专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI641937B 壓力控制裝置及壓力控制系統有权
简体标题：压力控制设备及压力控制系统
公开(公告)号：TWI641937B
公开(公告)日：2018-11-21
申请号：TW106110866
申请日：2017-03-30
申请人：日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：野澤崇浩 , NOZAWA, TAKAHIRO , 金井良友 , KANAI, YOSHITOMO , 中村剛 , NAKAMURA, TAKESHI
IPC分类号： G05D16/02

2. 发明专利

TWI575347B 壓力控制裝置有权
简体标题：压力控制设备
公开(公告)号：TWI575347B
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：TW105100392
申请日：2016-01-07
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：野澤崇浩 , NOZAWA, TAKAHIRO , 中村剛 , NAKAMURA, TAKESHI
IPC分类号： G05D16/02
CPC分类号： G05D16/20 , G05B11/011 , G05B11/36 , G05D16/2013

3. 发明专利

TW201319305A 具備原料濃度檢測機構之原料氣化供給裝置审中-公开
简体标题：具备原料浓度检测机构之原料气化供给设备
公开(公告)号：TW201319305A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：TW101127436
申请日：2012-07-30
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 中村剛 , NAKAMURA, TAKESHI
IPC分类号： C23C16/52 , C23C16/448
CPC分类号： F17D3/00 , C23C16/4482 , C23C16/45561 , G05D11/135 , Y10T137/8158
摘要： [課題]構成為：能夠對於載體氣體和原料氣體之混合氣體內的原料濃度作正確的調整，並能夠在高精確度之流量控制下而對於製程腔作安定的供給，並且，不需使用高價之濃度計等，便能夠將混合氣體內之原料氣體蒸氣濃度簡單地以高精確度而檢測出來並作即時顯示。[解決手段]在通過質量流控制器(3)而將載體氣體(GK)供給至原料槽(5)內，並從原料槽(5)內而放出載體氣體(GK)，並且將藉由以恆溫部來將原料槽(5)保持在一定溫度所產生的原料(4)之飽和蒸氣(G)以及前述載體氣體(GK)之混合氣體(GS)供給至製程腔處的原料氣化供給裝置中，構成為：在從前述原料槽(5)而來之混合氣體(GS)的流出通路處，設置自動壓力調整裝置(8)，並且在其之下游側處設置質量流計(9)，並藉由對於前述自動壓力調整機構(8)之控制閥(8a)作開閉控制，來將原料槽(5)之內部壓力(PO)控制為特定值，再將由前述質量流控制器(3)所致之載體氣體(GK)的流量(Q1)和前述槽內壓(PO)以及前述質量流計(9)之混合氣體(GS)的流量(QS)之各檢測值，輸入至原料濃度演算部(10)中，在該原料濃度演算部(10)中，將原料流量(Q2)藉由Q2=QS×PMO/PO而進行演算，再使用該原料流量(Q2)，而將供給至前述製程腔之混合氣體(GS)的原料氣體蒸氣濃度(K)，作為K=Q2/QS而演算出來並作顯示，其中，前述(PMO)，係為原料槽內之在溫度t℃時的原料氣體(G)之飽和蒸氣壓。
简体摘要： [课题]构成为：能够对于载体气体和原料气体之混合气体内的原料浓度作正确的调整，并能够在高精确度之流量控制下而对于制程腔作安定的供给，并且，不需使用高价之浓度计等，便能够将混合气体内之原料气体蒸气浓度简单地以高精确度而检测出来并作实时显示。[解决手段]在通过质量流控制器(3)而将载体气体(GK)供给至原料槽(5)内，并从原料槽(5)内而放出载体气体(GK)，并且将借由以恒温部来将原料槽(5)保持在一定温度所产生的原料(4)之饱和蒸气(G)以及前述载体气体(GK)之混合气体(GS)供给至制程腔处的原料气化供给设备中，构成为：在从前述原料槽(5)而来之混合气体(GS)的流出通路处，设置自动压力调整设备(8)，并且在其之下游侧处设置质量流计(9)，并借由对于前述自动压力调整机构(8)之控制阀(8a)作开闭控制，来将原料槽(5)之内部压力(PO)控制为特定值，再将由前述质量流控制器(3)所致之载体气体(GK)的流量(Q1)和前述槽内压(PO)以及前述质量流计(9)之混合气体(GS)的流量(QS)之各检测值，输入至原料浓度演算部(10)中，在该原料浓度演算部(10)中，将原料流量(Q2)借由Q2=QS×PMO/PO而进行演算，再使用该原料流量(Q2)，而将供给至前述制程腔之混合气体(GS)的原料气体蒸气浓度(K)，作为K=Q2/QS而演算出来并作显示，其中，前述(PMO)，系为原料槽内之在温度t℃时的原料气体(G)之饱和蒸气压。

