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2. 实用新型

TW538853U 研磨劑之均質裝置以及研磨劑供給系統失效
简体标题：研磨剂之均质设备以及研磨剂供给系统
公开(公告)号：TW538853U
公开(公告)日：2003-06-21
申请号：TW091206221
申请日：2002-05-03
申请人：南亞科技股份有限公司
发明人：羅屯元 , 許智斌 , 陳志焜
IPC分类号： B24B , B24C
CPC分类号： B24B37/04 , B01F7/00758 , B01F7/163 , B24B57/02
摘要：一種研磨劑之均質裝置，包括：一驅動裝置，具有一旋轉軸。一框架，具有一流出口，其中該框架係設置於該驅動裝置上。一防漏盤，具有一第一開孔，其中該防漏盤係設置於該框架內且位於該驅動裝置上，並且部分該旋轉軸係穿出該第一開孔。一濾網，設置於該框架內且位於該防漏盤上。一第一研磨墊，具有一第二開孔，其中該第一研磨墊係藉由該第二開孔而套設於該旋轉軸上，並且該第一研磨墊係設置於該濾網內且位於該防漏盤上方。一旋鈕，裝設於該旋轉軸上端，用以固定該第一研磨墊於該旋轉軸上。一蓋子，具有一中心管，其中該蓋子係設置於該框架上。一第二研磨墊，具有一第三開孔，其中該第二研磨墊係藉由該第三開孔而套設於該中心管上，並且該第二研磨墊係設置於該濾網內，且該第二研磨墊與該第一研磨墊之間具有一間隙。
简体摘要：一种研磨剂之均质设备，包括：一驱动设备，具有一旋转轴。一框架，具有一流出口，其中该框架系设置于该驱动设备上。一防漏盘，具有一第一开孔，其中该防漏盘系设置于该框架内且位于该驱动设备上，并且部分该旋转轴系穿出该第一开孔。一滤网，设置于该框架内且位于该防漏盘上。一第一研磨垫，具有一第二开孔，其中该第一研磨垫系借由该第二开孔而套设于该旋转轴上，并且该第一研磨垫系设置于该滤网内且位于该防漏盘上方。一旋钮，装设于该旋转轴上端，用以固定该第一研磨垫于该旋转轴上。一盖子，具有一中心管，其中该盖子系设置于该框架上。一第二研磨垫，具有一第三开孔，其中该第二研磨垫系借由该第三开孔而套设于该中心管上，并且该第二研磨垫系设置于该滤网内，且该第二研磨垫与该第一研磨垫之间具有一间隙。

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