专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201508072A 被覆件及其製造方法审中-公开
简体标题：被覆件及其制造方法
公开(公告)号：TW201508072A
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW102123965
申请日：2013-07-04
申请人：富士康(香港)有限公司 , FIH (HONG KONG) LIMITED
发明人：張春杰 , ZHANG, CHUN-JIE
IPC分类号： C23C14/06 , B82B3/00
CPC分类号： B08B17/065 , B05D2350/65 , C23C14/025 , C23C14/0605 , C23C14/14 , C23C14/3464 , C23C14/5806 , Y10T428/24355
摘要：一種被覆件，包括基體及形成在基體上的類金剛石膜層。該類金剛石膜層表面形成有複數奈米量級的凸起。本發明還提供一種所述被覆件的製造方法。
简体摘要：一种被覆件，包括基体及形成在基体上的类金刚石膜层。该类金刚石膜层表面形成有复数奈米量级的凸起。本发明还提供一种所述被覆件的制造方法。

2. 发明专利

TW201438884A 具有硬質膜層的不銹鋼製品及其製備方法审中-公开
简体标题：具有硬质膜层的不锈钢制品及其制备方法
公开(公告)号：TW201438884A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW102103214
申请日：2013-01-28
申请人：富士康(香港)有限公司 , FIH (HONG KONG) LIMITED
发明人：張春杰 , ZHANG, CHUN-JIE , 劉旭 , LIU, XU
IPC分类号： B32B15/00 , C23C14/48 , C23C14/34 , C23C14/14 , C23C14/06
CPC分类号： B32B15/043 , C23C14/022 , C23C14/025 , C23C14/027 , C23C14/165 , C23C14/3464 , C23C28/321 , C23C28/34 , C23C28/347 , C23C28/36 , Y10T428/12576
摘要：一種具有硬質膜層的不銹鋼製品，其包括不銹鋼基體、依次形成在不銹鋼基體上的打底層、過渡層及硬質層，該打底層為Ti層；該過渡層為TiaCrb層，其中，1≦a≦2、2≦b≦3；該硬質層為TixCryNz層，其中，2≦x≦4、3≦y≦8及10≦z≦16。本發明還提供了由上述不銹鋼製品的製備方法。
简体摘要：一种具有硬质膜层的不锈钢制品，其包括不锈钢基体、依次形成在不锈钢基体上的打底层、过渡层及硬质层，该打底层为Ti层；该过渡层为TiaCrb层，其中，1≦a≦2、2≦b≦3；该硬质层为TixCryNz层，其中，2≦x≦4、3≦y≦8及10≦z≦16。本发明还提供了由上述不锈钢制品的制备方法。

3. 发明专利

TW201512435A 殼體及其製備方法审中-公开
简体标题：壳体及其制备方法
公开(公告)号：TW201512435A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW102122691
申请日：2013-06-26
申请人：富士康(香港)有限公司 , FIH (HONG KONG) LIMITED
发明人：張春杰 , ZHANG, CHUN-JIE
IPC分类号： C23C14/14 , C23C14/35
CPC分类号： C23C14/0015 , C23C14/0021 , C23C14/0036 , C23C14/024 , C23C14/025 , C23C14/0664 , C23C14/352 , C23C28/321 , C23C28/345 , C23C28/347 , Y10T428/13
摘要：本發明提供一種殼體，包括基體、形成於該基體表面的打底層、形成於打底層表面的過渡層及形成於該過渡層表面的色彩層，該過渡層為氧化鋁層，該色彩層為碳氮化鈦鋯層，該色彩層呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的L*座標介於70至80之間，a*座標介於10至15之間，b*座標介於22至30之間。本發明還提供一種上述殼體的製備方法。
简体摘要：本发明提供一种壳体，包括基体、形成于该基体表面的打底层、形成于打底层表面的过渡层及形成于该过渡层表面的色彩层，该过渡层为氧化铝层，该色彩层为碳氮化钛锆层，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*座标介于70至80之间，a*座标介于10至15之间，b*座标介于22至30之间。本发明还提供一种上述壳体的制备方法。

