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1. 发明专利

TWI542466B 光學積層體、偏光板及影像顯示裝置有权
简体标题：光学积层体、偏光板及影像显示设备
公开(公告)号：TWI542466B
公开(公告)日：2016-07-21
申请号：TW100116970
申请日：2011-05-12
申请人：大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：吉原俊夫 , YOSHIHARA, TOSHIO , 堀尾智之 , HORIO, TOMOYUKI , 用木麻友 , YOUKI, MAYU
IPC分类号： B32B27/18 , G02B5/30
CPC分类号： C09D133/10 , C08F290/067 , C08G18/672 , C08L33/14 , C09D4/06 , C09D133/14 , C09D175/16 , G02B1/04 , G02B1/08 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B1/16 , Y10T428/31591 , Y10T428/31786 , Y10T428/31891 , Y10T428/31935 , Y10T428/31971 , C08L75/14

2. 发明专利

TWI531810B 抗靜電性硬塗膜、其製造方法、偏光板及影像顯示裝置有权
简体标题：抗静电性硬涂膜、其制造方法、偏光板及影像显示设备
公开(公告)号：TWI531810B
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW100133682
申请日：2011-09-20
申请人：大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：用木麻友 , YOUKI, MAYU , 堀尾智之 , HORIO, TOMOYUKI , 西村佳泰 , NISHIMURA, YOSHIHIRO , 林真理子 , HAYASHI, MARIKO , 豬保裕哉 , INOMATA, YUYA , 中村啟志 , NAKAMURA, HIROSHI
IPC分类号： G02B1/10 , B05D5/12 , B32B27/30 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B1/14 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/16 , G02B1/18 , G02B5/3033 , G02B27/0006 , Y10T428/24975

3. 发明专利

TWI522642B 光學薄膜、偏光板、顯示面板及顯示器有权
简体标题：光学薄膜、偏光板、显示皮肤及显示器
公开(公告)号：TWI522642B
公开(公告)日：2016-02-21
申请号：TW099135190
申请日：2010-10-15
申请人：大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：秋山健太郎 , AKIYAMA, KENTARO , 篠原誠司 , SHINOHARA, SEIJI , 嶋野繪美 , SHIMANO, EMI , 中村啟志 , NAKAMURA, HIROSHI , 用木麻友 , YOKI, MAYU
IPC分类号： G02B1/10 , G02B1/11 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B5/0247 , G02B5/0242 , G02B5/0278 , G02F1/133502 , G02F2201/50

4. 发明专利

TWI515271B 抗反射膜、抗反射膜之製造方法、偏光板及影像顯示裝置有权
简体标题：抗反射膜、抗反射膜之制造方法、偏光板及影像显示设备
公开(公告)号：TWI515271B
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW101101664
申请日：2012-01-16
申请人：大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：林真理子 , HAYASHI, MARIKO , 堀尾智之 , HORIO, TOMOYUKI , 西村佳泰 , NISHIMURA, YOSHIHIRO , 豬保裕哉 , INOMATA, YUYA , 中村啟志 , NAKAMURA, HIROSHI , 用木麻友 , YOUKI, MAYU
IPC分类号： C09D133/08 , C09D7/12 , C08K3/36 , G02B1/11 , G02B5/30
CPC分类号： G02B1/111 , C03C21/002 , C08J5/18 , C08J5/24 , C08J2300/20 , C08J2333/08 , C08K5/523 , C08L1/10 , C08L63/00 , C08L2205/02 , G02B1/04 , G02B5/3033 , G02B5/305 , G02B27/0006 , G02F1/1335 , G02F1/133502