4. 发明专利

TW201741793A 壓力控制裝置及壓力控制系統审中-公开
简体标题：压力控制设备及压力控制系统
公开(公告)号：TW201741793A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106110866
申请日：2017-03-30
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：野澤崇浩 , NOZAWA, TAKAHIRO , 金井良友 , KANAI, YOSHITOMO , 中村剛 , NAKAMURA, TAKESHI
IPC分类号： G05D16/02
CPC分类号： G05D7/06 , G05D16/20
摘要：提供一種壓力控制裝置及壓力控制系統，即便是在相對於氣體的控制流量，腔室的容積為大的情況下，或是在流量控制閥與腔室之間的配管較長的情況下，仍能夠將腔室內的壓力提早保持於一定。壓力控制裝置(1)，係具備：CPU(18)，其是在為了使腔室(3)內部成為負壓而往腔室(3)內部供給氣體的情況下，從設定壓力信號中以既定的比率減去流量信號；比較電路(21)，其是比較檢測壓力信號和所減去後的設定壓力信號，該檢測壓力信號係表示藉由壓力感測器(4)所檢測出的腔室(3)內部的壓力；以及閥驅動電路(22)，其是基於藉由比較電路(21)所得的比較結果來控制流量控制閥(14)。
简体摘要：提供一种压力控制设备及压力控制系统，即便是在相对于气体的控制流量，腔室的容积为大的情况下，或是在流量控制阀与腔室之间的配管较长的情况下，仍能够将腔室内的压力提早保持于一定。压力控制设备(1)，系具备：CPU(18)，其是在为了使腔室(3)内部成为负压而往腔室(3)内部供给气体的情况下，从设置压力信号中以既定的比率减去流量信号；比较电路(21)，其是比较检测压力信号和所减去后的设置压力信号，该检测压力信号系表示借由压力传感器(4)所检测出的腔室(3)内部的压力；以及阀驱动电路(22)，其是基于借由比较电路(21)所得的比较结果来控制流量控制阀(14)。

5. 发明专利

TW201721323A 分流系統审中-公开
简体标题：分流系统
公开(公告)号：TW201721323A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW105126423
申请日：2016-08-18
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：中村剛 , NAKAMURA, TAKESHI , 金井良友 , KANAI, YOSHITOMO
IPC分类号： G05D11/13 , G05D7/06 , G01F1/00 , H01L21/67
CPC分类号： F16K27/00 , G05D7/06 , G05D11/03
摘要：本發明的目的是提供一種：可提高配置的自由度，適合積體化，且能降低製造成本及維修保養成本的分流系統。本發明，是將單一的流量分割成複數個流量，並控制各流量而使經分割的流量之間的比成為設定流量比的分割系統，其中具有：將單一的流量分割成複數個流量的分歧機構(500)；及形成獨立於分歧機構(500)之外的個體，分別控制複數個流量，且彼此分離獨立的複數個流體控制裝置(1M、1S)，主要裝置(1M)具有：將基於設定流量比的設定流量值朝從屬裝置(1S)發送，並接收從屬裝置(1S)之流量偵測值(DQ2)的通訊部(102M)，從屬裝置(1S)具有：從主要裝置(1M)接收設定流量值，並將流量偵測值(DQ2)朝主要裝置(1M)發送的通訊部(102S)。
简体摘要：本发明的目的是提供一种：可提高配置的自由度，适合积体化，且能降低制造成本及维修保养成本的分流系统。本发明，是将单一的流量分割成复数个流量，并控制各流量而使经分割的流量之间的比成为设置流量比的分割系统，其中具有：将单一的流量分割成复数个流量的分歧机构(500)；及形成独立于分歧机构(500)之外的个体，分别控制复数个流量，且彼此分离独立的复数个流体控制设备(1M、1S)，主要设备(1M)具有：将基于设置流量比的设置流量值朝从属设备(1S)发送，并接收从属设备(1S)之流量侦测值(DQ2)的通信部(102M)，从属设备(1S)具有：从主要设备(1M)接收设置流量值，并将流量侦测值(DQ2)朝主要设备(1M)发送的通信部(102S)。

