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1. 发明专利

TWI646864B 用於極紫外光之產生之系統及方法有权
简体标题：用于极紫外光之产生之系统及方法
公开(公告)号：TWI646864B
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：TW103125205
申请日：2014-07-22
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：畢卡諾維亞歷山德爾 , BYKANOV, ALEXANDER , 可哈達金歐雷格 , KHODYKIN, OLEG , 威克丹尼爾C , WACK, DANIEL C. , 茲古金康士坦丁 , TSIGUTKIN, KONSTANTIN , 哈爾雷頓 , HALE, LAYTON , 瓦許喬瑟夫 , WALSH, JOSEPH , 區利塞法藍克 , CHILESE, FRANK
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20

2. 发明专利

TW201835678A 光罩及標線片檢測以及晶圓印刷檢查驗證之多重行間隔审中-公开
简体标题：光罩及标线片检测以及晶圆印刷检查验证之多重行间隔
公开(公告)号：TW201835678A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107103930
申请日：2018-02-05
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：海尼斯羅伯特 , HAYNES, ROBERT , 區利塞法藍克 , CHILESE, FRANK , 普瑞歐摩西 E , PREIL, MOSHE E.
IPC分类号： G03F1/44 , G03F1/70
摘要：本發明揭示一種用於一掃描電子顯微鏡(SEM)系統之多重行總成。該多重行總成包含配置成以一或多個間隔界定之一陣列之複數個電子光學行。每一電子光學行包含一或多個電子光學元件。該複數個電子光學行經組態以表徵固定於一載台上之一樣本之一表面上之一或多個場區。該複數個電子光學行中之電子光學行之數目等於該一或多個場區中之一場區中之檢測區之一整數數目。該複數個電子光學行之該一或多個間隔對應於該等檢測區之一或多個尺寸。
简体摘要：本发明揭示一种用于一扫描电子显微镜(SEM)系统之多重行总成。该多重行总成包含配置成以一或多个间隔界定之一数组之复数个电子光学行。每一电子光学行包含一或多个电子光学组件。该复数个电子光学行经组态以表征固定于一载台上之一样本之一表面上之一或多个场区。该复数个电子光学行中之电子光学行之数目等于该一或多个场区中之一场区中之检测区之一整数数目。该复数个电子光学行之该一或多个间隔对应于该等检测区之一或多个尺寸。

3. 发明专利

TW201423263A 使用噴水頭之鄰近光罩及光學儀器之粒子控制审中-公开
简体标题：使用喷水头之邻近光罩及光学仪器之粒子控制
公开(公告)号：TW201423263A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102134850
申请日：2013-09-26
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：迪爾賈杜吉爾達洛R , DELGADO, GILDARDO R. , 區利塞法藍克 , CHILESE, FRANK , 賈西亞盧狄 , GARCIA, RUDY , 圖爾茲辛基約翰R , TORCZYNSKI, JOHN R. , 傑勒安東尼S , GELLER, ANTHONY S. , 瑞德爾丹尼爾J , RADER, DANIEL J. , 克里班歐夫雷納德E , KLEBANOFF, LEONARD E. , 賈樂斯麥契爾A , GALLIS, MICHAIL A.
IPC分类号： G03F1/82 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70841 , G03F1/0092 , G03F1/84 , G03F7/70916 , G03F7/70933
摘要：本發明呈現一種方法及一種裝置，用於在一光化極紫外線(EUV)光罩檢測工具中保護一光罩免受粒子及化學品之害。該方法及該裝置利用呈噴水頭形式之一對多孔金屬擴散器以提供一持續不斷之純淨氣流。主要噴水頭以平穩流動的低壓氣體清洗待檢測之光罩表面，將其與來自周圍容積之粒子隔離。次要噴水頭背對該光罩且面朝該EUV照明及投影光學儀器，給他們供應淨化氣體，同時建立沒有任何源自該等光學儀器之粒子污染之一緩衝區域。
简体摘要：本发明呈现一种方法及一种设备，用于在一光化极紫外线(EUV)光罩检测工具中保护一光罩免受粒子及化学品之害。该方法及该设备利用呈喷水头形式之一对多孔金属扩散器以提供一持续不断之纯净气流。主要喷水头以平稳流动的低压气体清洗待检测之光罩表面，将其与来自周围容积之粒子隔离。次要喷水头背对该光罩且面朝该EUV照明及投影光学仪器，给他们供应净化气体，同时创建没有任何源自该等光学仪器之粒子污染之一缓冲区域。

