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1. 发明专利

TW201311075A 基板搬送用載具的製造方法及基板搬送用載具审中-公开
简体标题：基板搬送用载具的制造方法及基板搬送用载具
公开(公告)号：TW201311075A
公开(公告)日：2013-03-01
申请号：TW101130303
申请日：2012-08-21
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：永崎秀雄 , NAGASAKI, HIDEO
IPC分类号： H05K13/04 , B32B7/06 , B32B7/10
CPC分类号： H05K13/0069 , C08J5/124 , C08J2379/08 , C08J2483/06 , C09J7/38 , C09J2201/28
摘要：提供一種可簡便地製造基板搬送用載具的方法，基板搬送用載具即使是對厚度因部位而不同的基板亦可不產生剝落地搬送，且防止搬送後的基板翹曲而確保品質。一種基板搬送用載具的製造方法，其為於基板的搬送中使用的基板搬送用載具的製造方法，包括：步驟（a），準備黏著板，黏著板包含支撐體與相對於支撐體上所配置的基板而可剝離地密接的黏著層（A）；步驟（b），準備黏著膜，黏著膜包含耐熱性膜與相對於耐熱性膜上所配置的基板而可剝離地密接的黏著層（B），且形成有貫通耐熱性膜與黏著層（B）的孔部；步驟（c），使黏著板所具有的黏著層（A）與黏著膜所具有的耐熱性膜接著，獲得於黏著板上配置有黏著膜的基板搬送用載具；黏著層（B）的剝離力（f1）與黏著層（A）的剝離力（f2）之比（f1/f2）為0.25~3.5。
简体摘要：提供一种可简便地制造基板搬送用载具的方法，基板搬送用载具即使是对厚度因部位而不同的基板亦可不产生剥落地搬送，且防止搬送后的基板翘曲而确保品质。一种基板搬送用载具的制造方法，其为于基板的搬送中使用的基板搬送用载具的制造方法，包括：步骤（a），准备黏着板，黏着板包含支撑体与相对于支撑体上所配置的基板而可剥离地密接的黏着层（A）；步骤（b），准备黏着膜，黏着膜包含耐热性膜与相对于耐热性膜上所配置的基板而可剥离地密接的黏着层（B），且形成有贯通耐热性膜与黏着层（B）的孔部；步骤（c），使黏着板所具有的黏着层（A）与黏着膜所具有的耐热性膜接着，获得于黏着板上配置有黏着膜的基板搬送用载具；黏着层（B）的剥离力（f1）与黏着层（A）的剥离力（f2）之比（f1/f2）为0.25~3.5。

2. 发明专利

TW201538319A 帶抗菌層的基材，抗菌片，放射線照相裝置，觸摸板审中-公开
简体标题：带抗菌层的基材，抗菌片，放射线照相设备，触摸板
公开(公告)号：TW201538319A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW104109900
申请日：2015-03-27
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：柴田路宏 , SHIBATA, MICHIHIRO , 永崎秀雄 , NAGASAKI, HIDEO , 成行書史 , NARIYUKI, FUMITO , 白土節子 , SHIRATSUCHI, SETSUKO , 大谷薰明 , OHTANI, SHIGEAKI
IPC分类号： B32B27/18 , A61B6/00
CPC分类号： A01N25/34 , A01N59/16 , B32B27/18 , B32B2250/02 , B32B2264/104 , B32B2264/105 , B32B2307/7145 , B32B2307/728 , B32B2457/00 , G06F3/041 , G06F2203/04103 , A01N59/26 , A01N2300/00
摘要：本發明提供具備能夠在短時間內顯示抗菌作用並且能夠長時間維持抗菌性的抗菌層的帶抗菌層的基材、抗菌片、放射線攝影裝置、觸控面板。本發明的帶抗菌層的基材具有基材和配置於基材表面的至少一部分的抗菌層，抗菌層具有包含銀的第1抗菌劑和與第1抗菌劑不同的、包含銀的第2抗菌劑，在將每單位面積的抗菌層中所包含的銀含量設為P、且將利用提取試驗測定的每單位面積的銀離子量設為Q時，滿足以下的式（1）及式（2）的關係。式（1）　　　6.0≤P/Q 式（2）　　　15.0≤Q
简体摘要：本发明提供具备能够在短时间内显示抗菌作用并且能够长时间维持抗菌性的抗菌层的带抗菌层的基材、抗菌片、放射线摄影设备、触摸皮肤。本发明的带抗菌层的基材具有基材和配置于基材表面的至少一部分的抗菌层，抗菌层具有包含银的第1抗菌剂和与第1抗菌剂不同的、包含银的第2抗菌剂，在将每单位面积的抗菌层中所包含的银含量设为P、且将利用提取试验测定的每单位面积的银离子量设为Q时，满足以下的式（1）及式（2）的关系。式（1）　　　6.0≤P/Q 式（2）　　　15.0≤Q