6. 发明专利

TWI683195B 分流系統、使用該分流系統的流體控制系統、及流體控制系統的製造方法有权
简体标题：分流系统、使用该分流系统的流体控制系统、及流体控制系统的制造方法
公开(公告)号：TWI683195B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：TW105126423
申请日：2016-08-18
申请人：日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：中村剛 , NAKAMURA, TAKESHI , 金井良友 , KANAI, YOSHITOMO
IPC分类号： G05D11/13 , G05D7/06 , G01F1/00 , H01L21/67

7. 发明专利

TW201642064A 壓力控制裝置审中-公开
简体标题：压力控制设备
公开(公告)号：TW201642064A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105100392
申请日：2016-01-07
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：野澤崇浩 , NOZAWA, TAKAHIRO , 中村剛 , NAKAMURA, TAKESHI
IPC分类号： G05D16/02
CPC分类号： G05D16/20 , G05B11/011 , G05B11/36 , G05D16/2013
摘要： [課題]可以提供一種壓力控制裝置，係即便是在相對於氣體的控制流量，腔室的容積為大的情況，或者是流量控制閥與腔室之間的配管為長的情況下，也可以把腔室內的壓力保持在一定。[解決手段]一種壓力控制裝置1，係把腔室3內的壓力保持在設定壓力，具備：頻率特性補正電路20，係把表示經由壓力感測器4所檢測出的腔室3內的壓力之壓力訊號，補正成靠近表示設定壓力之設定壓力訊號；比較電路21，係比較補正過的前述壓力訊號、與前述設定壓力訊號；以及，閥驅動電路22，係根據由比較手段21所致之比較結果，控制流量控制閥14的開關。頻率特性補正電路20乃是濾波電路，其頻率特性，係在指定的頻率具有波峰，把壓力訊號補正成拉抬壓力訊號的指定的頻率的成分。
简体摘要： [课题]可以提供一种压力控制设备，系即便是在相对于气体的控制流量，腔室的容积为大的情况，或者是流量控制阀与腔室之间的配管为长的情况下，也可以把腔室内的压力保持在一定。[解决手段]一种压力控制设备1，系把腔室3内的压力保持在设置压力，具备：频率特性补正电路20，系把表示经由压力传感器4所检测出的腔室3内的压力之压力信号，补正成靠近表示设置压力之设置压力信号；比较电路21，系比较补正过的前述压力信号、与前述设置压力信号；以及，阀驱动电路22，系根据由比较手段21所致之比较结果，控制流量控制阀14的开关。频率特性补正电路20乃是滤波电路，其频率特性，系在指定的频率具有波峰，把压力信号补正成拉抬压力信号的指定的频率的成分。

8. 发明专利

TWI482876B 具備原料濃度檢測機構之原料氣化供給裝置有权
简体标题：具备原料浓度检测机构之原料气化供给设备
公开(公告)号：TWI482876B
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW101127436
申请日：2012-07-30
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 中村剛 , NAKAMURA, TAKESHI
IPC分类号： C23C16/52 , C23C16/448
CPC分类号： F17D3/00 , C23C16/4482 , C23C16/45561 , G05D11/135 , Y10T137/8158

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式