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1. 发明专利

TW201635426A 用於垂直電流金屬沈積之基板固持器审中-公开
简体标题：用于垂直电流金属沉积之基板固持器
公开(公告)号：TW201635426A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW104142807
申请日：2015-12-18
申请人：德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：芬荳阿諾夫 , FENDEL, ARNULF , 勞恩布許瑞夫 , RAUENBUSCH, RALPH , 布森尼爾斯托比亞斯 , BUSSENIUS, TOBIAS
IPC分类号： H01L21/687
CPC分类号： C25D17/06 , C25D17/001 , C25D17/004 , C25D17/005 , H01L21/2885 , H01L21/67126 , H01L21/68721 , H01L21/68757 , H01L21/68764
摘要：本發明揭示一種用於在待處理之一基板上之垂直電流金屬沈積之基板固持器，該金屬較佳地為銅，該基板固持器包括一第一基板固持器部分及一第二基板固持器部分，其中兩個基板固持器部分包括一內部含金屬部分及一外部非金屬部分，該基板固持器之特徵在於其進一步包括i)在各基板固持器部分中之至少一個懸掛元件，其用於將該基板固持器機械連接至一處理容器，ii)在各基板固持器部分中之至少一個第一密封元件，其經配置於待處理之該基板與該各自基板固持器部分之間，iii)該整個基板固持器之至少一個第二密封元件，其經配置於該基板固持器之該內部含金屬部分與該基板固持器之該外部非金屬部分之間，iv)至少一個緊固系統，其用於將兩個基板固持器部分彼此可拆卸地緊固以用於固持待處理之該基板，v)在各基板固持器部分中之至少一個第一接觸元件，其用於將電流自一外部源轉送通過該懸掛元件至至少第二接觸元件，及 vi)在各基板固持器部分中之至少一個第二接觸元件，其用於將電流自該至少第一接觸元件轉送至待處理之該基板。
简体摘要：本发明揭示一种用于在待处理之一基板上之垂直电流金属沉积之基板固持器，该金属较佳地为铜，该基板固持器包括一第一基板固持器部分及一第二基板固持器部分，其中两个基板固持器部分包括一内部含金属部分及一外部非金属部分，该基板固持器之特征在于其进一步包括i)在各基板固持器部分中之至少一个悬挂组件，其用于将该基板固持器机械连接至一处理容器，ii)在各基板固持器部分中之至少一个第一密封组件，其经配置于待处理之该基板与该各自基板固持器部分之间，iii)该整个基板固持器之至少一个第二密封组件，其经配置于该基板固持器之该内部含金属部分与该基板固持器之该外部非金属部分之间，iv)至少一个紧固系统，其用于将两个基板固持器部分彼此可拆卸地紧固以用于固持待处理之该基板，v)在各基板固持器部分中之至少一个第一接触组件，其用于将电流自一外部源转送通过该悬挂组件至至少第二接触组件，及 vi)在各基板固持器部分中之至少一个第二接触组件，其用于将电流自该至少第一接触组件转送至待处理之该基板。

2. 发明专利

TWI583828B 用於一產品之固持裝置及處理方法有权
简体标题：用于一产品之固持设备及处理方法
公开(公告)号：TWI583828B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW102134867
申请日：2013-09-26
申请人：德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：榮恩伯斯奇羅夫 , RAUENBUSCH, RALPH , 湯瑪士克里斯丁 , THOMAS, CHRISTIAN , 維恩豪瑞 , WEINHOLD, RAY , 奇霖漢斯 , KLINGL, HEINZ
IPC分类号： C25D17/06
CPC分类号： C25D17/06 , C25D7/12 , C25D17/001 , C25D17/004 , H05K3/007 , Y10T29/49117