3. 发明专利

TW201536549A 帶抗菌層的基材、抗菌片、放射線攝影裝置、觸控面板审中-公开
简体标题：带抗菌层的基材、抗菌片、放射线摄影设备、触摸皮肤
公开(公告)号：TW201536549A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW104109899
申请日：2015-03-27
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：永崎秀雄 , NAGASAKI, HIDEO , 柴田路宏 , SHIBATA, MICHIHIRO , 成行書史 , NARIYUKI, FUMITO , 白土節子 , SHIRATSUCHI, SETSUKO
IPC分类号： B32B27/30 , B32B27/18 , B32B33/00 , A61B6/00 , G06F1/16 , G06F3/041 , A61L2/238 , A61L2/232
CPC分类号： A01N59/16 , A01N25/10 , B32B27/06 , B32B27/18 , B32B2307/7145 , B32B2307/728 , B32B2457/208 , G06F3/041 , G06F2203/04103 , A01N25/34
摘要：本發明提供具備耐光性優異且在短時間內顯示抗菌作用的抗菌層的帶抗菌層的基材、抗菌片、放射線攝影裝置及觸控面板。本發明的帶抗菌層的基材具有基材和配置於基材表面的至少一部分的抗菌層，抗菌層具有至少1種包含銀的抗菌劑、且利用提取試驗測定的每單位面積的銀離子量為15～50ng/cm2 。
简体摘要：本发明提供具备耐光性优异且在短时间内显示抗菌作用的抗菌层的带抗菌层的基材、抗菌片、放射线摄影设备及触摸皮肤。本发明的带抗菌层的基材具有基材和配置于基材表面的至少一部分的抗菌层，抗菌层具有至少1种包含银的抗菌剂、且利用提取试验测定的每单位面积的银离子量为15～50ng/cm2 。

4. 发明专利

TW201132795A 鍍敷前處理方法及表面金屬膜材料之製作方法 METHOD OF PLATE PRETREATMENT AND PRODUCTION METHOD OF SURFACE-METAL-FILM MATERIAL 审中-公开
简体标题：镀敷前处理方法及表面金属膜材料之制作方法 METHOD OF PLATE PRETREATMENT AND PRODUCTION METHOD OF SURFACE-METAL-FILM MATERIAL
公开(公告)号：TW201132795A
公开(公告)日：2011-10-01
申请号：TW099145688
申请日：2010-12-24
申请人：富士軟片股份有限公司
发明人：永崎秀雄
IPC分类号： C23C , C25D , B32B , H05K
摘要：本發明係關於一種鍍敷前處理方法，其係依序實施下列步驟：步驟(A)：在基板上形成含有包含以下式(1)所代表之單位與以下式(2)所代表之單位的共聚物之樹脂層；步驟(B)：賦予鍍敷觸媒或其先質；及在該步驟(B)之前或之後實施步驟(C)：將包含由醚系溶劑、醇系溶劑、酯系溶劑及酮系溶劑所構成之族群中所選出的至少一種有機溶劑的前處理液賦予該樹脂層中。下式(1)與式(2)中，R 1 至R 5 係表示氫原子、烷基，X、Y與Z係表示單鍵、二價有機基、酯基、醯胺基、或醚基，L 1 係表示二價有機基、L 2 係表示單鍵或二價有機基。
简体摘要：本发明系关于一种镀敷前处理方法，其系依序实施下列步骤：步骤(A)：在基板上形成含有包含以下式(1)所代表之单位与以下式(2)所代表之单位的共聚物之树脂层；步骤(B)：赋予镀敷触媒或其先质；及在该步骤(B)之前或之后实施步骤(C)：将包含由醚系溶剂、醇系溶剂、酯系溶剂及酮系溶剂所构成之族群中所选出的至少一种有机溶剂的前处理液赋予该树脂层中。下式(1)与式(2)中，R 1 至R 5 系表示氢原子、烷基，X、Y与Z系表示单键、二价有机基、酯基、酰胺基、或醚基，L 1 系表示二价有机基、L 2 系表示单键或二价有机基。

5. 发明专利

TW201026908A 電鍍用觸媒液、電鍍方法、具有金屬膜之層疊體的製造方法 CATALYST SOLUTION FOR PLATING, METHOD FOR PLATING AND METHOD FOR MANUFACTURING LAMINATE HAVING METAL FILM 审中-公开
简体标题：电镀用触媒液、电镀方法、具有金属膜之层叠体的制造方法 CATALYST SOLUTION FOR PLATING, METHOD FOR PLATING AND METHOD FOR MANUFACTURING LAMINATE HAVING METAL FILM
公开(公告)号：TW201026908A
公开(公告)日：2010-07-16
申请号：TW098142740
申请日：2009-12-14
申请人：富士軟片股份有限公司
发明人：佐藤真隆 , 永崎秀雄
IPC分类号： C25D , C23C , G03F
CPC分类号： C23C18/30 , C23C18/1608 , C23C18/1653 , C23C18/28 , C23C18/405 , C25D7/00 , H05K3/181 , H05K3/185
摘要：本發明的目的在於提供一種環境負荷小、不會使被鍍覆物的表面變粗糙、容易控制鍍覆觸媒的附著量、且著火的危險性少而安全性優異的鍍覆用觸媒液，以及使用該鍍覆用觸媒的鍍覆方法。本發明的鍍覆用觸媒液包含鈀化合物、水以及作為可燃性液體成分的水溶性可燃性液體，並且觸媒液的著火點為大於等於40℃，觸媒液中的上述水溶性可燃性液體的含量為0.1wt％～40wt％。
简体摘要：本发明的目的在于提供一种环境负荷小、不会使被镀覆物的表面变粗糙、容易控制镀覆触媒的附着量、且着火的危险性少而安全性优异的镀覆用触媒液，以及使用该镀覆用触媒的镀覆方法。本发明的镀覆用触媒液包含钯化合物、水以及作为可燃性液体成分的水溶性可燃性液体，并且触媒液的着火点为大于等于40℃，触媒液中的上述水溶性可燃性液体的含量为0.1wt％～40wt％。

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