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1. 发明专利

TW200707100A 永久圖案形成方法 PROCESS FOR FORMING PERMANENT PATTERN 审中-公开
简体标题：永久图案形成方法 PROCESS FOR FORMING PERMANENT PATTERN
公开(公告)号：TW200707100A
公开(公告)日：2007-02-16
申请号：TW095122940
申请日：2006-06-26
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：高島正伸 TAKASHIMA, MASANOBU , 角克人 SUMI, KATSUTO , 古和田一輝 KOWADA, KAZUTERU , 鈴木一誠 SUZUKI, ISSEI , 植村隆之 UEMURA, TAKAYUKI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/70425 , H05K3/0082
摘要：本發明之目的在於提供一種藉由將由於圖案之畸變所引起的曝光量之變異的影響予以均勻化、並抑制於感光層上所成像的像之畸變,而可以高精細地且更有效率地形成前述永久圖案之永久圖案形成方法。從而,提供一種永久圖案形成方法,其係包括:在使用感光性組成物於基材之表面上形成感光層後,對於該感光層,藉由使用具備光照射機構及光調變機構之曝光頭、且為依照使前述圖素部的列方向,相對於掃描方向形成預的設定傾斜角度��配置的曝光頭,並對於前述曝光頭,藉由使用圖素部指定機構來指定使用於N(惟,N為2以上之自然數)次曝光的前述圖素部,且使只有藉著圖素部控制機構所指定的前述圖素部參與曝光的方式,來進行控制前述圖素部,並對於前述之感光層,使前述曝光頭相對於掃描方向移動而進行曝光、顯像之永久圖案形成方法。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种借由将由于图案之畸变所引起的曝光量之变异的影响予以均匀化、并抑制于感光层上所成像的像之畸变,而可以高精细地且更有效率地形成前述永久图案之永久图案形成方法。从而,提供一种永久图案形成方法,其系包括:在使用感光性组成物于基材之表面上形成感光层后,对于该感光层,借由使用具备光照射机构及光调制机构之曝光头、且为依照使前述图素部的列方向,相对于扫描方向形成预的设置倾斜角度��配置的曝光头,并对于前述曝光头,借由使用图素部指定机构来指定使用于N(惟,N为2以上之自然数)次曝光的前述图素部,且使只有借着图素部控制机构所指定的前述图素部参与曝光的方式,来进行控制前述图素部,并对于前述之感光层,使前述曝光头相对于扫描方向移动而进行曝光、显像之永久图案形成方法。

2. 发明专利

TW200640245A 繪圖裝置及繪圖方法 RENDERING DEVICE AND RENDERING METHOD 审中-公开
简体标题：绘图设备及绘图方法 RENDERING DEVICE AND RENDERING METHOD
公开(公告)号：TW200640245A
公开(公告)日：2006-11-16
申请号：TW095103293
申请日：2006-01-27
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：角克人 SUMI, KATSUTO
IPC分类号： H04N
CPC分类号： B41J2/465 , B41J25/001 , G03F7/70291
摘要：本發明係提供繪圖裝置以及繪圖方法，其不會使繪圖速度下降，且能描繪出已抑制鋸齒之發生的所需畫像。依照繪圖圖案(80)來調整繪圖要素點(41)之間的排列間距(ps)、條列傾斜角度(θs)、y方向上之繪圖點的繪圖間距(py)、或者在與y方向略正交之方向上鄰接形成的繪圖點在y方向上之繪圖位置的相位差(ΔΔy)，藉以使鋸齒之鋸齒間距(pji)或者鋸齒振幅(aji)降至既定值以下而可形成良好的畫像。
简体摘要：本发明系提供绘图设备以及绘图方法，其不会使绘图速度下降，且能描绘出已抑制锯齿之发生的所需画像。依照绘图图案(80)来调整绘图要素点(41)之间的排列间距(ps)、条列倾斜角度(θs)、y方向上之绘图点的绘图间距(py)、或者在与y方向略正交之方向上邻接形成的绘图点在y方向上之绘图位置的相位差(ΔΔy)，借以使锯齿之锯齿间距(pji)或者锯齿振幅(aji)降至既定值以下而可形成良好的画像。