3. 发明专利

TW201712166A 基板支架接收裝置审中-公开
简体标题：基板支架接收设备
公开(公告)号：TW201712166A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105125025
申请日：2016-08-05
申请人：德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：勞恩布許瑞夫 , RAUENBUSCH, RALPH , 布森尼爾斯托比亞斯 , BUSSENIUS, TOBIAS , 威森史蒂芬 , VITZTHUM, STEFAN
IPC分类号： C25D17/06
CPC分类号： C25D17/06 , C25D17/001 , C25D17/005 , C25D21/00
摘要：本發明係關於一種用於在一基板支架夾箝方向(SHCD)上將一基板支架(11)夾箝在該基板支架(11)之一預定位置中且釋放該基板支架(11)之基板支架接收裝置(1)，其包括用於該基板支架(11)之機械對準及電接觸之至少一個基板支架連接器件(21)，其中該基板支架連接器件(21)包括用於使該基板支架(11)與該基板支架連接器件(21)在一對準方向上對準之一分離基板支架對準器件(211)及用於電接觸該基板支架(11)之一分離基板支架接觸器件(212)。此外，本發明係關於一種電化學處理裝置(5)，其包括該基板支架接收裝置(1)。
简体摘要：本发明系关于一种用于在一基板支架夹箝方向(SHCD)上将一基板支架(11)夹箝在该基板支架(11)之一预定位置中且释放该基板支架(11)之基板支架接收设备(1)，其包括用于该基板支架(11)之机械对准及电接触之至少一个基板支架连接器件(21)，其中该基板支架连接器件(21)包括用于使该基板支架(11)与该基板支架连接器件(21)在一对准方向上对准之一分离基板支架对准器件(211)及用于电接触该基板支架(11)之一分离基板支架接触器件(212)。此外，本发明系关于一种电化学处理设备(5)，其包括该基板支架接收设备(1)。

4. 发明专利

TW201439381A 用於垂直流電金屬、較佳係銅沈積於一基板上之裝置及適用於接收該裝置之一容器审中-公开
简体标题：用于垂直流电金属、较佳系铜沉积于一基板上之设备及适用于接收该设备之一容器
公开(公告)号：TW201439381A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW102147660
申请日：2013-12-20
申请人：德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：榮恩伯斯奇羅夫 , RAUENBUSCH, RALPH , 湯瑪士克里斯丁 , THOMAS, CHRISTIAN , 維恩豪瑞 , WEINHOLD, RAY , 奇霖漢斯 , KLINGL, HEINZ
IPC分类号： C25D17/12 , C25D17/04 , H01L21/768
CPC分类号： C25D17/001 , C25D5/08 , C25D7/123 , C25D17/004 , C25D17/06 , C25D17/12
摘要：本發明係關於一種用於垂直流電金屬、較佳係銅沈積於一基板上之裝置，一種適用於接收此一裝置及適用於接收一待處理之基板之一基板固持器之容器以及一種此一裝置在此一容器之內部用於流電金屬、特定而言銅沈積於一基板上之用途。
简体摘要：本发明系关于一种用于垂直流电金属、较佳系铜沉积于一基板上之设备，一种适用于接收此一设备及适用于接收一待处理之基板之一基板固持器之容器以及一种此一设备在此一容器之内部用于流电金属、特定而言铜沉积于一基板上之用途。

5. 发明专利

TWI679726B 用於垂直電流金屬沈積之基板固持器有权
简体标题：用于垂直电流金属沉积之基板固持器
公开(公告)号：TWI679726B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW104142807
申请日：2015-12-18
申请人：德商德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：芬荳阿諾夫 , FENDEL, ARNULF , 勞恩布許瑞夫 , RAUENBUSCH, RALPH , 布森尼爾斯托比亞斯 , BUSSENIUS, TOBIAS
IPC分类号： H01L21/687

6. 发明专利

TWI653365B 類晶圓基材加工方法及裝置有权
简体标题：类晶圆基材加工方法及设备
公开(公告)号：TWI653365B
公开(公告)日：2019-03-11
申请号：TW106133995
申请日：2017-10-02
申请人：德商德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：勞恩布許瑞夫 , RAUENBUSCH, RALPH , 布森尼爾斯托比亞斯 , BUSSENIUS, TOBIAS , 布希柏格丹尼爾 , BUCHBERGER, DANIEL , 瑋恩霍德瑞 , WEINHOLD, RAY
IPC分类号： C25D17/00 , C25D17/06