4. 发明专利

TW201437406A 不銹鋼表面處理方法及由該方法製得的外殼审中-公开
简体标题：不锈钢表面处理方法及由该方法制得的外壳
公开(公告)号：TW201437406A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW102109389
申请日：2013-03-15
申请人：富士康(香港)有限公司 , FIH (HONG KONG) LIMITED
发明人：張春杰 , ZHANG, CHUN-JIE
IPC分类号： C23C14/35 , C25D11/04
CPC分类号： C25D11/18 , C23C14/16 , C23C14/165 , C23C14/325 , C23C14/5853 , C23C28/322 , C23C28/345 , C25D11/10 , Y10T428/12778
摘要：本發明提供一種不銹鋼表面處理方法，包括如下步驟：提供不銹鋼基體；藉由多弧離子鍍在不銹鋼基體表面沉積打底層，該打底層為鈦金屬層；藉由多弧離子鍍在所述打底層上沉積過渡層，該過渡層為鋁金屬層；藉由磁控濺射方法在所述過渡層上沉積鋁膜；對該形成有打底層、過渡層及鋁膜的不銹鋼基體進行陽極氧化處理，以使該過渡層及鋁膜被氧化而形成多孔的陽極氧化膜；對該經陽極氧化處理的不銹鋼基體進行著色處理並封孔，以使不銹鋼基體表面獲得所需的顏色。本發明還提供一種上述不銹鋼表面處理方法製得的外殼。
简体摘要：本发明提供一种不锈钢表面处理方法，包括如下步骤：提供不锈钢基体；借由多弧离子镀在不锈钢基体表面沉积打底层，该打底层为钛金属层；借由多弧离子镀在所述打底层上沉积过渡层，该过渡层为铝金属层；借由磁控溅射方法在所述过渡层上沉积铝膜；对该形成有打底层、过渡层及铝膜的不锈钢基体进行阳极氧化处理，以使该过渡层及铝膜被氧化而形成多孔的阳极氧化膜；对该经阳极氧化处理的不锈钢基体进行着色处理并封孔，以使不锈钢基体表面获得所需的颜色。本发明还提供一种上述不锈钢表面处理方法制得的外壳。

5. 发明专利

TW201435103A 殼體及其製作方法审中-公开
简体标题：壳体及其制作方法
公开(公告)号：TW201435103A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW102108616
申请日：2013-03-12
申请人：富士康(香港)有限公司 , FIH (HONG KONG) LIMITED
发明人：張春杰 , ZHANG, CHUN-JIE
IPC分类号： C23C14/06 , H05K5/00
CPC分类号： H05K5/02 , G06F1/1626 , G06F1/1656 , G06F1/181 , H04M1/0283 , H04M1/185
摘要：本發明提供一種殼體及該殼體的製作方法。該殼體包括基體及依次形成於基體表面的打底層、過渡層、及顏色層，該打底層為鈦和M的混鍍層，其中M選自鉻、鋁、或矽中的一種；該過渡層為氧化層，且所述氧化層為氧化鋁層、氧化鋯層、或二氧化矽層；該顏色層為鈦鋁氮層。該殼體的製作方法包括如下步驟：提供一基體；採用真空鍍膜法在該基體的表面依次形成打底層、過渡層、及顏色層，該打底層為鈦和M的混鍍層，其中M選自鉻、鋁、或矽中的一種；該過渡層為氧化層，且所述氧化層為氧化鋁層、氧化鋯層、或二氧化矽層；該顏色層為鈦鋁氮層。
简体摘要：本发明提供一种壳体及该壳体的制作方法。该壳体包括基体及依次形成于基体表面的打底层、过渡层、及颜色层，该打底层为钛和M的混镀层，其中M选自铬、铝、或硅中的一种；该过渡层为氧化层，且所述氧化层为氧化铝层、氧化锆层、或二氧化硅层；该颜色层为钛铝氮层。该壳体的制作方法包括如下步骤：提供一基体；采用真空镀膜法在该基体的表面依次形成打底层、过渡层、及颜色层，该打底层为钛和M的混镀层，其中M选自铬、铝、或硅中的一种；该过渡层为氧化层，且所述氧化层为氧化铝层、氧化锆层、或二氧化硅层；该颜色层为钛铝氮层。