3. 发明专利

TW200636396A 圖像曝光裝置 IMAGE ESPOSING DEVICE 审中-公开
简体标题：图像曝光设备 IMAGE ESPOSING DEVICE
公开(公告)号：TW200636396A
公开(公告)日：2006-10-16
申请号：TW095104299
申请日：2006-02-09
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：石井秀一 ISHII, SHUICHI , 木村宏一 KIMURA, KOICHI , 角克人 SUMI, KATSUTO , 石川弘美 ISHIKAWA, HIROMI , 大森利彥 OOMORI, TOSHIHIKO
IPC分类号： G03F , G02B
CPC分类号： G02B26/0841 , G03F7/70216 , G03F7/70291 , G03F7/70791
摘要：在藉由被空間光調變元件所調變的光而使感光材料曝光的圖像曝光裝置中，確保有高光利用效率以及消光比。一種圖像曝光裝置，其具備：DMD等的空間光調變元件50，係由調變照射之光的多數反射型像素部以2維狀排列而成；光源66，將光B照射於該空間光調變元件50；以及成像光學系統51，將由經過該空間光調變元件50的光B所形成的像成像於感光材料上；而該空間光調變元件50的各像素部(例如DMD的微鏡)係形成為將用於曝光的光B聚光的凹面鏡狀或是凸面鏡狀。
简体摘要：在借由被空间光调制组件所调制的光而使感光材料曝光的图像曝光设备中，确保有高光利用效率以及消光比。一种图像曝光设备，其具备：DMD等的空间光调制组件50，系由调制照射之光的多数反射型像素部以2维状排列而成；光源66，将光B照射于该空间光调制组件50；以及成像光学系统51，将由经过该空间光调制组件50的光B所形成的像成像于感光材料上；而该空间光调制组件50的各像素部(例如DMD的微镜)系形成为将用于曝光的光B聚光的凹面镜状或是凸面镜状。

4. 发明专利

TWI279125B 描繪頭單元、描繪裝置及描繪方法 PLOT HEAD UNIT, PLOT DEVICE AND PLOT METHOD 有权
简体标题：描绘头单元、描绘设备及描绘方法 PLOT HEAD UNIT, PLOT DEVICE AND PLOT METHOD
公开(公告)号：TWI279125B
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：TW093101919
申请日：2004-01-29
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：中谷大輔 NAKAYA, DAISUKE , 藤井武 FUJII, TAKESHI , 角克人 SUMI, KATSUTO , 尾崎多可雄 OZAKI, TAKAO
IPC分类号： H04N
CPC分类号： H04N1/1008 , H04N1/047 , H04N1/1911 , H04N1/393 , H04N2201/04767
摘要：本發明係以：使用複數個描繪頭時將在掃瞄方向上之倍率誤差消除，並且亦可實施在掃瞄方向之全體的倍率變換之描繪頭單元、描繪裝置及描繪方法作為課題。本發明的解決手段上，係將複數個曝光頭166沿著至少掃瞄方向做複數個配置，而構成曝光頭單元165。在每個曝光頭166上將畫素的更新時序變更之時，可修正曝光頭166間之掃瞄方向的倍率誤差。
简体摘要：本发明系以：使用复数个描绘头时将在扫瞄方向上之倍率误差消除，并且亦可实施在扫瞄方向之全体的倍率变换之描绘头单元、描绘设备及描绘方法作为课题。本发明的解决手段上，系将复数个曝光头166沿着至少扫瞄方向做复数个配置，而构成曝光头单元165。在每个曝光头166上将像素的更新时序变更之时，可修正曝光头166间之扫瞄方向的倍率误差。