7. 发明专利

TW201819693A 類晶圓基材加工方法及裝置审中-公开
简体标题：类晶圆基材加工方法及设备
公开(公告)号：TW201819693A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106133995
申请日：2017-10-02
申请人：德商德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：勞恩布許瑞夫 , RAUENBUSCH, RALPH , 布森尼爾斯托比亞斯 , BUSSENIUS, TOBIAS , 布希柏格丹尼爾 , BUCHBERGER, DANIEL , 瑋恩霍德瑞 , WEINHOLD, RAY
IPC分类号： C25D17/00 , C25D17/06
摘要：本發明係關於使用接觸式夾持器及非接觸式夾持器來加工類晶圓基材之方法。此外，本發明係關於用於加工類晶圓基材之含有接觸式夾持器及非接觸式夾持器的裝置。另外，本發明係關於使用發明裝置加工類晶圓基材。
简体摘要：本发明系关于使用接触式夹持器及非接触式夹持器来加工类晶圆基材之方法。此外，本发明系关于用于加工类晶圆基材之含有接触式夹持器及非接触式夹持器的设备。另外，本发明系关于使用发明设备加工类晶圆基材。

8. 发明专利

TWI602955B 用於垂直流電金屬、較佳係銅沈積於一基板上之裝置及適用於接收該裝置之一容器有权
简体标题：用于垂直流电金属、较佳系铜沉积于一基板上之设备及适用于接收该设备之一容器
公开(公告)号：TWI602955B
公开(公告)日：2017-10-21
申请号：TW102147660
申请日：2013-12-20
申请人：德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：榮恩伯斯奇羅夫 , RAUENBUSCH, RALPH , 湯瑪士克里斯丁 , THOMAS, CHRISTIAN , 維恩豪瑞 , WEINHOLD, RAY , 奇霖漢斯 , KLINGL, HEINZ
IPC分类号： C25D17/12 , C25D17/04 , H01L21/768
CPC分类号： C25D17/001 , C25D5/08 , C25D7/123 , C25D17/004 , C25D17/06 , C25D17/12

9. 发明专利

TW201420816A 用於一產品之固持裝置及處理方法审中-公开
简体标题：用于一产品之固持设备及处理方法
公开(公告)号：TW201420816A
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW102134867
申请日：2013-09-26
申请人：德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：榮恩伯斯奇羅夫 , RAUENBUSCH, RALPH , 湯瑪士克里斯丁 , THOMAS, CHRISTIAN , 維恩豪瑞 , WEINHOLD, RAY , 奇霖漢斯 , KLINGL, HEINZ
IPC分类号： C25D17/06
CPC分类号： C25D17/06 , C25D7/12 , C25D17/001 , C25D17/004 , H05K3/007 , Y10T29/49117
摘要：本發明揭示一種用於一產品(5)之一處理之固持裝置，該固持裝置包括一第一固持部件(41)及一第二固持部件(42)。該第一固持部件(41)包括用於與該產品(5)之一第一側(6)建立一接觸之至少一第一電接觸元件(13)。該第二固持部件(42)包括用於與該產品(5)之一第二側(7)建立一接觸之至少一第二電接觸元件(14)，該第二側置於該第一側(6)對面。為了固持該產品(5)之目的，該第一固持部件(41)及該第二固持部件(42)經配置使得其等依一可拆卸的方式彼此固定。一產品密封件(15、16)及一外殼密封件(17)提供一密封配置，以防止在一處理狀態中流體穿透至該至少一第一電接觸元件(13)及該至少一第二電接觸元件(14)中。
简体摘要：本发明揭示一种用于一产品(5)之一处理之固持设备，该固持设备包括一第一固持部件(41)及一第二固持部件(42)。该第一固持部件(41)包括用于与该产品(5)之一第一侧(6)创建一接触之至少一第一电接触组件(13)。该第二固持部件(42)包括用于与该产品(5)之一第二侧(7)创建一接触之至少一第二电接触组件(14)，该第二侧置于该第一侧(6)对面。为了固持该产品(5)之目的，该第一固持部件(41)及该第二固持部件(42)经配置使得其等依一可拆卸的方式彼此固定。一产品密封件(15、16)及一外壳密封件(17)提供一密封配置，以防止在一处理状态中流体穿透至该至少一第一电接触组件(13)及该至少一第二电接触组件(14)中。

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