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1. 发明专利

TWI454746B 利用被測量物之反射光的光學特性測量裝置及該測量裝置之調焦方法有权
简体标题：利用被测量物之反射光的光学特性测量设备及该测量设备之调焦方法
公开(公告)号：TWI454746B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW097116623
申请日：2008-05-06
申请人：大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：藤森匡嘉 , TADAYOSHI FUJIMORI , 澤村義巳 , YOSHIMI SAWAMURA , 山崎圭司 , KEIJI YAMASAKI
IPC分类号： G02B27/40 , G02B27/64
CPC分类号： G01B11/0625 , G01N21/8422 , G02B7/36 , G02B21/244

2. 发明专利

TWI454654B 膜厚測定裝置及膜厚測定方法有权
简体标题：膜厚测定设备及膜厚测定方法
公开(公告)号：TWI454654B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW098115660
申请日：2009-05-12
申请人：大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：藤森匡嘉 , FUJIMORI, TADAYOSHI , 澤村義巳 , SAWAMURA, YOSHIMI
IPC分类号： G01B11/06

3. 发明专利

TW201727188A 厚度測定裝置及厚度測定方法审中-公开
简体标题：厚度测定设备及厚度测定方法
公开(公告)号：TW201727188A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105141545
申请日：2016-12-15
申请人：大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：豊田一貴 , TOYOTA, KAZUKI , 澤村義巳 , SAWAMURA, YOSHIMI
IPC分类号： G01B11/00 , G01B11/06
摘要：本發明之課題在於提供一種可正確地測定試料之厚度的厚度測定裝置及厚度測定方法。本發明之厚度測定裝置具備：第1透射構件，其具有第1參考面；第2透射構件，其與前述第1透射構件對向設置，並具有第2參考面；第1投光部，其用於經由前述第1參考面將來自光源之光朝位於前述第1透射構件及前述第2透射構件之間之試料照射；第1受光部，其用於接收來自前述第1參考面之反射光，且經由前述第1參考面接收來自前述試料之反射光；第2投光部，其用於經由前述第2參考面將來自光源之光朝前述試料照射；第2受光部，其用於接收來自前述第2參考面之反射光，且經由前述第2參考面接收來自前述試料之反射光；及分光部，其用於將由前述第1受光部接收之反射光、及由前述第2受光部接收之反射光予以分光。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种可正确地测定试料之厚度的厚度测定设备及厚度测定方法。本发明之厚度测定设备具备：第1透射构件，其具有第1参考面；第2透射构件，其与前述第1透射构件对向设置，并具有第2参考面；第1投光部，其用于经由前述第1参考面将来自光源之光朝位于前述第1透射构件及前述第2透射构件之间之试料照射；第1受光部，其用于接收来自前述第1参考面之反射光，且经由前述第1参考面接收来自前述试料之反射光；第2投光部，其用于经由前述第2参考面将来自光源之光朝前述试料照射；第2受光部，其用于接收来自前述第2参考面之反射光，且经由前述第2参考面接收来自前述试料之反射光；及分光部，其用于将由前述第1受光部接收之反射光、及由前述第2受光部接收之反射光予以分光。