5. 发明专利

TW200710597A 圖案形成方法 PATTERN GENERATING METHOD 审中-公开
简体标题：图案形成方法 PATTERN GENERATING METHOD
公开(公告)号：TW200710597A
公开(公告)日：2007-03-16
申请号：TW095125970
申请日：2006-07-17
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：高島正伸 TAKASHIMA, MASANOBU , 角克人 SUMI, KATSUTO
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70358 , G03F7/70275 , G03F7/70291
摘要：本發明在於提供一種圖案形成方法,其係於完成使光調變手段予以傾斜後進行描繪之曝光的圖案形成方法中,藉由不使曝光速度降低,形成抑制感光層被曝光面上抖動發生之所要求的描繪圖案,可以高精細且有效形成配線圖案等永久圖案。因此,提供一種圖案形成方法,其係藉由根據描繪像素部所形成的描繪像素而予以再現,使所生成的抖動之抖動間距與抖動振幅之至少任一種成為既定値以下之方式來設定描繪像素之配列間距(a)、傾斜角度(b)、描繪間距(c)與相位差(d)之至少任一種,根據該圖案資訊而於既定之時點調變控制該描繪像素部所進行的。
095125970-p01.bmp
简体摘要：本发明在于提供一种图案形成方法,其系于完成使光调制手段予以倾斜后进行描绘之曝光的图案形成方法中,借由不使曝光速度降低,形成抑制感光层被曝光面上抖动发生之所要求的描绘图案,可以高精细且有效形成配线图案等永久图案。因此,提供一种图案形成方法,其系借由根据描绘像素部所形成的描绘像素而予以再现,使所生成的抖动之抖动间距与抖动振幅之至少任一种成为既定値以下之方式来设置描绘像素之配列间距(a)、倾斜角度(b)、描绘间距(c)与相位差(d)之至少任一种,根据该图案信息而于既定之时点调制控制该描绘像素部所进行的。 095125970-p01.bmp

6. 发明专利

TW200710586A 影像曝光設備 IMAGE EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
简体标题：影像曝光设备 IMAGE EXPOSURE APPARATUS
公开(公告)号：TW200710586A
公开(公告)日：2007-03-16
申请号：TW095119220
申请日：2006-05-30
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：角克人 SUMI, KATSUTO , 石井秀一 ISHII, SHUICHI
IPC分类号： G03F , G02B
CPC分类号： G02B26/0833 , G02B3/0012 , G02B3/0056 , G02B27/0031 , G03F7/70216 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70308
摘要：一種影像曝光設備,包含:一空間光調變元件(50),以用於個別調變照射其上之光線的複數個像素部構成;一光源(66),用於照射光束B至該空間光調變元件上;及光學系統(51),用於聚焦由每一像素部所產生之影像;與一微鏡陣列(55),其中以像素部調變之光束個別進入該複數個微鏡被設置成陣列。微鏡陣列55以該聚焦光學系統(51)被設置於像素部之聚焦位置附近。微鏡陣列(55)之每一微鏡(55a)在垂直該光軸的平面內在二個方向具有不同屈光率,以校正由於像素部中非等方性扭曲所造成之像差。
简体摘要：一种影像曝光设备,包含:一空间光调制组件(50),以用于个别调制照射其上之光线的复数个像素部构成;一光源(66),用于照射光束B至该空间光调制组件上;及光学系统(51),用于聚焦由每一像素部所产生之影像;与一微镜数组(55),其中以像素部调制之光束个别进入该复数个微镜被设置成数组。微镜数组55以该聚焦光学系统(51)被设置于像素部之聚焦位置附近。微镜数组(55)之每一微镜(55a)在垂直该光轴的平面内在二个方向具有不同屈光率,以校正由于像素部中非等方性扭曲所造成之像差。

