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    • 3. 发明专利
    • 微構造體用樹脂構造體之製造方法及微構造體之製造方法
    • 微构造体用树脂构造体之制造方法及微构造体之制造方法
    • TW201432384A
    • 2014-08-16
    • TW102132997
    • 2013-09-12
    • 信越化學工業股份有限公司SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
    • 平野禎典HIRANO, YOSHINORI飯尾匡史IIO, MASASHI柳澤秀好YANAGISAWA, HIDEYOSHI
    • G03F7/039C08F12/04C08F20/18H01L21/311H01L21/3065
    • G03F7/2024G03F7/0392G03F7/0397G03F7/40
    • 本發明之解決手段係:一種微構造體用樹脂構造體之製造方法,其係包含:(A)使用含有(1)高分子化合物、(2)光酸產生劑、與(3)有機溶劑之光圖型形成性膜形成用組成物,於基板上塗佈為具有1~30μm之膜厚的光圖型形成性犧牲膜之步驟、(B)將經塗佈上述組成物之基板加熱的步驟、(C)對上述犧牲膜,使用第1高能量線,進行沿著圖型佈局影像之照射的步驟、(D)以鹼性顯影液之顯影,形成犧牲膜圖型之步驟、(E)對所得之犧牲膜圖型進行作為第2高能量線之紫外線的照射之步驟、(F)將基板於100~250℃加熱之步驟,且(C)步驟中之第1高能量線之照射量為250mJ/cm2以下,(F)步驟後之基板與犧牲膜之側壁角度係保持80°以上、90°以下。本發明之效果係:藉由本發明之製造方法,係高感度地形成微細構造之圖型,且可製作耐熱性高之犧牲層圖型。
    • 本发明之解决手段系:一种微构造体用树脂构造体之制造方法,其系包含:(A)使用含有(1)高分子化合物、(2)光酸产生剂、与(3)有机溶剂之光图型形成性膜形成用组成物,于基板上涂布为具有1~30μm之膜厚的光图型形成性牺牲膜之步骤、(B)将经涂布上述组成物之基板加热的步骤、(C)对上述牺牲膜,使用第1高能量线,进行沿着图型布局影像之照射的步骤、(D)以碱性显影液之显影,形成牺牲膜图型之步骤、(E)对所得之牺牲膜图型进行作为第2高能量线之紫外线的照射之步骤、(F)将基板于100~250℃加热之步骤,且(C)步骤中之第1高能量线之照射量为250mJ/cm2以下,(F)步骤后之基板与牺牲膜之侧壁角度系保持80°以上、90°以下。本发明之效果系:借由本发明之制造方法,系高感度地形成微细构造之图型,且可制作耐热性高之牺牲层图型。