专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

2. 发明专利

TW201303347A 抗反射薄膜之製造方法、抗反射薄膜、偏光板及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：抗反射薄膜之制造方法、抗反射薄膜、偏光板及影像显示设备
公开(公告)号：TW201303347A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101117511
申请日：2012-05-16
申请人：大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：篠原誠司 , SHINOHARA, SEIJI , 林真理子 , HAYASHI, MARIKO , 秋山健太郎 , AKIYAMA, KENTARO
IPC分类号： G02B1/11 , B32B7/04 , B32B27/18
CPC分类号： G02B1/111 , G02F1/133528
摘要：依據本發明，提供可以輕易地製造具有優異的抗反射特性、具有優異的耐摩擦性及防污性，並且抑制至今從未過問的輕微白化之發生的抗反射薄膜之製造方法、抗反射薄膜、以及使用該薄膜之偏光板及影像顯示裝置。一種抗反射薄膜之製造方法，其依序包含步驟(1)在透明基材上塗布至少含有含氟化合物、微粒子及黏結劑樹脂之低折射率層形成用組成物，形成塗膜之步驟；步驟(2)使該塗膜相分離成低折射率相與防污相之步驟；及步驟(3)加熱該低折射率相與該防污相，或對該低折射率相與該防污相照射游離輻射，形成低折射率層與覆蓋該低折射率層之全面的防污層之步驟，該抗反射薄膜係至少依序具有透明基材、低折射率層、及防污層，自該防污層側藉由X射線光電子光譜法(XPS)測定之氟原子/碳原子比為0.6~1.0，且矽原子/碳原子比為小於0.25，該防污層之平均面粗糙度(Ra’)為10nm以下。
简体摘要：依据本发明，提供可以轻易地制造具有优异的抗反射特性、具有优异的耐摩擦性及防污性，并且抑制至今从未过问的轻微白化之发生的抗反射薄膜之制造方法、抗反射薄膜、以及使用该薄膜之偏光板及影像显示设备。一种抗反射薄膜之制造方法，其依序包含步骤(1)在透明基材上涂布至少含有含氟化合物、微粒子及黏结剂树脂之低折射率层形成用组成物，形成涂膜之步骤；步骤(2)使该涂膜相分离成低折射率相与防污相之步骤；及步骤(3)加热该低折射率相与该防污相，或对该低折射率相与该防污相照射游离辐射，形成低折射率层与覆盖该低折射率层之全面的防污层之步骤，该抗反射薄膜系至少依序具有透明基材、低折射率层、及防污层，自该防污层侧借由X射线光电子光谱法(XPS)测定之氟原子/碳原子比为0.6~1.0，且硅原子/碳原子比为小于0.25，该防污层之平均面粗糙度(Ra’)为10nm以下。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式