7. 发明专利

TW200710606A 製造內部單元結構之方法,內部單元結構,顯示器裝置 METHOD FOR MANUFACTURING INTERNAL CELL STRUCTURE, INTERNAL CELL STRUCTURE, AND DISPLAY DEVICE 审中-公开
简体标题：制造内部单元结构之方法,内部单元结构,显示器设备 METHOD FOR MANUFACTURING INTERNAL CELL STRUCTURE, INTERNAL CELL STRUCTURE, AND DISPLAY DEVICE
公开(公告)号：TW200710606A
公开(公告)日：2007-03-16
申请号：TW095125173
申请日：2006-07-11
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：佐藤守正 SATO, MORIMASA , 角克人 SUMI, KATSUTO , 古和田一輝 KOWADA, KAZUTERU , 鈴木一誠 SUZUKI, ISSEI , 植村隆之 UEMURA, TAKAYUKI , 田中光利 TANAKA, MITSUTOSHI
IPC分类号： G03F , G02B , G02F
CPC分类号： G02F1/13394 , G02F1/133707 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70358 , G03F7/70791
摘要：本發明提供一種用於製造一內部單元結構的方法,該方法不使用光罩,而是利用緩和在一感光層的已經過曝光的表面,所形成的圖案之密度的解析度與不均勻性的變化量來製造內部單元結構。本發明同時提供由上述方法製造的一優良的內部單元結構,以及一使用該內部單元結構的顯示器裝置。該製造一內部單元結構的方法包含曝光一感光層、依據將被N重曝光的指定像素部分使用一曝光頭、控制該像素部分使得僅有該指定部分會涉入曝光,以及使該曝光頭朝向掃瞄的方向相對的移動;並且使該已曝光的感光層顯影,其中該曝光頭經過適當的安排,使得該像素部分在行方向上,相對於該曝光頭的掃瞄方向,具有一傾斜角��的設定角。
简体摘要：本发明提供一种用于制造一内部单元结构的方法,该方法不使用光罩,而是利用缓和在一感光层的已经过曝光的表面,所形成的图案之密度的分辨率与不均匀性的变化量来制造内部单元结构。本发明同时提供由上述方法制造的一优良的内部单元结构,以及一使用该内部单元结构的显示器设备。该制造一内部单元结构的方法包含曝光一感光层、依据将被N重曝光的指定像素部分使用一曝光头、控制该像素部分使得仅有该指定部分会涉入曝光,以及使该曝光头朝向扫瞄的方向相对的移动;并且使该已曝光的感光层显影,其中该曝光头经过适当的安排,使得该像素部分在行方向上,相对于该曝光头的扫瞄方向,具有一倾斜角��的设置角。

8. 发明专利

TW200707110A 圖案形成方法 PROCESS FOR FORMING PATTERN 审中-公开
简体标题：图案形成方法 PROCESS FOR FORMING PATTERN
公开(公告)号：TW200707110A
公开(公告)日：2007-02-16
申请号：TW095121873
申请日：2006-06-19
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：高島正伸 TAKASHIMA, MASANOBU , 角克人 SUMI, KATSUTO , 古和田一輝 KOWADA, KAZUTERU , 鈴木一誠 SUZUKI, ISSEI , 植村隆之 UEMURA, TAKAYUKI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/70275
摘要：本發明之目的在於提供一種藉由抑制於圖案形成材料上所成像的像之畸變、且使用對於形成有永久圖案的基體之凹凸跟從性優異的圖案形成材料,而可以高精細地且更有效率地形成前述永久圖案之圖案形成方法。從而,提供一種圖案形成方法,其係包括:關於前述之曝光頭,藉著使用圖素部指定機構,來指定使用於N(惟,N為2以上之自然數)次曝光的前述圖素部之步驟;與關於前述之曝光頭,依照使只有藉著圖素部控制機構、利用前述之使用圖素部指定機構所指定的前述圖素部參與曝光的方式,來進行控制前述圖素部之步驟;及對於在支撐體上依序具有緩衝層和感光層的圖案形成材料中之該感光層,使前述曝光頭相對於掃描方向移動而進行曝光之步驟。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种借由抑制于图案形成材料上所成像的像之畸变、且使用对于形成有永久图案的基体之凹凸跟从性优异的图案形成材料,而可以高精细地且更有效率地形成前述永久图案之图案形成方法。从而,提供一种图案形成方法,其系包括:关于前述之曝光头,借着使用图素部指定机构,来指定使用于N(惟,N为2以上之自然数)次曝光的前述图素部之步骤;与关于前述之曝光头,依照使只有借着图素部控制机构、利用前述之使用图素部指定机构所指定的前述图素部参与曝光的方式,来进行控制前述图素部之步骤;及对于在支撑体上依序具有缓冲层和感光层的图案形成材料中之该感光层,使前述曝光头相对于扫描方向移动而进行曝光之步骤。

