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1. 发明专利

TWI502091B 濺鍍裝置有权
简体标题：溅镀设备
公开(公告)号：TWI502091B
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW100106710
申请日：2011-03-01
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：中島鐵兵 , NAKAJIMA, TEPPEI , 金正健 , KIM, JUNG-GUN , 鄭炳和 , JEONG, BYEONG-HWA , 李尚浩 , LEE, SANG-HO
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/352 , C23C14/3407 , H01J37/3408 , H01J37/3441

2. 外观设计

TWD137189S 玻璃基板搬送用托盤 GLASS SUBSTRATE-CARRYING TRAY 有权
简体标题：玻璃基板搬送用托盘 GLASS SUBSTRATE-CARRYING TRAY
公开(公告)号：TWD137189S
公开(公告)日：2010-10-01
申请号：TW098301856
申请日：2009-04-24
申请人：愛發科股份有限公司
设计人：中島鐵兵
摘要：【物品用途】
本創作係使用在基板處理裝置中之「玻璃基板搬送用托盤」的新式樣設計。
【創作特點】
本創作整體概呈矩形狀，從立體圖及前視圖觀之，本體四周佈設有概呈矩形之紋路且於左右側下部形成有凹部。
本創作係一種可使用在基板處理裝置中之玻璃基板搬送用托盤，該基板處理裝置係可對用於製造液晶面板之玻璃基板進行成膜者。配合立體圖及前視圖觀之，使用本物品來使玻璃基板成膜時，大致呈矩形狀之外側框架的周圍安裝有防著板，且在將玻璃基板概呈直立設置之狀態下以專用夾持器等固定周緣，使其在進行不同處理之複數成膜室間所鋪設之軌道(軌條)上移動。又，於前視圖及後視圖中，顯示在本物品左右下端之大致呈圓形部分係可用來供插銷穿透之孔，而該插銷係將本物品固定在基板處理裝置之本體的預定位置者。
整體而言，本創作線條流暢簡潔俐落、且式樣新穎具獨創性，實為一特殊且實用之新式樣設計。
上述說明僅供輔助瞭解本創作而非用以限制其內容；理應明瞭，新式樣係就其整體形狀指定之。
简体摘要：【物品用途】本创作系使用在基板处理设备中之“玻璃基板搬送用托盘”的新式样设计。【创作特点】本创作整体概呈矩形状，从三維图及前视图观之，本体四周布设有概呈矩形之纹路且于左右侧下部形成有凹部。本创作系一种可使用在基板处理设备中之玻璃基板搬送用托盘，该基板处理设备系可对用于制造液晶皮肤之玻璃基板进行成膜者。配合三維图及前视图观之，使用本物品来使玻璃基板成膜时，大致呈矩形状之外侧框架的周围安装有防着板，且在将玻璃基板概呈直立设置之状态下以专用夹持器等固定周缘，使其在进行不同处理之复数成膜室间所铺设之轨道(轨条)上移动。又，于前视图及后视图中，显示在本物品左右下端之大致呈圆形部分系可用来供插销穿透之孔，而该插销系将本物品固定在基板处理设备之本体的预定位置者。整体而言，本创作线条流畅简洁俐落、且式样新颖具独创性，实为一特殊且实用之新式样设计。上述说明仅供辅助了解本创作而非用以限制其内容；理应明了，新式样系就其整体形状指定之。

3. 发明专利

TW201202456A 濺鍍裝置审中-公开
简体标题：溅镀设备
公开(公告)号：TW201202456A
公开(公告)日：2012-01-16
申请号：TW100106710
申请日：2011-03-01
申请人：愛發科股份有限公司
发明人：中島鐵兵 , 金正健 , 鄭炳和 , 李尚浩
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C14/352 , C23C14/3407 , H01J37/3408 , H01J37/3441
摘要： [課題]提供一種：抑制濺鍍粒子之對於非侵蝕區域的附著，而成膜特性為高之濺鍍裝置。[解決手段]濺鍍裝置(1)，係具備有真空腔(11)、和在與設置於此真空腔內的基板相對向之位置處而空出有特定之間隔地被作了並排設置之複數的靶材(132a～132d)、和對於靶材施加電壓之電源、和將氣體導入至真空腔內之氣體導入手段(12)，該濺鍍裝置，其特徵為：在靶材之端部處，係具備有將該端部之上面作覆蓋的遮蔽構件(20)。
简体摘要： [课题]提供一种：抑制溅镀粒子之对于非侵蚀区域的附着，而成膜特性为高之溅镀设备。[解决手段]溅镀设备(1)，系具备有真空腔(11)、和在与设置于此真空腔内的基板相对向之位置处而空出有特定之间隔地被作了并排设置之复数的靶材(132a～132d)、和对于靶材施加电压之电源、和将气体导入至真空腔内之气体导入手段(12)，该溅镀设备，其特征为：在靶材之端部处，系具备有将该端部之上面作覆盖的屏蔽构件(20)。

