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1. 发明专利

TW201517167A 使用同步射頻脈衝以蝕刻材料之方法审中-公开
简体标题：使用同步射频脉冲以蚀刻材料之方法
公开(公告)号：TW201517167A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW103128653
申请日：2014-08-20
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：金鍾文 , KIM, JONG MUN , 清水大亮 , SHIMIZU, DAISUKE , 川崎勝正 , KAWASAKI, KATSUMASA , 修吉瑟吉歐富庫達 , SHOJI, SERGIO FUKUDA
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/3065 , H01J37/32091 , H01J2237/334 , H01L21/31116
摘要：本發明之實施例提供用於使用同步射頻脈衝蝕刻一材料層之方法。在一個實施例中，方法包括提供氣體混合物至處理腔室中，在第一時間點施加第一射頻電源至處理腔室以在氣體混合物中形成電漿，在第二時間點施加第一射頻偏壓功率至處理腔室以對基板執行蝕刻製程，在第三時間點關閉第一射頻偏壓功率同時自第一時間點至第二及第三時間點連續地保持第一射頻電源開啟，且在第四時間點關閉第一射頻電源同時連續地自第一時間點至第二、第三及第四時間點提供氣體混合物至處理腔室。
简体摘要：本发明之实施例提供用于使用同步射频脉冲蚀刻一材料层之方法。在一个实施例中，方法包括提供气体混合物至处理腔室中，在第一时间点施加第一射频电源至处理腔室以在气体混合物中形成等离子，在第二时间点施加第一射频偏压功率至处理腔室以对基板运行蚀刻制程，在第三时间点关闭第一射频偏压功率同时自第一时间点至第二及第三时间点连续地保持第一射频电源打开，且在第四时间点关闭第一射频电源同时连续地自第一时间点至第二、第三及第四时间点提供气体混合物至处理腔室。

2. 发明专利

TW201724158A 用於處理基板的射頻脈衝反射減量审中-公开
简体标题：用于处理基板的射频脉冲反射减量
公开(公告)号：TW201724158A
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW105126841
申请日：2016-08-23
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：川崎勝正 , KAWASAKI, KATSUMASA
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32183 , H01J37/32146 , H01J37/32155 , H01J37/3299
摘要：本文提供一種用於處理腔室中的RF脈衝反射減量的方法與系統。在一些實施例中，方法包括以下步驟：（a）在第一時間週期期間從複數個RF產生器提供複數個脈衝RF功率波形，（b）決定複數個脈衝RF功率波形中之每一者的初始反射功率分佈，（c）針對複數個脈衝RF功率波形中之每一者，決定反射功率的最高位準，並控制匹配網路或RF產生器中之至少一者，以減少反射功率的最高位準，（d）決定複數個脈衝RF功率波形中之每一者的經調整反射功率分佈，以及（e）重複（c）與（d），直到複數個脈衝RF功率波形中之每一者的經調整反射功率分佈在閾值調諧範圍中。
简体摘要：本文提供一种用于处理腔室中的RF脉冲反射减量的方法与系统。在一些实施例中，方法包括以下步骤：（a）在第一时间周期期间从复数个RF产生器提供复数个脉冲RF功率波形，（b）决定复数个脉冲RF功率波形中之每一者的初始反射功率分布，（c）针对复数个脉冲RF功率波形中之每一者，决定反射功率的最高位准，并控制匹配网络或RF产生器中之至少一者，以减少反射功率的最高位准，（d）决定复数个脉冲RF功率波形中之每一者的经调整反射功率分布，以及（e）重复（c）与（d），直到复数个脉冲RF功率波形中之每一者的经调整反射功率分布在阈值调谐范围中。

3. 发明专利

TW201722213A 具有約鋸齒波脈衝的RF功率傳輸审中-公开
简体标题：具有约锯齿波脉冲的RF功率传输
公开(公告)号：TW201722213A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW105125703
申请日：2016-08-12
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：川崎勝正 , KAWASAKI, KATSUMASA , 修吉瑟吉歐富庫達 , SHOJI, SERGIO FUKUDA , 費賈斯汀 , PHI, JUSTIN , 清水大亮 , SHIMIZU, DAISUKE
IPC分类号： H05H7/02
CPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32146 , H01J37/32174 , H01J37/32183 , H01L21/3065 , H05H2001/4682
摘要：本文提供一種使用多位準脈衝RF功率操作電漿增強基板處理系統的方法。在一些實施例中，使用多位準脈衝RF功率操作電漿增強基板處理系統的方法包括以下步驟：提供第一多位準RF功率波形到處理腔室，第一多位準RF功率波形至少具有第一脈衝持續時間期間的第一功率位準、第二脈衝持續時間期間的第二功率位準、及第三脈衝持續時間期間的第三功率位準，以及在第一延遲週期之後，提供第二多位準RF功率波形到處理腔室，第二多位準RF功率波形至少具有第一脈衝持續時間期間的第一功率位準、第二脈衝持續時間期間的第二功率位準、及第三脈衝持續時間期間的第三功率位準。
简体摘要：本文提供一种使用多位准脉冲RF功率操作等离子增强基板处理系统的方法。在一些实施例中，使用多位准脉冲RF功率操作等离子增强基板处理系统的方法包括以下步骤：提供第一多位准RF功率波形到处理腔室，第一多位准RF功率波形至少具有第一脉冲持续时间期间的第一功率位准、第二脉冲持续时间期间的第二功率位准、及第三脉冲持续时间期间的第三功率位准，以及在第一延迟周期之后，提供第二多位准RF功率波形到处理腔室，第二多位准RF功率波形至少具有第一脉冲持续时间期间的第一功率位准、第二脉冲持续时间期间的第二功率位准、及第三脉冲持续时间期间的第三功率位准。