9. 发明专利

TW200705546A 圖案形成方法 PROCESS FOR FORMING PATTERN 审中-公开
简体标题：图案形成方法 PROCESS FOR FORMING PATTERN
公开(公告)号：TW200705546A
公开(公告)日：2007-02-01
申请号：TW095109820
申请日：2006-03-22
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：高島正伸 TAKASHIMA, MASANOBU , 角克人 SUMI, KATSUTO , 古和田一輝 KOWADA, KAZUTERU , 鈴木一誠 SUZUKI, ISSEI , 植村隆之 UEMURA, TAKAYUKI
IPC分类号： H01L , G03F
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70358
摘要：目的在於提供一種藉由減輕形成於圖案形成材料的被曝光面上之前述圖案解像度的變異量及濃度不均一現象,而可以高精細地且更有效率地形成前述圖案之圖案形成方法。從而,提供一種圖案形成方法,其特徵在於:包括將在支撐體上具有感光層的圖案形成材料中之該感光層積層於被處理基體上後,再對於該感光層,使用曝光頭,其係配備光照射機構、及具有n個2次元狀排列之圖素部的光調變機構,且係經配置成使得前述圖素部的列方向與該曝光頭的描掃方向形成預定之設定傾斜角度��,關於前述之曝光頭,藉著使用圖素部指定機構,來指定使用於N次曝光的前述圖素部之步驟;與關於前述之曝光頭,藉著圖素部控制機構,來進行控制前述圖素部之步驟;及使前述曝光頭相對於掃描方向移動而對於前述感光層進行曝光之步驟。
简体摘要：目的在于提供一种借由减轻形成于图案形成材料的被曝光面上之前述图案解像度的变异量及浓度不均一现象,而可以高精细地且更有效率地形成前述图案之图案形成方法。从而,提供一种图案形成方法,其特征在于:包括将在支撑体上具有感光层的图案形成材料中之该感光层积层于被处理基体上后,再对于该感光层,使用曝光头,其系配备光照射机构、及具有n个2次元状排列之图素部的光调制机构,且系经配置成使得前述图素部的列方向与该曝光头的描扫方向形成预定之设置倾斜角度��,关于前述之曝光头,借着使用图素部指定机构,来指定使用于N次曝光的前述图素部之步骤;与关于前述之曝光头,借着图素部控制机构,来进行控制前述图素部之步骤;及使前述曝光头相对于扫描方向移动而对于前述感光层进行曝光之步骤。

10. 发明专利

TW200731024A 繪圖方法及裝置 PLOTTING METHOD AND DEVICE 审中-公开
简体标题：绘图方法及设备 PLOTTING METHOD AND DEVICE
公开(公告)号：TW200731024A
公开(公告)日：2007-08-16
申请号：TW095135683
申请日：2006-09-27
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：武者野滿 MUSHANO, MITSURU , 角克人 SUMI, KATSUTO , 下山裕司 SHIMOYAMA, YUJI
IPC分类号： G06F , H01L
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70358
摘要： (課題)在使配列有複數個微鏡(micro-mirror)之DMD對基板相對地移動,同時因應該移動,順序地在基板上形成曝光點群,進而曝光影像曝光之曝光方法上,以高精確度控制曝光影像的邊緣(edge)位置。(解決手段)控制形成曝光影像之邊緣之複數個微鏡中至少一個微鏡的曝光狀態,以控制基板上之曝光影像的邊緣位置。
简体摘要： (课题)在使配列有复数个微镜(micro-mirror)之DMD对基板相对地移动,同时因应该移动,顺序地在基板上形成曝光点群,进而曝光影像曝光之曝光方法上,以高精确度控制曝光影像的边缘(edge)位置。(解决手段)控制形成曝光影像之边缘之复数个微镜中至少一个微镜的曝光状态,以控制基板上之曝光影像的边缘位置。

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