4. 外观设计

TWD134184S 支承板（二） BACKING PLATE 有权
公开(公告)号：TWD134184S
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：TW098301796
申请日：2009-04-21
申请人：愛發科股份有限公司
设计人：中島鐵兵
摘要：【物品用途】本創作係有關於一種用於基板處理裝置之「支承板(二)」之新式樣設計。【創作特點】本物品係一種可使用在基板處理裝置之支承板，該基板處理裝置係可對使用於製造液晶面板之玻璃基板進行成膜者。如「顯示支撐目標之狀態的前面側立體參考圖」所示，使用本物品來使玻璃基板成膜時，係將目標固定於本物品的前面再安裝於基板處理裝置。在該狀態下，從在「後視圖」及「C-C、D部分放大圖」的下端部以大致呈縱向長橢圓形表示之左右一對出水口的其中一者，將冷卻液注入「E-E剖面放大圖」、「G-G剖面放大圖」、「以虛線表示流路之C-C、D部分放大參考圖」等顯示之內部流路，並從另一出水口排出，藉此將上述目標連續地冷卻。
本創作之支承板概呈長條形，由前視圖及「A-A,B部份放大圖」觀之，支承板之下方形成有概呈長橢圓狀及概呈圓形狀紋路。
整體而言，本創作線條流暢簡潔俐落、且式樣新穎具獨創性，實為一特殊且實用之新式樣設計。
上述說明僅供輔助瞭解本創作而非用以限制其內容；理應明瞭，新式樣係就其整體形狀指定之。
简体摘要：【物品用途】本创作系有关于一种用于基板处理设备之“支承板(二)”之新式样设计。【创作特点】本物品系一种可使用在基板处理设备之支承板，该基板处理设备系可对使用于制造液晶皮肤之玻璃基板进行成膜者。如“显示支撑目标之状态的前面侧三維参考图”所示，使用本物品来使玻璃基板成膜时，系将目标固定于本物品的前面再安装于基板处理设备。在该状态下，从在“后视图”及“C-C、D部分放大图”的下端部以大致呈纵向长椭圆形表示之左右一对出水口的其中一者，将冷却液注入“E-E剖面放大图”、“G-G剖面放大图”、“以虚线表示流路之C-C、D部分放大参考图”等显示之内部流路，并从另一出水口排出，借此将上述目标连续地冷却。本创作之支承板概呈长条形，由前视图及“A-A,B部份放大图”观之，支承板之下方形成有概呈长椭圆状及概呈圆形状纹路。整体而言，本创作线条流畅简洁俐落、且式样新颖具独创性，实为一特殊且实用之新式样设计。上述说明仅供辅助了解本创作而非用以限制其内容；理应明了，新式样系就其整体形状指定之。

