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1. 发明专利

TWI444493B 成膜裝置有权
简体标题：成膜设备
公开(公告)号：TWI444493B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW101114915
申请日：2012-04-26
申请人：佳能安內華股份有限公司 , CANON ANELVA CORPORATION
发明人：木尾原雄二 , KAJIHARA, YUJI , 安松保志 , YASUMATSU, YASUSHI , 小長和也 , KONAGA, KAZUYA
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/564 , C23C14/3464 , H01J37/32899 , H01J37/3417 , H01J37/3429 , H01J37/3435 , H01J37/3447

2. 发明专利

TWI444494B 鍍膜裝置有权
简体标题：镀膜设备
公开(公告)号：TWI444494B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW101122993
申请日：2012-06-27
申请人：佳能安內華股份有限公司 , CANON ANELVA CORPORATION
发明人：木尾原雄二 , KAJIHARA, YUJI , 安松保志 , YASUMATSU, YASUSHI , 小長和也 , KONAGA, KAZUYA
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/54
CPC分类号： C23C14/3464 , C23C14/04 , C23C14/3407 , C23C14/505 , C23C14/54 , C23C14/564 , H01J37/3417 , H01J37/3429 , H01J37/3435 , H01J37/3447

3. 发明专利

TW201307596A 鍍膜裝置审中-公开
简体标题：镀膜设备
公开(公告)号：TW201307596A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW101122993
申请日：2012-06-27
申请人：佳能安內華股份有限公司 , CANON ANELVA CORPORATION
发明人：木尾原雄二 , KAJIHARA, YUJI , 安松保志 , YASUMATSU, YASUSHI , 小長和也 , KONAGA, KAZUYA
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/54
CPC分类号： C23C14/3464 , C23C14/04 , C23C14/3407 , C23C14/505 , C23C14/54 , C23C14/564 , H01J37/3417 , H01J37/3429 , H01J37/3435 , H01J37/3447
摘要：提供一種鍍膜裝置，可以減少靶材間的污染發生。鍍膜裝置，其特徵為，具備：設有安裝有靶材的安裝面的複數靶材電極、及由相面對於前述複數靶材電極的位置將基板保持的基板支架、及在前述複數靶材電極及前述基板支架之間可旋轉地被設置且具有可與前述安裝面相面對的複數開口的第1擋板構件、及鄰接配置於前述第1擋板構件且設有與前述靶材電極的數量等同數量的開口的遮蔽構件，前述第1擋板構件及前述遮蔽構件的間隙，是從相鄰接的前述靶材電極的最近接部朝向外周側擴大。
简体摘要：提供一种镀膜设备，可以减少靶材间的污染发生。镀膜设备，其特征为，具备：设有安装有靶材的安装面的复数靶材电极、及由相面对于前述复数靶材电极的位置将基板保持的基板支架、及在前述复数靶材电极及前述基板支架之间可旋转地被设置且具有可与前述安装面相面对的复数开口的第1挡板构件、及邻接配置于前述第1挡板构件且设有与前述靶材电极的数量等同数量的开口的屏蔽构件，前述第1挡板构件及前述屏蔽构件的间隙，是从相邻接的前述靶材电极的最近接部朝向外周侧扩大。

4. 发明专利

TWI477631B 鍍膜裝置有权
简体标题：镀膜设备
公开(公告)号：TWI477631B
公开(公告)日：2015-03-21
申请号：TW101123887
申请日：2012-07-03
申请人：佳能安內華股份有限公司 , CANON ANELVA CORPORATION
发明人：木尾原雄二 , KAJIHARA, YUJI , 安松保志 , YASUMATSU, YASUSHI , 小長和也 , KONAGA, KAZUYA
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/34 , C23C14/3464 , C23C14/564 , H01J37/3441 , H01J37/3447