4. 发明专利

TW575728B 光學自動測定方法有权
简体标题：光学自动测定方法
公开(公告)号：TW575728B
公开(公告)日：2004-02-11
申请号：TW090118418
申请日：2001-07-27
申请人：大塚電子股份有限公司 OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：稻本直樹 , 澤村義巳 , 藤村慎二 SHINJI FUJIMURA , 田口都一 KUNIKAZU TAGUCHI
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G01N21/55 , G01N21/276 , G01N21/4785 , G01N2021/4745 , G01N2201/128
摘要：在依據本發明之一種光學自動測定方法中，將可移動反射板6移動至置於光軸下，光接收部位3b可接收自光投射部位3a所投射之經由可移動反射板6、固定反射板11、及可移動反射板6反射之光線，而將可移動反射板6自光軸移開且設定一基準件8在樣本級台10上，光接收部位3b可接收自光投射部位3a所投射之經由基準件8反射的光線，從而判定在所接收光線之強度間的比率。於樣本測定期間，將可移動反射板6移動至置於光軸下，光接收部位3b可接收來自光投射部位3a所投射之經由可移動反射板6、固定反射板11、及可移動反射板6反射之光線，因此，前述比率與因而接收之光線強度被使用以估計將以基準件測定之光線強度，所估計之光線強度被使用以校正經由一樣本所接收之光線強度。
简体摘要：在依据本发明之一种光学自动测定方法中，将可移动反射板6移动至置于光轴下，光接收部位3b可接收自光投射部位3a所投射之经由可移动反射板6、固定反射板11、及可移动反射板6反射之光线，而将可移动反射板6自光轴移开且设置一基准件8在样本级台10上，光接收部位3b可接收自光投射部位3a所投射之经由基准件8反射的光线，从而判定在所接收光线之强度间的比率。于样本测定期间，将可移动反射板6移动至置于光轴下，光接收部位3b可接收来自光投射部位3a所投射之经由可移动反射板6、固定反射板11、及可移动反射板6反射之光线，因此，前述比率与因而接收之光线强度被使用以估计将以基准件测定之光线强度，所估计之光线强度被使用以校正经由一样本所接收之光线强度。

5. 发明专利

TW201007116A 膜厚測定裝置审中-公开
简体标题：膜厚测定设备
公开(公告)号：TW201007116A
公开(公告)日：2010-02-16
申请号：TW098115659
申请日：2009-05-12
申请人：大塚電子股份有限公司
发明人：藤森匡嘉 , 澤村義巳
IPC分类号： G01B
摘要：當測定光之波長愈長，則待測物所被測定之反射率波形之周期愈長。將InGaAs等各陣列元件針對波長以等間隔方式配置，如此一來，當波數愈小，波數所對應之各陣列元件的配置間隔愈大。為了使對應於波數且以既定周期變化之反射率波形能正確地被取樣，各陣列元件的配置間隔(波長解析度△λ)需滿足Nyquist取樣定理，藉由滿足該取樣定理，用以決定膜厚測定範圍之上限值 d max。
简体摘要：当测定光之波长愈长，则待测物所被测定之反射率波形之周期愈长。将InGaAs等各数组组件针对波长以等间隔方式配置，如此一来，当波数愈小，波数所对应之各数组组件的配置间隔愈大。为了使对应于波数且以既定周期变化之反射率波形能正确地被采样，各数组组件的配置间隔(波长分辨率△λ)需满足Nyquist采样定理，借由满足该采样定理，用以决定膜厚测定范围之上限值 d max。

6. 发明专利

TW201007117A 膜厚測定裝置及膜厚測定方法审中-公开
简体标题：膜厚测定设备及膜厚测定方法
公开(公告)号：TW201007117A
公开(公告)日：2010-02-16
申请号：TW098115660
申请日：2009-05-12
申请人：大塚電子股份有限公司
发明人：藤森匡嘉 , 澤村義巳
IPC分类号： G01B
摘要：模型化部份（721A）根據配適部份（722）之參數更新指令，用以依序更新第1層之膜厚d1，再根據更新後之第1層之膜厚d1，對顯示理論反射率之函數進行更新。進一步，模型化部份（721A）根據更新後之函數，算出各波長之理論反射率（頻譜）。根據此一方式，第1層之膜厚d1係用配適法決定。當配適無法於規定次數內收斂之情況下，則利用傅立葉轉換來決定第1層之膜厚d1。
简体摘要：模型化部份（721A）根据配适部份（722）之参数更新指令，用以依序更新第1层之膜厚d1，再根据更新后之第1层之膜厚d1，对显示理论反射率之函数进行更新。进一步，模型化部份（721A）根据更新后之函数，算出各波长之理论反射率（频谱）。根据此一方式，第1层之膜厚d1系用配适法决定。当配适无法于规定次数内收敛之情况下，则利用傅里叶转换来决定第1层之膜厚d1。

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