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    • 7. 发明专利
    • 可變半徑的雙磁控管
    • 可变半径的双磁控管
    • TW201433650A
    • 2014-09-01
    • TW103102964
    • 2014-01-27
    • 應用材料股份有限公司APPLIED MATERIALS, INC.
    • 尼古言善XNGUYEN, THANH X.汪榮軍WANG, RONGJUN拉許德幕哈瑪德MRASHEED, MUHAMMAD M.唐先敏TANG, XIANMIN
    • C23C14/35C23C14/56
    • H01J37/3408C23C14/35C23C14/564H01J37/3288H01J37/3405H01J37/3452H01J37/3455H01J37/3476
    • 雙磁控管,特別有用於RF電漿濺鍍,包含:一徑向靜止開路磁控管(82),包含相對磁極(90、92)且繞中央軸(14)旋轉以掃描濺鍍目標(20)之外部;及一徑向可移動式開路磁控管(84),包含相對磁極(96、98)且與該靜止磁控管一起旋轉。在處理期間(第2圖),該可移動式磁控管以一開口端鄰接於該靜止磁控管之一開口端徑向地放置於外部區域中,以形成單一開路磁控管。在清理期間(第3圖),該可移動式磁控管之部分徑向地向內移動以掃描及清理目標未被該靜止磁控管掃描之內部區域。該可移動式磁控管可裝設於一臂(114)上,該臂於一旋轉碟狀平板(100)之週邊處繞一軸(118)轉動,該靜止磁控管裝設於該碟狀平板,使得該臂離心地根據旋轉速率或方向在徑向位置間移動。
    • 双磁控管,特别有用于RF等离子溅镀,包含:一径向静止开路磁控管(82),包含相对磁极(90、92)且绕中央轴(14)旋转以扫描溅镀目标(20)之外部;及一径向可移动式开路磁控管(84),包含相对磁极(96、98)且与该静止磁控管一起旋转。在处理期间(第2图),该可移动式磁控管以一开口端邻接于该静止磁控管之一开口端径向地放置于外部区域中,以形成单一开路磁控管。在清理期间(第3图),该可移动式磁控管之部分径向地向内移动以扫描及清理目标未被该静止磁控管扫描之内部区域。该可移动式磁控管可装设于一臂(114)上,该臂于一旋转碟状平板(100)之周边处绕一轴(118)转动,该静止磁控管装设于该碟状平板,使得该臂离心地根据旋转速率或方向在径向位置间移动。