5. 发明专利

TW201311917A 鍍膜裝置审中-公开
简体标题：镀膜设备
公开(公告)号：TW201311917A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101123887
申请日：2012-07-03
申请人：佳能安內華股份有限公司 , CANON ANELVA CORPORATION
发明人：木尾原雄二 , KAJIHARA, YUJI , 安松保志 , YASUMATSU, YASUSHI , 小長和也 , KONAGA, KAZUYA
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/34 , C23C14/3464 , C23C14/564 , H01J37/3441 , H01J37/3447
摘要：鍍膜裝置，是具有：設有安裝有靶材的安裝面的複數靶材電極、及使前述基板被保持在相面對於前述複數靶材電極的位置的基板支架、及可旋轉地被設在前述複數靶材電極及前述基板支架之間且具有旋轉時相面對於前述安裝面的複數開口的第1擋板構件、及前述第1擋板構件的2個面之中被配置於前述靶材電極側的面中的前述第1擋板構件的開口及開口之間的第1分離部、及被配置於前述第1擋板構件及前述靶材電極之間的第2分離部。記第1擋板構件，是使在前述第1分離部及前述第2分離部之間形成迷宮的方式使前述第1分離部及前述第2分離部相互接近，就可以使前述第1擋板旋轉且將前述第1分離部及前述第2分離部分離的方式被驅動。
简体摘要：镀膜设备，是具有：设有安装有靶材的安装面的复数靶材电极、及使前述基板被保持在相面对于前述复数靶材电极的位置的基板支架、及可旋转地被设在前述复数靶材电极及前述基板支架之间且具有旋转时相面对于前述安装面的复数开口的第1挡板构件、及前述第1挡板构件的2个面之中被配置于前述靶材电极侧的面中的前述第1挡板构件的开口及开口之间的第1分离部、及被配置于前述第1挡板构件及前述靶材电极之间的第2分离部。记第1挡板构件，是使在前述第1分离部及前述第2分离部之间形成迷宫的方式使前述第1分离部及前述第2分离部相互接近，就可以使前述第1挡板旋转且将前述第1分离部及前述第2分离部分离的方式被驱动。

6. 发明专利

TW201307594A 成膜裝置审中-公开
简体标题：成膜设备
公开(公告)号：TW201307594A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW101114915
申请日：2012-04-26
申请人：佳能安內華股份有限公司 , CANON ANELVA CORPORATION
发明人：木尾原雄二 , KAJIHARA, YUJI , 安松保志 , YASUMATSU, YASUSHI , 小長和也 , KONAGA, KAZUYA
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/564 , C23C14/3464 , H01J37/32899 , H01J37/3417 , H01J37/3429 , H01J37/3435 , H01J37/3447
摘要：提供一種成膜裝置，該成膜裝置是利用遮擋裝置而能夠選擇靶材，且能夠防止發生在靶材間的污染。成膜裝置(10)，是具備：具有各別可旋轉之第1遮擋板(65)及第2遮擋板(67)的遮擋裝置(54)，及被固定於靶材電極(C)的第1遮擋板(65)側的上部遮蔽板(63)。又，在第1遮擋板(65)之朝靶材電極(C)側的面，設有用以夾隔開口(65a)的旋轉分離壁(72)，而在上部遮蔽板(63)之朝第1遮擋板(65)側的面，設有用以夾隔開口(65a，63a)的固定分離壁(71)。成膜處理時，藉由以旋轉第1遮擋板(65)，在旋轉分離壁(72)與固定分離壁(71)之間形成曲折迷宮(labyrinth)的方式，而能夠防止靶材(T)間的污染。
简体摘要：提供一种成膜设备，该成膜设备是利用遮挡设备而能够选择靶材，且能够防止发生在靶材间的污染。成膜设备(10)，是具备：具有各别可旋转之第1遮挡板(65)及第2遮挡板(67)的遮挡设备(54)，及被固定于靶材电极(C)的第1遮挡板(65)侧的上部屏蔽板(63)。又，在第1遮挡板(65)之朝靶材电极(C)侧的面，设有用以夹隔开口(65a)的旋转分离壁(72)，而在上部屏蔽板(63)之朝第1遮挡板(65)侧的面，设有用以夹隔开口(65a，63a)的固定分离壁(71)。成膜处理时，借由以旋转第1遮挡板(65)，在旋转分离壁(72)与固定分离壁(71)之间形成曲折迷宫(labyrinth)的方式，而能够防止靶材(T)间的污染。

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