6. 发明专利

TW201429701A 殼體及其製作方法审中-公开
简体标题：壳体及其制作方法
公开(公告)号：TW201429701A
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：TW102103843
申请日：2013-01-31
申请人：富士康(香港)有限公司 , FIH (HONG KONG) LIMITED
发明人：張春杰 , ZHANG, CHUN-JIE
IPC分类号： B32B15/04 , C23C14/14
CPC分类号： H04M1/00 , A45C2011/002 , C03C25/106 , G06F1/1656 , G06F1/181 , H04M1/0202 , H04M1/0283 , Y10T428/265 , Y10T428/266
摘要：本發明提供一種殼體及該殼體的製作方法。該殼體包括基體及依次形成於基體表面的打底層、過渡層、及顏色層，該打底層為一Ti-M層，該過渡層為一氮化鈦和氮化M的混鍍層，其中M可為鉻、鋁、或矽；該顏色層為一氮化鈦鋁層。該殼體的製作方法包括如下步驟：提供一基體；採用真空鍍膜法在該基體的表面依次形成打底層、過渡層、及顏色層，該打底層為一Ti-M層，該過渡層為一氮化鈦和氮化M的混鍍層，其中M可為鉻、鋁、或矽；該顏色層為一氮化鈦鋁層。
简体摘要：本发明提供一种壳体及该壳体的制作方法。该壳体包括基体及依次形成于基体表面的打底层、过渡层、及颜色层，该打底层为一Ti-M层，该过渡层为一氮化钛和氮化M的混镀层，其中M可为铬、铝、或硅；该颜色层为一氮化钛铝层。该壳体的制作方法包括如下步骤：提供一基体；采用真空镀膜法在该基体的表面依次形成打底层、过渡层、及颜色层，该打底层为一Ti-M层，该过渡层为一氮化钛和氮化M的混镀层，其中M可为铬、铝、或硅；该颜色层为一氮化钛铝层。

7. 发明专利

TW201425010A 鍍膜件及其製作方法审中-公开
简体标题：镀膜件及其制作方法
公开(公告)号：TW201425010A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW102103213
申请日：2013-01-28
申请人：富士康(香港)有限公司 , FIH (HONG KONG) LIMITED
发明人：張春杰 , ZHANG, CHUN-JIE , 劉旭 , LIU, XU
IPC分类号： B32B15/04 , B32B15/098 , C23C14/06 , C23C14/24
CPC分类号： C09D5/00 , C08K3/08 , C09D7/61 , C09D159/02 , Y10T428/265 , Y10T428/31688
摘要：本發明提供一種鍍膜件及該鍍膜件的製作方法。該鍍膜件包括一基體及一形成於基體表面的抗指紋層，該抗指紋層為錫和聚甲醛的混鍍層、銦和聚甲醛的混鍍層、或一聚甲醛層。該鍍膜件的製作方法包括如下步驟：提供一基體；採用真空蒸鍍法在該基體的表面蒸鍍一抗指紋層，該抗指紋層為錫和聚甲醛的混鍍層、銦和聚甲醛的混鍍層、或一聚甲醛層。
简体摘要：本发明提供一种镀膜件及该镀膜件的制作方法。该镀膜件包括一基体及一形成于基体表面的抗指纹层，该抗指纹层为锡和聚甲醛的混镀层、铟和聚甲醛的混镀层、或一聚甲醛层。该镀膜件的制作方法包括如下步骤：提供一基体；采用真空蒸镀法在该基体的表面蒸镀一抗指纹层，该抗指纹层为锡和聚甲醛的混镀层、铟和聚甲醛的混镀层、或一聚甲醛层。