5. 外观设计

TWD134185S 基板搬送托盤之夾持器 CLAMPER FOR SUBSTRATE-CARRYING TRAY 有权
简体标题：基板搬送托盘之夹持器 CLAMPER FOR SUBSTRATE-CARRYING TRAY
公开(公告)号：TWD134185S
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：TW098301855
申请日：2009-04-24
申请人：愛發科股份有限公司
设计人：中島鐵兵
摘要：【物品用途】本創作係有關於一種用於基板搬送托盤之「基板搬送托盤之夾持器」之新式樣設計。【創作特點】如圖所示，由左、右側視圖觀之，本創作物品概呈倒L字形狀，由立體圖觀之，夾持器頂部面兩側呈有傾斜部，由前視圖觀之，夾持器下面兩側呈內削狀，略靠中間處有概呈圓形之紋路。本創作物品係可使用於製造液晶面板時對所用玻璃基板進行成膜之基板處理裝置中。如「使用狀態參考圖」所示，本創作物品可於藉基板處理裝置使玻璃基板成膜時，透過夾持器支架而被安裝於基板周緣之多數處，而將基板托盤固定於預定位置。於此狀態下，可使本創作物品於舖設在進行相異處理之多數成膜室(未圖示)間的軌道上移動，而於玻璃基板進行成膜。
整體而言，本創作線條流暢簡潔俐落、且式樣新穎具獨創性，實為一特殊且實用之新式樣設計。
上述說明僅供輔助瞭解本創作而非用以限制其內容；理應明瞭，新式樣專利範圍係以圖面所示者為準。
简体摘要：【物品用途】本创作系有关于一种用于基板搬送托盘之“基板搬送托盘之夹持器”之新式样设计。【创作特点】如图所示，由左、右侧视图观之，本创作物品概呈倒L字形状，由三維图观之，夹持器顶部面两侧呈有倾斜部，由前视图观之，夹持器下面两侧呈内削状，略靠中间处有概呈圆形之纹路。本创作物品系可使用于制造液晶皮肤时对所用玻璃基板进行成膜之基板处理设备中。如“使用状态参考图”所示，本创作物品可于藉基板处理设备使玻璃基板成膜时，透过夹持器支架而被安装于基板周缘之多数处，而将基板托盘固定于预定位置。于此状态下，可使本创作物品于铺设在进行相异处理之多数成膜室(未图标)间的轨道上移动，而于玻璃基板进行成膜。整体而言，本创作线条流畅简洁俐落、且式样新颖具独创性，实为一特殊且实用之新式样设计。上述说明仅供辅助了解本创作而非用以限制其内容；理应明了，新式样专利范围系以图面所示者为准。

6. 外观设计

TWD134183S 支承板（一） BACKING PLATE 有权
公开(公告)号：TWD134183S
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：TW098301795
申请日：2009-04-21
申请人：愛發科股份有限公司
设计人：中島鐵兵
摘要：【物品用途】本創作係有關於一種用於基板處理裝置之「支承板(一)」之新式樣設計。【創作特點】本物品係一種可使用在基板處理裝置之支承板，該基板處理裝置係可對使用於製造液晶面板之玻璃基板進行成膜者。如「顯示支撐目標之狀態的前面側立體參考圖」所示，使用本物品來使玻璃基板成膜時，係將目標固定於本物品的前面再安裝於基板處理裝置。在該狀態下，從在「後視圖」及「C-C、D部分放大圖」的下端部以大致呈縱向長橢圓形表示之左右一對出水口的其中一者，將冷卻液注入「E-E剖面放大圖」、「G-G剖面放大圖」、「以虛線表示流路之C-C、D部分放大參考圖」等顯示之內部流路，並從另一出水口排出，藉此將上述目標連續地冷卻。
本創作之支承板概呈長條形，由前視圖及「A-A,B部份放大圖」觀之，支承板之下方形成有概呈長橢圓狀及概呈圓形狀紋路。
整體而言，本創作線條流暢簡潔俐落、且式樣新穎具獨創性，實為一特殊且實用之新式樣設計。
上述說明僅供輔助瞭解本創作而非用以限制其內容；理應明瞭，新式樣係就其整體形狀指定之。
简体摘要：【物品用途】本创作系有关于一种用于基板处理设备之“支承板(一)”之新式样设计。【创作特点】本物品系一种可使用在基板处理设备之支承板，该基板处理设备系可对使用于制造液晶皮肤之玻璃基板进行成膜者。如“显示支撑目标之状态的前面侧三維参考图”所示，使用本物品来使玻璃基板成膜时，系将目标固定于本物品的前面再安装于基板处理设备。在该状态下，从在“后视图”及“C-C、D部分放大图”的下端部以大致呈纵向长椭圆形表示之左右一对出水口的其中一者，将冷却液注入“E-E剖面放大图”、“G-G剖面放大图”、“以虚线表示流路之C-C、D部分放大参考图”等显示之内部流路，并从另一出水口排出，借此将上述目标连续地冷却。本创作之支承板概呈长条形，由前视图及“A-A,B部份放大图”观之，支承板之下方形成有概呈长椭圆状及概呈圆形状纹路。整体而言，本创作线条流畅简洁俐落、且式样新颖具独创性，实为一特殊且实用之新式样设计。上述说明仅供辅助了解本创作而非用以限制其内容；理应明了，新式样系就其整体形状指定之。

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