5. 发明专利

TW201128215A 光學薄膜及顯示面板 OPTICAL FILM AND DISPLAY PANEL 审中-公开
简体标题：光学薄膜及显示皮肤 OPTICAL FILM AND DISPLAY PANEL
公开(公告)号：TW201128215A
公开(公告)日：2011-08-16
申请号：TW099135190
申请日：2010-10-15
申请人：大日本印刷股份有限公司
发明人：秋山健太郎 , 篠原誠司 , 嶋野繪美 , 中村啟志 , 用木麻友
IPC分类号： G02B , G02F
CPC分类号： G02B5/0247 , G02B5/0242 , G02B5/0278 , G02F1/133502 , G02F2201/50
摘要：本發明之課題在於提供具有高抗反射性，且具備硬度及耐擦傷性優異之低折射率層的低成本光學薄膜。本發明之解決手段為在光穿透性基材的一面側，具備膜厚d之低折射率層的光學薄膜，其特徵為，該低折射率層含有平均初級粒徑為10~100nm之中空粒子、及分散平均粒徑1~20nm且為該膜厚d之一半以下的中實粒子，在該低折射率層之膜厚方向的剖面、且層平面方向之寬500nm的區域中，至少1個該中空粒子被該低折射率層的硬化樹脂所被覆並且連接至該低折射率層之與光穿透性基材為相反側之界面，該中實粒子佔有該中空粒子連接部分以外之該界面的50%以上範圍，且偏在於從該界面至膜厚方向之該中實粒子之2個分散平均粒徑為止的深度中；及具備該光學薄膜之偏光板、顯示面板、顯示器。
简体摘要：本发明之课题在于提供具有高抗反射性，且具备硬度及耐擦伤性优异之低折射率层的低成本光学薄膜。本发明之解决手段为在光穿透性基材的一面侧，具备膜厚d之低折射率层的光学薄膜，其特征为，该低折射率层含有平均初级粒径为10~100nm之中空粒子、及分散平均粒径1~20nm且为该膜厚d之一半以下的中实粒子，在该低折射率层之膜厚方向的剖面、且层平面方向之宽500nm的区域中，至少1个该中空粒子被该低折射率层的硬化树脂所被覆并且连接至该低折射率层之与光穿透性基材为相反侧之界面，该中实粒子占有该中空粒子连接部分以外之该界面的50%以上范围，且偏在于从该界面至膜厚方向之该中实粒子之2个分散平均粒径为止的深度中；及具备该光学薄膜之偏光板、显示皮肤、显示器。

6. 发明专利

TW201232018A 抗靜電性硬塗膜、其製造方法、偏光板及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：抗静电性硬涂膜、其制造方法、偏光板及影像显示设备
公开(公告)号：TW201232018A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：TW100133682
申请日：2011-09-20
申请人：大日本印刷股份有限公司
发明人：用木麻友 , 堀尾智之 , 西村佳泰 , 林真理子 , 豬保裕哉 , 中村啟志
IPC分类号： G02B , B05D , B32B , G02F
CPC分类号： G02B1/14 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/16 , G02B1/18 , G02B5/3033 , G02B27/0006 , Y10T428/24975
摘要：本發明提供一種具有極其優異之抗白化性能與抗靜電性能，並且亦可充分地抑制干涉條紋之產生的抗靜電性硬塗膜。本發明之抗靜電性硬塗膜係包含三乙醯纖維素基材、及形成於該三乙醯纖維素基材上之硬塗層者，上述硬塗層含有抗靜電劑、(甲基)丙烯酸酯系樹脂及(甲基)丙烯酸酯系單體之聚合物，上述三乙醯纖維素基材具有滲透層，該滲透層係由上述(甲基)丙烯酸酯系單體自上述硬塗層側界面向與該硬塗層相反之側滲透而形成，將上述滲透層與硬塗層之合計厚度設為T(μm)，且將上述滲透層之厚度設為t(μm)時，上述(T)及(t)滿足下述式(1)、(2)及(3)。3μm≦T≦18μm (式1) 0.3T≦t≦0.9T (式2) 2μm≦T-t≦11μm (式3)
简体摘要：本发明提供一种具有极其优异之抗白化性能与抗静电性能，并且亦可充分地抑制干涉条纹之产生的抗静电性硬涂膜。本发明之抗静电性硬涂膜系包含三乙酰纤维素基材、及形成于该三乙酰纤维素基材上之硬涂层者，上述硬涂层含有抗静电剂、(甲基)丙烯酸酯系树脂及(甲基)丙烯酸酯系单体之聚合物，上述三乙酰纤维素基材具有渗透层，该渗透层系由上述(甲基)丙烯酸酯系单体自上述硬涂层侧界面向与该硬涂层相反之侧渗透而形成，将上述渗透层与硬涂层之合计厚度设为T(μm)，且将上述渗透层之厚度设为t(μm)时，上述(T)及(t)满足下述式(1)、(2)及(3)。3μm≦T≦18μm (式1) 0.3T≦t≦0.9T (式2) 2μm≦T-t≦11μm (式3)