4. 发明专利

TW201423079A 使用隧道流之粒子及化學控制审中-公开
简体标题：使用隧道流之粒子及化学控制
公开(公告)号：TW201423079A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102134853
申请日：2013-09-26
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：區利塞法藍克 , CHILESE, FRANK , 迪爾賈杜吉爾達洛R , DELGADO, GILDARDO R. , 瓦克丹尼爾 , WACK, DANIEL , 圖爾茲辛基約翰R , TORCZYNSKI, JOHN R. , 克里班歐夫雷納德E , KLEBANOFF, LEONARD E.
IPC分类号： G01N21/00 , G01N21/33
CPC分类号： G02B27/0006
摘要：本發明揭示一種用於污染控制之設備，其具有：一第一光學總成，該光學總成包含：一第一光均質器隧道，該隧道具有：連接至一極紫外線光源之一第一端部、與一目的腔室相連通之一第二端部、一第一封閉空間，及經配置以引入一第一氣體使得該第一氣體流沿一第一方向流向該第一端部且沿一第二方向流向該第二端部之一第一氣體輸入。替代地，該設備具有：一第二光學總成，該第二光學總成包含：一第二光均質器隧道，該隧道具有：連接至一極紫外線光源之一第三端部、與一目的腔室相連通之一第四端部、一第二封閉空間、包含面向該第四端部之一第五端部及與一目的腔室相連通之第六端部之一擴散障壁管，及該第二光均質器隧道與該擴散管之間之一第二氣體輸入。
简体摘要：本发明揭示一种用于污染控制之设备，其具有：一第一光学总成，该光学总成包含：一第一光均质器隧道，该隧道具有：连接至一极紫外线光源之一第一端部、与一目的腔室相连通之一第二端部、一第一封闭空间，及经配置以引入一第一气体使得该第一气体流沿一第一方向流向该第一端部且沿一第二方向流向该第二端部之一第一气体输入。替代地，该设备具有：一第二光学总成，该第二光学总成包含：一第二光均质器隧道，该隧道具有：连接至一极紫外线光源之一第三端部、与一目的腔室相连通之一第四端部、一第二封闭空间、包含面向该第四端部之一第五端部及与一目的腔室相连通之第六端部之一扩散障壁管，及该第二光均质器隧道与该扩散管之间之一第二气体输入。

5. 发明专利

TW201346440A 在極紫外光光罩檢查工具中之溫度控制审中-公开
简体标题：在极紫外光光罩检查工具中之温度控制
公开(公告)号：TW201346440A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102112735
申请日：2013-04-10
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：區利塞法藍克 , CHILESE, FRANK , 瓦克丹尼爾 , WACK, DANIEL , 佛勒道格拉斯 , FOWLER, DOUGLAS
IPC分类号： G03F1/84 , G01N21/956
CPC分类号： G03F7/20 , G01N2021/95676 , G03F1/22 , G03F1/84 , G03F7/70875 , G03F7/70891
摘要：本發明揭示一種裝置，其包括一光學器件總成及一板。該光學器件總成經組態以將來自一極紫外光(EUV)源之光聚焦至一光罩或感測器上。該板具有一開口以允許待穿過之該EUV光佈置於該光學器件總成與該光罩或感測器之間。該板被冷卻至小於該光罩或感測器之溫度之一溫度。該板經設計以平衡吸收自該光罩或感測器之熱與由該板吸收之熱。應強調，所提供之本摘要遵守要求一摘要允許一搜索者或其他讀者快速確定發明標的之規則。應瞭解，本摘要不會用於解釋或限制申請專利範圍之範疇或含義。
简体摘要：本发明揭示一种设备，其包括一光学器件总成及一板。该光学器件总成经组态以将来自一极紫外光(EUV)源之光聚焦至一光罩或传感器上。该板具有一开口以允许待穿过之该EUV光布置于该光学器件总成与该光罩或传感器之间。该板被冷却至小于该光罩或传感器之温度之一温度。该板经设计以平衡吸收自该光罩或传感器之热与由该板吸收之热。应强调，所提供之本摘要遵守要求一摘要允许一搜索者或其他读者快速确定发明标的之守则。应了解，本摘要不会用于解释或限制申请专利范围之范畴或含义。