4. 发明专利

TWI695411B 用於處理基板的射頻脈衝反射減量的方法和系統有权
简体标题：用于处理基板的射频脉冲反射减量的方法和系统
公开(公告)号：TWI695411B
公开(公告)日：2020-06-01
申请号：TW105126841
申请日：2016-08-23
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：川崎勝正 , KAWASAKI, KATSUMASA
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/46

5. 发明专利

TW201843694A 利用變頻產生器的智慧RF脈衝調整审中-公开
简体标题：利用变频产生器的智能RF脉冲调整
公开(公告)号：TW201843694A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107105704
申请日：2018-02-21
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：川崎勝正 , KAWASAKI, KATSUMASA
IPC分类号： H01J37/32 , H05G1/20
摘要：本文提供了用於RF脈衝反射減少的方法和系統。在一些實施例中，一種方法包括：(a)接收用於處理基板的處理配方，該處理配方包括在第一工作週期期間的來自複數個RF產生器的複數個脈衝RF功率波形、(b)將第一工作週期分成複數個相等的時間間隔、(c)對於每個RF產生器，確定對於所有間隔的頻率命令集合，並且將該頻率命令集合發送到RF產生器，其中該頻率命令集合包括對於在複數個相等的時間間隔中的每個間隔的頻率設定點、及(d)根據發送到每個RF產生器的頻率命令集合，在第一工作週期期間將複數個RF功率波形從複數個RF產生器提供到處理腔室。
简体摘要：本文提供了用于RF脉冲反射减少的方法和系统。在一些实施例中，一种方法包括：(a)接收用于处理基板的处理配方，该处理配方包括在第一工作周期期间的来自复数个RF产生器的复数个脉冲RF功率波形、(b)将第一工作周期分成复数个相等的时间间隔、(c)对于每个RF产生器，确定对于所有间隔的频率命令集合，并且将该频率命令集合发送到RF产生器，其中该频率命令集合包括对于在复数个相等的时间间隔中的每个间隔的频率设置点、及(d)根据发送到每个RF产生器的频率命令集合，在第一工作周期期间将复数个RF功率波形从复数个RF产生器提供到处理腔室。

6. 发明专利

TW201724920A 用於處理基板之射頻功率傳輸調節审中-公开
简体标题：用于处理基板之射频功率传输调节
公开(公告)号：TW201724920A
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW105126699
申请日：2016-08-22
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：川崎勝正 , KAWASAKI, KATSUMASA , 費賈斯汀 , PHI, JUSTIN , 修吉瑟吉歐富庫達 , SHOJI, SERGIO FUKUDA
IPC分类号： H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32091 , H01J37/32082 , H01J37/32146 , H01J37/32165 , H01J37/32183 , H01J37/3244 , H01J2237/334
摘要：本文提供一種使用脈衝射頻（RF）功率操作電漿增強基板處理系統的方法。在一些實施例中，使用脈衝射頻（RF）功率操作電漿增強基板處理系統的方法包括以下步驟：在第一時間週期期間提供第一功率位準的第一脈衝RF功率波形到處理腔室，在第一時間週期期間提供第一功率位準的第二脈衝RF功率波形到處理腔室，取得在第一時間週期期間提供的第一與第二脈衝RF功率波形所建立的第一反射功率，以及執行第一負載均衡處理，以調整第一脈衝RF功率波形的第一功率位準，以補償在第一時間週期期間所取得的反射功率，以產生預設功率位準的傳輸功率。
简体摘要：本文提供一种使用脉冲射频（RF）功率操作等离子增强基板处理系统的方法。在一些实施例中，使用脉冲射频（RF）功率操作等离子增强基板处理系统的方法包括以下步骤：在第一时间周期期间提供第一功率位准的第一脉冲RF功率波形到处理腔室，在第一时间周期期间提供第一功率位准的第二脉冲RF功率波形到处理腔室，取得在第一时间周期期间提供的第一与第二脉冲RF功率波形所创建的第一反射功率，以及运行第一负载均衡处理，以调整第一脉冲RF功率波形的第一功率位准，以补偿在第一时间周期期间所取得的反射功率，以产生默认功率位准的传输功率。

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