7. 发明专利

TW201139139A 光學積層體、偏光板及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：光学积层体、偏光板及影像显示设备
公开(公告)号：TW201139139A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：TW100116970
申请日：2011-05-12
申请人：大日本印刷股份有限公司
发明人：吉原俊夫 , 堀尾智之 , 用木麻友
IPC分类号： B32B , G02B
CPC分类号： C09D133/10 , C08F290/067 , C08G18/672 , C08L33/14 , C09D4/06 , C09D133/14 , C09D175/16 , G02B1/04 , G02B1/08 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B1/16 , Y10T428/31591 , Y10T428/31786 , Y10T428/31891 , Y10T428/31935 , Y10T428/31971 , C08L75/14
摘要：本發明提供一種抗靜電性、光學特性、硬度、密接性及干涉條紋防止性優異，且能夠以低成本製造之光學積層體。本發明之光學積層體，具有設置於三醋酸纖維素(triacetyl cellulose)基材上之硬塗層，其特徵在於：用於形成上述硬塗層之樹脂組合物含有含四級銨鹽之聚合物、黏合劑樹脂及溶劑，上述含四級銨鹽之聚合物係親水性程度高於上述黏合劑樹脂者，上述黏合劑樹脂含有親水性程度不同之兩種以上的樹脂成分。
简体摘要：本发明提供一种抗静电性、光学特性、硬度、密接性及干涉条纹防止性优异，且能够以低成本制造之光学积层体。本发明之光学积层体，具有设置于三醋酸纤维素(triacetyl cellulose)基材上之硬涂层，其特征在于：用于形成上述硬涂层之树脂组合物含有含四级铵盐之聚合物、黏合剂树脂及溶剂，上述含四级铵盐之聚合物系亲水性程度高于上述黏合剂树脂者，上述黏合剂树脂含有亲水性程度不同之两种以上的树脂成分。

8. 发明专利

TW201229154A 抗反射膜、抗反射膜之製造方法、偏光板及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：抗反射膜、抗反射膜之制造方法、偏光板及影像显示设备
公开(公告)号：TW201229154A
公开(公告)日：2012-07-16
申请号：TW101101664
申请日：2012-01-16
申请人：大日本印刷股份有限公司
发明人：林真理子 , 堀尾智之 , 西村佳泰 , 豬保裕哉 , 中村啟志 , 用木麻友
IPC分类号： C09D , C08K , G02B
CPC分类号： G02B1/111 , C03C21/002 , C08J5/18 , C08J5/24 , C08J2300/20 , C08J2333/08 , C08K5/523 , C08L1/10 , C08L63/00 , C08L2205/02 , G02B1/04 , G02B5/3033 , G02B5/305 , G02B27/0006 , G02F1/1335 , G02F1/133502
摘要：本發明係關於一種抗反射膜，係於透光性基材上具有硬塗層與低折射率層者，其特徵在於：上述低折射率層含有(甲基)丙烯酸系樹脂、中空狀二氧化矽微粒子、反應性二氧化矽微粒子及兩種防污劑，且上述中空狀二氧化矽微粒子係平均粒徑為40～80 nm，相對於上述(甲基)丙烯酸系樹脂之摻合比(中空狀二氧化矽微粒子之含量/(甲基)丙烯酸系樹脂之含量)為0.9～1.4，上述反應性二氧化矽之含量相對於上述(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，為5～60質量份，且上述防污劑含有由氟系化合物構成之防污劑與由氟-聚矽氧系化合物構成之防污劑。
简体摘要：本发明系关于一种抗反射膜，系于透光性基材上具有硬涂层与低折射率层者，其特征在于：上述低折射率层含有(甲基)丙烯酸系树脂、中空状二氧化硅微粒子、反应性二氧化硅微粒子及两种防污剂，且上述中空状二氧化硅微粒子系平均粒径为40～80 nm，相对于上述(甲基)丙烯酸系树脂之掺合比(中空状二氧化硅微粒子之含量/(甲基)丙烯酸系树脂之含量)为0.9～1.4，上述反应性二氧化硅之含量相对于上述(甲基)丙烯酸系树脂100质量份，为5～60质量份，且上述防污剂含有由氟系化合物构成之防污剂与由氟-聚硅氧系化合物构成之防污剂。

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