6. 发明专利

TW201729648A 具有塗覆於圓柱形對稱元件上之靶材料的雷射產生之電漿光源审中-公开
简体标题：具有涂覆于圆柱形对称组件上之靶材料的激光产生之等离子光源
公开(公告)号：TW201729648A
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：TW105132150
申请日：2016-10-05
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：克里西恩亞歷克西 , KURITSYN, ALEXEY , 阿爾布萊恩 , AHR, BRIAN , 嘉西亞魯迪 F , GARCIA, RUDY F. , 區利塞法藍克 , CHILESE, FRANK , 可哈達金歐雷格 , KHODYKIN, OLEG
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/008
摘要：本發明針對於具有塗覆於一圓筒之外表面上之諸如氙之一靶材料之雷射產生之電漿光源。實施例包含用於旋轉該圓筒之軸承系統，該等軸承系統具有用於減少污染物材料及/或軸承氣體至LPP室中之洩漏之結構。揭示用於塗覆及補充該圓筒上之靶材料之注入系統。揭示用於製備該圓筒上之靶材料表面、例如使該靶材料表面平滑之刮刷器系統。亦揭示用於冷卻及維持該圓筒及上覆於該圓筒上之一殼體之溫度之系統。
简体摘要：本发明针对于具有涂覆于一圆筒之外表面上之诸如氙之一靶材料之激光产生之等离子光源。实施例包含用于旋转该圆筒之轴承系统，该等轴承系统具有用于减少污染物材料及/或轴承气体至LPP室中之泄漏之结构。揭示用于涂覆及补充该圆筒上之靶材料之注入系统。揭示用于制备该圆筒上之靶材料表面、例如使该靶材料表面平滑之刮刷器系统。亦揭示用于冷却及维持该圆筒及上覆于该圆筒上之一壳体之温度之系统。

7. 发明专利

TW201428421A 使用拋光矽晶圓條於極紫外光均質器之方法审中-公开
简体标题：使用抛光硅晶圆条于极紫外光均质器之方法
公开(公告)号：TW201428421A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：TW102143924
申请日：2013-11-29
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：王代冕 , WANG, DAIMIAN , 區利塞法藍克 , CHILESE, FRANK
IPC分类号： G03F1/84 , G03F7/20 , G01N21/94
CPC分类号： G02B19/0095 , G02B27/0994 , G03F1/22 , G03F1/84 , Y10T29/49002
摘要：本發明係具有高反射側而使得能夠聚焦極紫外光照明之光均質器或光隧道。該均質器之該等側係自高度拋光之矽晶圓切割。在自該晶圓切割條之前，用反射塗層塗覆該晶圓。本發明亦包含將該等條整平並向該等條施加背襯而使得能夠在組裝及使用期間更容易地操作該等條之方法。
简体摘要：本发明系具有高反射侧而使得能够聚焦极紫外光照明之光均质器或光隧道。该均质器之该等侧系自高度抛光之硅晶圆切割。在自该晶圆切割条之前，用反射涂层涂覆该晶圆。本发明亦包含将该等条整平并向该等条施加背衬而使得能够在组装及使用期间更容易地操作该等条之方法。

