射频线圈具有一第一端以提供一射频输入至该射频线圈，该射频线圈第一端位靠近于该介电管之一第一端，而一第二端位靠近于该介电管之一第二端；一分接头连接至该射频线圈，以提供一射频回程路径，该分接头位于该介电管第一端与该介电管之一中央部分之间。

7. 发明专利

TWI692542B 電漿前級熱反應器系統有权
简体标题：等离子前级热反应器系统
公开(公告)号：TWI692542B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：TW104107225
申请日：2015-03-06
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：迪辛森柯林約翰 , DICKINSON, COLIN JOHN
IPC分类号： C23C16/28 , C23C16/44 , C23C16/50 , H01J37/32

8. 发明专利

TWI669412B 試劑輸送系統防凍熱交換器有权
简体标题：试剂输送系统防冻热交换器
公开(公告)号：TWI669412B
公开(公告)日：2019-08-21
申请号：TW104116503
申请日：2015-05-22
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：迪辛森柯林約翰 , DICKINSON, COLIN JOHN
IPC分类号： C23C16/513 , C23C16/54

9. 发明专利

TW201536114A 霍爾效應增強電容耦合電漿源、減輕系統、及真空處理系統审中-公开
简体标题：霍尔效应增强电容耦合等离子源、减轻系统、及真空处理系统
公开(公告)号：TW201536114A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：TW104104595
申请日：2015-02-11
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：寇克斯麥可S , COX, MICHAEL S. , 王榮平 , WANG, RONGPING , 魏斯特布萊恩 , WEST, BRIAN , 強森羅傑M , JOHNSON, ROGER M. , 迪辛森柯林約翰 , DICKINSON, COLIN JOHN
IPC分类号： H05H1/24 , H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32844 , B01D53/323 , B01D2257/55 , B01D2257/553 , B01D2257/556 , B01D2258/0216 , H01J37/32082 , H01J37/32357 , H01J37/32495 , H01J37/32541 , H01J37/32568 , H01J37/32596 , H01J37/32669 , H01J37/32825 , H01J2237/332 , H01J2237/334 , H01J2237/335 , H01L21/02123 , H01L21/02274 , Y02C20/30
摘要：本文中揭示之實施例包括減輕系統，該減輕系統用於減輕在半導體製程中產生之化合物。減輕系統包括電漿源，該電漿源具有第一板件及平行於第一板件之第二板件。電極安置於第一板件與第二板件之間，且外壁安置於第一板件與第二板件之間，該外壁環繞該電極。電漿源具有安置於第一板件上之第一複數個磁體，及安置於第二板件上之第二複數個磁體。由第一及第二複數個磁體產生之磁場大體上垂直於在電極與外壁之間產生之電場。在此配置中，產生密集電漿。
简体摘要：本文中揭示之实施例包括减轻系统，该减轻系统用于减轻在半导体制程中产生之化合物。减轻系统包括等离子源，该等离子源具有第一板件及平行于第一板件之第二板件。电极安置于第一板件与第二板件之间，且外壁安置于第一板件与第二板件之间，该外壁环绕该电极。等离子源具有安置于第一板件上之第一复数个磁体，及安置于第二板件上之第二复数个磁体。由第一及第二复数个磁体产生之磁场大体上垂直于在电极与外壁之间产生之电场。在此配置中，产生密集等离子。

10. 发明专利

TWI632251B 含有重原子之化合物的電漿減量有权
简体标题：含有重原子之化合物的等离子减量
公开(公告)号：TWI632251B
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW106122769
申请日：2015-03-03
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：寇克斯麥可S , COX,MICHAEL S. , 麥克英特許莫尼克 , MCINTOSH,MONIQUE , 迪辛森柯林約翰 , DICKINSON,COLIN JOHN , 費雪保羅E , FISHER,PAUL E. , 田中豐 , TANAKA,YUTAKA , 原錚 , YUAN,ZHENG
IPC分类号： C23C16/52 , C23C16/513

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