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1. 发明专利

TW201423263A 使用噴水頭之鄰近光罩及光學儀器之粒子控制审中-公开
简体标题：使用喷水头之邻近光罩及光学仪器之粒子控制
公开(公告)号：TW201423263A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102134850
申请日：2013-09-26
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：迪爾賈杜吉爾達洛R , DELGADO, GILDARDO R. , 區利塞法藍克 , CHILESE, FRANK , 賈西亞盧狄 , GARCIA, RUDY , 圖爾茲辛基約翰R , TORCZYNSKI, JOHN R. , 傑勒安東尼S , GELLER, ANTHONY S. , 瑞德爾丹尼爾J , RADER, DANIEL J. , 克里班歐夫雷納德E , KLEBANOFF, LEONARD E. , 賈樂斯麥契爾A , GALLIS, MICHAIL A.
IPC分类号： G03F1/82 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70841 , G03F1/0092 , G03F1/84 , G03F7/70916 , G03F7/70933
摘要：本發明呈現一種方法及一種裝置，用於在一光化極紫外線(EUV)光罩檢測工具中保護一光罩免受粒子及化學品之害。該方法及該裝置利用呈噴水頭形式之一對多孔金屬擴散器以提供一持續不斷之純淨氣流。主要噴水頭以平穩流動的低壓氣體清洗待檢測之光罩表面，將其與來自周圍容積之粒子隔離。次要噴水頭背對該光罩且面朝該EUV照明及投影光學儀器，給他們供應淨化氣體，同時建立沒有任何源自該等光學儀器之粒子污染之一緩衝區域。
简体摘要：本发明呈现一种方法及一种设备，用于在一光化极紫外线(EUV)光罩检测工具中保护一光罩免受粒子及化学品之害。该方法及该设备利用呈喷水头形式之一对多孔金属扩散器以提供一持续不断之纯净气流。主要喷水头以平稳流动的低压气体清洗待检测之光罩表面，将其与来自周围容积之粒子隔离。次要喷水头背对该光罩且面朝该EUV照明及投影光学仪器，给他们供应净化气体，同时创建没有任何源自该等光学仪器之粒子污染之一缓冲区域。

2. 发明专利

TW201423079A 使用隧道流之粒子及化學控制审中-公开
简体标题：使用隧道流之粒子及化学控制
公开(公告)号：TW201423079A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102134853
申请日：2013-09-26
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：區利塞法藍克 , CHILESE, FRANK , 迪爾賈杜吉爾達洛R , DELGADO, GILDARDO R. , 瓦克丹尼爾 , WACK, DANIEL , 圖爾茲辛基約翰R , TORCZYNSKI, JOHN R. , 克里班歐夫雷納德E , KLEBANOFF, LEONARD E.
IPC分类号： G01N21/00 , G01N21/33
CPC分类号： G02B27/0006
摘要：本發明揭示一種用於污染控制之設備，其具有：一第一光學總成，該光學總成包含：一第一光均質器隧道，該隧道具有：連接至一極紫外線光源之一第一端部、與一目的腔室相連通之一第二端部、一第一封閉空間，及經配置以引入一第一氣體使得該第一氣體流沿一第一方向流向該第一端部且沿一第二方向流向該第二端部之一第一氣體輸入。替代地，該設備具有：一第二光學總成，該第二光學總成包含：一第二光均質器隧道，該隧道具有：連接至一極紫外線光源之一第三端部、與一目的腔室相連通之一第四端部、一第二封閉空間、包含面向該第四端部之一第五端部及與一目的腔室相連通之第六端部之一擴散障壁管，及該第二光均質器隧道與該擴散管之間之一第二氣體輸入。
简体摘要：本发明揭示一种用于污染控制之设备，其具有：一第一光学总成，该光学总成包含：一第一光均质器隧道，该隧道具有：连接至一极紫外线光源之一第一端部、与一目的腔室相连通之一第二端部、一第一封闭空间，及经配置以引入一第一气体使得该第一气体流沿一第一方向流向该第一端部且沿一第二方向流向该第二端部之一第一气体输入。替代地，该设备具有：一第二光学总成，该第二光学总成包含：一第二光均质器隧道，该隧道具有：连接至一极紫外线光源之一第三端部、与一目的腔室相连通之一第四端部、一第二封闭空间、包含面向该第四端部之一第五端部及与一目的腔室相连通之第六端部之一扩散障壁管，及该第二光均质器隧道与该扩散管之间之一第二气体输入。

3. 发明专利

TWI607209B 使用隧道流之粒子及化學控制有权
简体标题：使用隧道流之粒子及化学控制
公开(公告)号：TWI607209B
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW102134853
申请日：2013-09-26
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：區利塞法藍克 , CHILESE, FRANK , 迪爾賈杜吉爾達洛R , DELGADO, GILDARDO R. , 瓦克丹尼爾 , WACK, DANIEL , 圖爾茲辛基約翰R , TORCZYNSKI, JOHN R. , 克里班歐夫雷納德E , KLEBANOFF, LEONARD E.
IPC分类号： G01N21/00 , G01N21/33
CPC分类号： G02B27/0006

4. 发明专利

TWI597566B 使用噴水頭之鄰近光罩及光學儀器之粒子控制有权
简体标题：使用喷水头之邻近光罩及光学仪器之粒子控制
公开(公告)号：TWI597566B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW102134850
申请日：2013-09-26
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：迪爾賈杜吉爾達洛R , DELGADO, GILDARDO R. , 區利塞法藍克 , CHILESE, FRANK , 賈西亞盧狄 , GARCIA, RUDY , 圖爾茲辛基約翰R , TORCZYNSKI, JOHN R. , 傑勒安東尼S , GELLER, ANTHONY S. , 瑞德爾丹尼爾J , RADER, DANIEL J. , 克里班歐夫雷納德E , KLEBANOFF, LEONARD E. , 賈樂斯麥契爾A , GALLIS, MICHAIL A.
IPC分类号： G03F1/82 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70841 , G03F1/0092 , G03F1/84 , G03F7/70916 , G03F7/70933

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