8. 发明专利

TW201519700A 用於極紫外光之產生之系統及方法审中-公开
简体标题：用于极紫外光之产生之系统及方法
公开(公告)号：TW201519700A
公开(公告)日：2015-05-16
申请号：TW103125205
申请日：2014-07-22
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：畢卡諾維亞歷山德爾 , BYKANOV, ALEXANDER , 可哈達金歐雷格 , KHODYKIN, OLEG , 威克丹尼爾C , WACK, DANIEL C. , 茲古金康士坦丁 , TSIGUTKIN, KONSTANTIN , 哈爾雷頓 , HALE, LAYTON , 瓦許喬瑟夫 , WALSH, JOSEPH , 區利塞法藍克 , CHILESE, FRANK
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
摘要：一種極紫外(EUV)光源包含：一可旋轉、圓柱形對稱元件，其具有經塗佈有一電漿形成標靶材料之一表面；一驅動雷射源，其經組態以產生足以經由藉由激發該電漿形成標靶材料形成一電漿而產生EUV光之一或多個雷射脈衝；一組聚焦光學器件，其等經組態以將該一或多個雷射脈衝聚焦至該可旋轉、圓柱形對稱元件之該表面上；一組集光光學器件，其等經組態以接收自該經產生之電漿發出之EUV光且進一步經組態以將照明引導至一中間焦點；及一氣體管理系統，其包含經組態以供應電漿形成標靶材料至該可旋轉、圓柱形對稱元件之該表面之一氣體供應子系統。
简体摘要：一种极紫外(EUV)光源包含：一可旋转、圆柱形对称组件，其具有经涂布有一等离子形成标靶材料之一表面；一驱动激光源，其经组态以产生足以经由借由激发该等离子形成标靶材料形成一等离子而产生EUV光之一或多个激光脉冲；一组聚焦光学器件，其等经组态以将该一或多个激光脉冲聚焦至该可旋转、圆柱形对称组件之该表面上；一组集光光学器件，其等经组态以接收自该经产生之等离子发出之EUV光且进一步经组态以将照明引导至一中间焦点；及一气体管理系统，其包含经组态以供应等离子形成标靶材料至该可旋转、圆柱形对称组件之该表面之一气体供应子系统。

9. 发明专利

TW201351037A 用於一極紫外光標線檢測工具之智慧記憶合金审中-公开
简体标题：用于一极紫外光标线检测工具之智能记忆合金
公开(公告)号：TW201351037A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW102113159
申请日：2013-04-12
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：德爾加多吉爾達多 , DELGADO, GILDARDO , 區利塞法藍克 , CHILESE, FRANK
IPC分类号： G03F1/84
CPC分类号： G02B27/0006 , G01N21/33 , G02B5/208 , G03F1/84 , G21K5/04 , G21K5/10
摘要：一種用於光化極紫外光(EUV)標線檢測之設備包含至少一個形狀記憶金屬致動器，該至少一個形狀記憶金屬致動器經調適以使一EUV檢測工具中之一檢測組件位移。一種用於光化EUV標線檢測之設備包含一傾斜機構，該傾斜機構包含經調適以使一EUV檢測工具中之一檢測組件有角度地位移之至少一個形狀記憶金屬致動器。一種用於光化EUV標線檢測之設備包含：一平移載台，其經調適以固定地連接至一檢測組件；至少一個撓性載台；及至少一個形狀記憶金屬致動器，其經調適以使該平移載台位移。
简体摘要：一种用于光化极紫外光(EUV)标线检测之设备包含至少一个形状记忆金属致动器，该至少一个形状记忆金属致动器经调适以使一EUV检测工具中之一检测组件位移。一种用于光化EUV标线检测之设备包含一倾斜机构，该倾斜机构包含经调适以使一EUV检测工具中之一检测组件有角度地位移之至少一个形状记忆金属致动器。一种用于光化EUV标线检测之设备包含：一平移载台，其经调适以固定地连接至一检测组件；至少一个挠性载台；及至少一个形状记忆金属致动器，其经调适以使该平移载台位移。

10. 发明专利

TW201351036A 用於一光化極紫外光標線檢測工具之索引光學审中-公开
简体标题：用于一光化极紫外光标线检测工具之索引光学
公开(公告)号：TW201351036A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW102113160
申请日：2013-04-12
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：德爾加多吉爾達多 , DELGADO, GILDARDO , 區利塞法藍克 , CHILESE, FRANK
IPC分类号： G03F1/82 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0006 , G01N21/33 , G02B5/208 , G03F1/84 , G21K5/04 , G21K5/10
摘要：本發明揭示一種用於減小對一極紫外光(EUV)標線檢測系統中之一光學元件之損壞及污染之方法，其包含：使一照射源對著一標線檢測系統；及在該照射源之路徑中將該光學元件自一第一部分位移至一第二部分，其中該第一部分被損壞且該第二部分未被損壞，且該光學元件具有複數個部分。
简体摘要：本发明揭示一种用于减小对一极紫外光(EUV)标线检测系统中之一光学组件之损坏及污染之方法，其包含：使一照射源对着一标线检测系统；及在该照射源之路径中将该光学组件自一第一部分位移至一第二部分，其中该第一部分被损坏且该第二部分未被损坏，且该光学组件具有复数个部分。

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