8. 发明专利

TW201429700A 殼體及其製作方法审中-公开
简体标题：壳体及其制作方法
公开(公告)号：TW201429700A
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：TW102103842
申请日：2013-01-31
申请人：富士康(香港)有限公司 , FIH (HONG KONG) LIMITED
发明人：張春杰 , ZHANG, CHUN-JIE
IPC分类号： B32B15/04 , C25D5/12 , B44C1/00
CPC分类号： G06F1/1626 , Y10T428/13
摘要：本發明提供一種殼體及該殼體的製作方法。該殼體包括一基體及形成於基體表面的打底層、過渡層、及顏色層，該打底層為一金屬層，該過渡層為一金屬碳氮化物的混鍍層，該顏色層為一鈦鉻鋁的混鍍層，其中該打底層中的金屬為鈦、鉻、或鐵，該過渡層中的金屬為鈦、鋁、鉻、或鐵。該殼體的製作方法包括如下步驟：提供一基體；採用真空鍍膜法在該基體的表面依次形成打底層、過渡層、及顏色層，該打底層為一金屬層，該過渡層為一金屬碳氮化物的混鍍層，該顏色層為一鈦鉻鋁的混鍍層，其中該打底層中的金屬為鈦、鉻、或鐵，該過渡層中的金屬為鈦、鋁、鉻、或鐵。
简体摘要：本发明提供一种壳体及该壳体的制作方法。该壳体包括一基体及形成于基体表面的打底层、过渡层、及颜色层，该打底层为一金属层，该过渡层为一金属碳氮化物的混镀层，该颜色层为一钛铬铝的混镀层，其中该打底层中的金属为钛、铬、或铁，该过渡层中的金属为钛、铝、铬、或铁。该壳体的制作方法包括如下步骤：提供一基体；采用真空镀膜法在该基体的表面依次形成打底层、过渡层、及颜色层，该打底层为一金属层，该过渡层为一金属碳氮化物的混镀层，该颜色层为一钛铬铝的混镀层，其中该打底层中的金属为钛、铬、或铁，该过渡层中的金属为钛、铝、铬、或铁。

9. 发明专利

TW201425626A 磁控濺射鍍膜裝置审中-公开
简体标题：磁控溅射镀膜设备
公开(公告)号：TW201425626A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW102103215
申请日：2013-01-28
申请人：富士康(香港)有限公司 , FIH (HONG KONG) LIMITED
发明人：張春杰 , ZHANG, CHUN-JIE
IPC分类号： C23C14/35
CPC分类号： C23C14/35
摘要：本發明提供一種磁控濺射鍍膜裝置，包括真空室體、形成於該真空室體內的真空室、設置於真空室內的至少一磁控靶，該磁控濺射鍍膜裝置還包括設置於該真空室內與所述磁控靶一一對應的遮罩，每一遮罩包括二遮罩片，該二遮罩片對稱設置於相應的磁控靶的兩側，以遮擋鍍膜時磁控靶的散射粒子，避免散射粒子繞鍍至工件不需要鍍膜的部分。
简体摘要：本发明提供一种磁控溅射镀膜设备，包括真空室体、形成于该真空室体内的真空室、设置于真空室内的至少一磁控靶，该磁控溅射镀膜设备还包括设置于该真空室内与所述磁控靶一一对应的遮罩，每一遮罩包括二遮罩片，该二遮罩片对称设置于相应的磁控靶的两侧，以遮挡镀膜时磁控靶的散射粒子，避免散射粒子绕镀至工件不需要镀膜的部分。

10. 发明专利

TW201425625A 鍍膜件及其製備方法审中-公开
简体标题：镀膜件及其制备方法
公开(公告)号：TW201425625A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW102102766
申请日：2013-01-25
申请人：富士康(香港)有限公司 , FIH (HONG KONG) LIMITED
发明人：張春杰 , ZHANG, CHUN-JIE
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/06
CPC分类号： C23C14/0682 , C23C14/0015 , C23C14/024 , C23C14/025 , C23C28/322 , C23C28/34 , C23C28/341 , Y10T428/12576 , Y10T428/12583 , Y10T428/12743 , Y10T428/12847 , Y10T428/12854 , Y10T428/12993 , Y10T428/24967 , Y10T428/265
摘要：一種鍍膜件，其包括基材及形成於基材表面的色彩層，該色彩層為鉻鋁矽層，該色彩層中含有的鉻、鋁、矽的原子比為1～3：0.5～2：0.3～1；該色彩層呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的L*座標介於25至28，a*座標介於-1至-6，b*座標介於-5至-9。所述鍍膜件呈現具有吸引力的金屬質感的藍色外觀，提高了鍍膜件的外觀競爭力。此外，本發明還提供一種所述鍍膜件的製備方法。
简体摘要：一种镀膜件，其包括基材及形成于基材表面的色彩层，该色彩层为铬铝硅层，该色彩层中含有的铬、铝、硅的原子比为1～3：0.5～2：0.3～1；该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*座标介于25至28，a*座标介于-1至-6，b*座标介于-5至-9。所述镀膜件呈现具有吸引力的金属质感的蓝色外观，提高了镀膜件的外观竞争力。此外，本发明还提供一种所述镀膜件的制备方法。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式