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1. 发明专利

TW201302419A 壓印裝置與物品的製造方法审中-公开
简体标题：压印设备与物品的制造方法
公开(公告)号：TW201302419A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101123501
申请日：2012-06-29
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：服部正 , HATTORI, TADASHI
IPC分类号： B29C43/58 , B29C59/02
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C2059/023 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要：一種壓印裝置，包括：第一驅動機構，配置來移動模具夾持具及基材夾持具之其中至少一者，藉此模具及壓印材料彼此接觸；第二驅動機構，配置來移動該等夾持具之其中至少一者，藉此該基材與該模具定位；量測裝置，配置來在該模具及該壓印材料未彼此接觸的狀態中量測模具標記及基材標記之間的相對位置；及控制器，配置來控制該第二驅動機構，根據該等夾持具之至少一者的移動量，與該等標記之間的相對位置中的改變之間的關係的資訊、該移動量的資訊、以及該等已量測相對位置的資訊。
简体摘要：一种压印设备，包括：第一驱动机构，配置来移动模具夹持具及基材夹持具之其中至少一者，借此模具及压印材料彼此接触；第二驱动机构，配置来移动该等夹持具之其中至少一者，借此该基材与该模具定位；量测设备，配置来在该模具及该压印材料未彼此接触的状态中量测模具标记及基材标记之间的相对位置；及控制器，配置来控制该第二驱动机构，根据该等夹持具之至少一者的移动量，与该等标记之间的相对位置中的改变之间的关系的信息、该移动量的信息、以及该等已量测相对位置的信息。

2. 发明专利

TWI567790B 壓印裝置及製造物品的方法有权
简体标题：压印设备及制造物品的方法
公开(公告)号：TWI567790B
公开(公告)日：2017-01-21
申请号：TW104142299
申请日：2015-12-16
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：服部正 , HATTORI, TADASHI
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02 , G03F7/00
CPC分类号： B29C43/58 , B29C33/424 , B29C2043/5825 , B29C2043/5833 , B29L2031/34 , G03F7/0002 , H01L21/02318

3. 发明专利

TW201633372A 壓印裝置及製造物品的方法审中-公开
简体标题：压印设备及制造物品的方法
公开(公告)号：TW201633372A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW104142299
申请日：2015-12-16
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：服部正 , HATTORI, TADASHI
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02 , G03F7/00
CPC分类号： B29C43/58 , B29C33/424 , B29C2043/5825 , B29C2043/5833 , B29L2031/34 , G03F7/0002 , H01L21/02318
摘要：本發明提供壓印裝置，其藉由使用模具來在基板上的壓印材料上形成圖案。所述壓印裝置包括：測量單元，其被建構為在與使所述模具與所述壓印材料接觸的第一位置不同的第二位置，測量所述基板的面的傾斜；以及控制單元，其被建構為在使所述模具與所述壓印材料在所述第一位置接觸時，控制所述模具的面和所述基板的面中至少一者的傾斜，其中，所述控制單元基於表示在所述第一位置和所述第二位置的基準基板的面的傾斜的資訊以及由所述測量單元獲得的測量結果，來控制所述至少一者的傾斜。
简体摘要：本发明提供压印设备，其借由使用模具来在基板上的压印材料上形成图案。所述压印设备包括：测量单元，其被建构为在与使所述模具与所述压印材料接触的第一位置不同的第二位置，测量所述基板的面的倾斜；以及控制单元，其被建构为在使所述模具与所述压印材料在所述第一位置接触时，控制所述模具的面和所述基板的面中至少一者的倾斜，其中，所述控制单元基于表示在所述第一位置和所述第二位置的基准基板的面的倾斜的信息以及由所述测量单元获得的测量结果，来控制所述至少一者的倾斜。

4. 发明专利

TWI554378B 壓印裝置與物品的製造方法有权
简体标题：压印设备与物品的制造方法
公开(公告)号：TWI554378B
公开(公告)日：2016-10-21
申请号：TW101123501
申请日：2012-06-29
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：服部正 , HATTORI, TADASHI
IPC分类号： B29C43/58 , B29C59/02
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C2059/023 , B82Y10/00 , B82Y40/00

5. 发明专利

TW201007373A 曝光設備及裝置製造方法 EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE 审中-公开
简体标题：曝光设备及设备制造方法 EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE
公开(公告)号：TW201007373A
公开(公告)日：2010-02-16
申请号：TW098118211
申请日：2009-06-02
申请人：佳能股份有限公司
发明人：服部正
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70775 , G03F7/70508 , G03F7/70525 , G03F7/70725
摘要：一種曝光設備包括第一測量裝置、第二測量裝置、及控制器。當在第一方向上掃描基板台時，第一測量裝置測量投射光學系統的光軸方向上之基板台的位置。在基板上於第二方向上延伸的一個直線上的多個測量點處，第二測量裝置測量投射光學系統的光軸方向上之基板的表面位置。控制器控制第二測量裝置，以在基板台在第二方向上步進式地移動之前及之後，在多個測量點中的不同測量點處，測量基板上的至少一相同區，以及，根據由第二測量裝置所取得的測量結果，計算歸因於第二方向上基板台的驅動之第一測量裝置的測量誤差。
简体摘要：一种曝光设备包括第一测量设备、第二测量设备、及控制器。当在第一方向上扫描基板台时，第一测量设备测量投射光学系统的光轴方向上之基板台的位置。在基板上于第二方向上延伸的一个直在线的多个测量点处，第二测量设备测量投射光学系统的光轴方向上之基板的表面位置。控制器控制第二测量设备，以在基板台在第二方向上步进式地移动之前及之后，在多个测量点中的不同测量点处，测量基板上的至少一相同区，以及，根据由第二测量设备所取得的测量结果，计算归因于第二方向上基板台的驱动之第一测量设备的测量误差。

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