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热词
    • 1. 实用新型
    • 研磨劑之均質裝置以及研磨劑供給系統
    • 研磨剂之均质设备以及研磨剂供给系统
    • TW538853U
    • 2003-06-21
    • TW091206221
    • 2002-05-03
    • 南亞科技股份有限公司
    • 羅屯元許智斌陳志焜
    • B24BB24C
    • B24B37/04B01F7/00758B01F7/163B24B57/02
    • 一種研磨劑之均質裝置,包括:一驅動裝置,具有一旋轉軸。一框架,具有一流出口,其中該框架係設置於該驅動裝置上。一防漏盤,具有一第一開孔,其中該防漏盤係設置於該框架內且位於該驅動裝置上,並且部分該旋轉軸係穿出該第一開孔。一濾網,設置於該框架內且位於該防漏盤上。一第一研磨墊,具有一第二開孔,其中該第一研磨墊係藉由該第二開孔而套設於該旋轉軸上,並且該第一研磨墊係設置於該濾網內且位於該防漏盤上方。一旋鈕,裝設於該旋轉軸上端,用以固定該第一研磨墊於該旋轉軸上。一蓋子,具有一中心管,其中該蓋子係設置於該框架上。一第二研磨墊,具有一第三開孔,其中該第二研磨墊係藉由該第三開孔而套設於該中心管上,並且該第二研磨墊係設置於該濾網內,且該第二研磨墊與該第一研磨墊之間具有一間隙。
    • 一种研磨剂之均质设备,包括:一驱动设备,具有一旋转轴。一框架,具有一流出口,其中该框架系设置于该驱动设备上。一防漏盘,具有一第一开孔,其中该防漏盘系设置于该框架内且位于该驱动设备上,并且部分该旋转轴系穿出该第一开孔。一滤网,设置于该框架内且位于该防漏盘上。一第一研磨垫,具有一第二开孔,其中该第一研磨垫系借由该第二开孔而套设于该旋转轴上,并且该第一研磨垫系设置于该滤网内且位于该防漏盘上方。一旋钮,装设于该旋转轴上端,用以固定该第一研磨垫于该旋转轴上。一盖子,具有一中心管,其中该盖子系设置于该框架上。一第二研磨垫,具有一第三开孔,其中该第二研磨垫系借由该第三开孔而套设于该中心管上,并且该第二研磨垫系设置于该滤网内,且该第二研磨垫与该第一研磨垫之间具有一间隙。
    • 2. 发明专利
    • 攪拌用旋轉體及攪拌裝置
    • 搅拌用旋转体及搅拌设备
    • TW201114480A
    • 2011-05-01
    • TW099119702
    • 2010-06-17
    • 村田和久
    • 村田和久
    • B01F
    • B01F7/163A47J43/0711B01F3/04539B01F7/00583B01F2003/04546B01F2003/04567B01F2215/005
    • 本發明的課題為提供一種不論任何用途都可安全且有效進行攪拌的攪拌用旋轉體及攪拌裝置。其解決手段為本發明涉及的攪拌用旋轉體(1),具備:以轉軸(C)為中心旋轉的主體(10);設置在主體(10)表面的吸入口(12);設置在主體(10)表面的吐出口(14);及連結吸入口(12)與吐出口(14)的流通路(16),吸入口(12)被配置在較吐出口(14)接近轉軸(C)的位置,吐出口(14)是被配置在比吸入口(12)從轉軸(C)朝著離心方向外側的位置。
    • 本发明的课题为提供一种不论任何用途都可安全且有效进行搅拌的搅拌用旋转体及搅拌设备。其解决手段为本发明涉及的搅拌用旋转体(1),具备:以转轴(C)为中心旋转的主体(10);设置在主体(10)表面的吸入口(12);设置在主体(10)表面的吐出口(14);及链接吸入口(12)与吐出口(14)的流通路(16),吸入口(12)被配置在较吐出口(14)接近转轴(C)的位置,吐出口(14)是被配置在比吸入口(12)从转轴(C)朝着离心方向外侧的位置。