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1. 发明专利

TW201411680A 用於反射電子束微影技術之線性平臺及精密測定架構审中-公开
简体标题：用于反射电子束微影技术之线性平台及精密测定架构
公开(公告)号：TW201411680A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102120833
申请日：2013-06-11
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：優美薩拉烏潘卓 , UMMETHALA, UPENDRA , 哈爾雷頓 , HALE, LAYTON , 克萊尼賈許 , CLYNE, JOSH , 奈飛薩米爾 , NAYFEH, SAMIR , 威廉斯馬克 , WILLIAMS, MARK , 迪瑞吉羅約瑟夫A , DIREGOLO, JOSEPH A. , 威爾森安卓 , WILSON, ANDREW
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/317 , G03F7/20
CPC分类号： G01B11/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G01B11/14 , G01B21/16 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70816 , H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/3174 , H01J2237/2445 , H01J2237/24578 , H01J2237/30433 , H01J2237/30438
摘要：本發明揭示一種適用於反射電子束微影技術(REBL)之平臺精密測定，其包含：一干涉儀平臺精密測定系統，其經組態以量測一短衝程晶圓掃描平臺之位置及旋轉，其中該干涉儀精密測定系統針對各量測軸包含兩個或更多個干涉儀，其中在該短衝程晶圓掃描平臺之一第一表面上安置一第一干涉儀反射鏡且在該短衝程晶圓掃描平臺之一第二表面上安置一第二干涉儀反射鏡；及一控制系統，其經組態以使用來自與該第一干涉儀反射鏡相關聯之該兩個或更多個干涉儀之兩個或更多個干涉儀量測判定該第一干涉儀反射鏡之一形狀誤差，且使用來自與該第二干涉儀反射鏡相關聯之該兩個或更多個干涉儀之兩個或更多個干涉儀量測判定該第二干涉儀反射鏡之一形狀誤差。
简体摘要：本发明揭示一种适用于反射电子束微影技术(REBL)之平台精密测定，其包含：一干涉仪平台精密测定系统，其经组态以量测一短冲程晶圆扫描平台之位置及旋转，其中该干涉仪精密测定系统针对各量测轴包含两个或更多个干涉仪，其中在该短冲程晶圆扫描平台之一第一表面上安置一第一干涉仪反射镜且在该短冲程晶圆扫描平台之一第二表面上安置一第二干涉仪反射镜；及一控制系统，其经组态以使用来自与该第一干涉仪反射镜相关联之该两个或更多个干涉仪之两个或更多个干涉仪量测判定该第一干涉仪反射镜之一形状误差，且使用来自与该第二干涉仪反射镜相关联之该两个或更多个干涉仪之两个或更多个干涉仪量测判定该第二干涉仪反射镜之一形状误差。

2. 发明专利

TW201346427A 用於超紫外線光罩之光化學性檢測之光罩定位裝置的配置审中-公开
简体标题：用于超紫外线光罩之光化学性检测之光罩定位设备的配置
公开(公告)号：TW201346427A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102112796
申请日：2013-04-10
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：瑟巴拉曼苑佩拉迪 , SUBRAHMANYAN, PRADEEP , 威廉斯馬克 , WILLIAMS, MARK , 奈飛薩米爾 , NAYFEH, SAMIR
IPC分类号： G03F1/22 , G03F1/82
CPC分类号： G01N21/01 , G03F1/84
摘要：本發明揭示一種用於光化學性超紫外線(EUV)光罩檢測之光罩定位設備，其包括：一密封檢測腔室，該密封檢測腔室含有用於固持一光罩之一光罩載物台。該光罩載物台具有其中一長行程在一「y」方向上之一磁性懸浮上載物台，及其中一長行程在一「x」方向上之一磁性懸浮下載物台；及藉由一纜線腔室壁而與該檢測腔室隔離之一纜線載物台腔室。該纜線載物台腔室具有在該「y」方向上可移動之一纜線載物台，及一管，其在一端連接至該光罩載物台且在另一端連接至該纜線載物台。該管從該纜線載物台通行穿過該檢測腔室穿過該腔室壁中之一密封件及開口而至在該纜線進入腔室中以使纜線及軟管進入該纜線載物台腔室內，該等纜線及軟管通行穿過該管至光罩載物台。
简体摘要：本发明揭示一种用于光化学性超紫外线(EUV)光罩检测之光罩定位设备，其包括：一密封检测腔室，该密封检测腔室含有用于固持一光罩之一光罩载物台。该光罩载物台具有其中一长行程在一“y”方向上之一磁性悬浮上载物台，及其中一长行程在一“x”方向上之一磁性悬浮下载物台；及借由一缆线腔室壁而与该检测腔室隔离之一缆线载物台腔室。该缆线载物台腔室具有在该“y”方向上可移动之一缆线载物台，及一管，其在一端连接至该光罩载物台且在另一端连接至该缆线载物台。该管从该缆线载物台通行穿过该检测腔室穿过该腔室壁中之一密封件及开口而至在该缆线进入腔室中以使缆线及软管进入该缆线载物台腔室内，该等缆线及软管通行穿过该管至光罩载物台。

3. 发明专利

TWI585804B 用於反射電子束微影技術之干涉儀平臺精密測定系統及方法有权
简体标题：用于反射电子束微影技术之干涉仪平台精密测定系统及方法
公开(公告)号：TWI585804B
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW102120833
申请日：2013-06-11
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：優美薩拉烏潘卓 , UMMETHALA, UPENDRA , 哈爾雷頓 , HALE, LAYTON , 克萊尼賈許 , CLYNE, JOSH , 奈飛薩米爾 , NAYFEH, SAMIR , 威廉斯馬克 , WILLIAMS, MARK , 迪瑞吉羅約瑟夫A , DIREGOLO, JOSEPH A. , 威爾森安卓 , WILSON, ANDREW
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/317 , G03F7/20
CPC分类号： G01B11/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G01B11/14 , G01B21/16 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70816 , H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/3174 , H01J2237/2445 , H01J2237/24578 , H01J2237/30433 , H01J2237/30438

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