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    • 1. 发明专利
    • 位移致動器 MOTION ACTUATOR
    • 位移致动器 MOTION ACTUATOR
    • TW200520361A
    • 2005-06-16
    • TW092133934
    • 2003-12-02
    • 中央研究院 ACADEMIA SINICA
    • 黃英碩 HWANG, ING SHOUH洪紹剛 HUNG, SHAO KANG張振勝 TIN, CHENG-SHING胡恩德 HU, EDWIN
    • H02N
    • 本發明所提出之位移致動器,係具有一特定造型之移動銷及一本體。該本體具有一基座平台,及機座平台上之一伸縮裝置,用以驅動該移動銷;及二夾頭。機座平台、伸縮裝置及二夾頭可形成單一之本體構件。該伸縮裝置之伸縮動作可改變二夾頭之間距。該伸縮裝置之伸縮與該二夾具之夾放動作則分別由三個雙態(bimorph)機構所控制。每一個致動機構則是將一段縱切之圓筒形壓電材料管,置入一具有薄壁之孔洞,設於該本體構件中而形成。該本體及該移動銷可以陶瓷(例如MACOR)或金屬材料(例如不銹鋼)製成。移動銷可為中空,用以裝持所移動之裝置或物品。依序對該三壓電材料管施以電壓或不施電壓,可以致動該二夾頭及/或伸縮裝置,而使該移動銷以微小距離相對該基座平台作軸向運動。移動銷之上表面削平,以防止移動銷在作軸向移動時產生不必要之轉動。而該移動銷係由各夾頭之底部,各以二面與該移動銷呈線接觸夾持,以減少接觸面積。
    • 本发明所提出之位移致动器,系具有一特定造型之移动销及一本体。该本体具有一基座平台,及机座平台上之一伸缩设备,用以驱动该移动销;及二夹头。机座平台、伸缩设备及二夹头可形成单一之本体构件。该伸缩设备之伸缩动作可改变二夹头之间距。该伸缩设备之伸缩与该二夹具之夹放动作则分别由三个双态(bimorph)机构所控制。每一个致动机构则是将一段纵切之圆筒形压电材料管,置入一具有薄壁之孔洞,设于该本体构件中而形成。该本体及该移动销可以陶瓷(例如MACOR)或金属材料(例如不锈钢)制成。移动销可为中空,用以装持所移动之设备或物品。依序对该三压电材料管施以电压或不施电压,可以致动该二夹头及/或伸缩设备,而使该移动销以微小距离相对该基座平台作轴向运动。移动销之上表面削平,以防止移动销在作轴向移动时产生不必要之转动。而该移动销系由各夹头之底部,各以二面与该移动销呈线接触夹持,以减少接触面积。
    • 3. 发明专利
    • 位移致動器 MOTION ACTUATOR
    • 位移致动器 MOTION ACTUATOR
    • TWI243531B
    • 2005-11-11
    • TW092133934
    • 2003-12-02
    • 中央研究院 ACADEMIA SINICA
    • 黃英碩 HWANG, ING SHOUH洪紹剛 HUNG, SHAO KANG張振勝 TIN, CHENG-SHING胡恩德 HU, EDWIN
    • H02N
    • 本發明所提出之位移致動器,係具有一特定造型之移動銷及一本體。該本體具有一基座平台,及機座平台上之一伸縮裝置,用以驅動該移動銷;及二夾頭。機座平台、伸縮裝置及二夾頭可形成單一之本體構件。該伸縮裝置之伸縮動作可改變二夾頭之間距。該伸縮裝置之伸縮與該二夾具之夾放動作則分別由三個雙態(bimorph)機構所控制。每一個致動機構則是將一段縱切之圓筒形壓電材料管,置入一具有薄壁之孔洞,設於該本體構件中而形成。
      該本體及該移動銷可以陶瓷(例如MACOR)或金屬材料(例如不銹鋼)製成。移動銷可為中空,用以裝持所移動之裝置或物品。依序對該三壓電材料管施以電壓或不施電壓,可以致動該二夾頭及/或伸縮裝置,而使該移動銷以微小距離相對該基座平台作軸向運動。移動銷之上表面削平,以防止移動銷在作軸向移動時產生不必要之轉動。而該移動銷係由各夾頭之底部,各以二面與該移動銷呈線接觸夾持,以減少接觸面積。
    • 本发明所提出之位移致动器,系具有一特定造型之移动销及一本体。该本体具有一基座平台,及机座平台上之一伸缩设备,用以驱动该移动销;及二夹头。机座平台、伸缩设备及二夹头可形成单一之本体构件。该伸缩设备之伸缩动作可改变二夹头之间距。该伸缩设备之伸缩与该二夹具之夹放动作则分别由三个双态(bimorph)机构所控制。每一个致动机构则是将一段纵切之圆筒形压电材料管,置入一具有薄壁之孔洞,设于该本体构件中而形成。 该本体及该移动销可以陶瓷(例如MACOR)或金属材料(例如不锈钢)制成。移动销可为中空,用以装持所移动之设备或物品。依序对该三压电材料管施以电压或不施电压,可以致动该二夹头及/或伸缩设备,而使该移动销以微小距离相对该基座平台作轴向运动。移动销之上表面削平,以防止移动销在作轴向移动时产生不必要之转动。而该移动销系由各夹头之底部,各以二面与该移动销呈线接触夹持,以减少接触面积。
    • 4. 发明专利
    • 掃針式原子力顯微鏡之光束追踪系統 BEAM TRACKING SYSTEM FOR SCANNING-PROBE TYPE ATOMIC FORCE MICROSCOPE
    • 扫针式原子力显微镜之光束追踪系统 BEAM TRACKING SYSTEM FOR SCANNING-PROBE TYPE ATOMIC FORCE MICROSCOPE
    • TWI285273B
    • 2007-08-11
    • TW094111270
    • 2005-04-08
    • 中央研究院 ACADEMIA SINICA
    • 黃英碩 HWANG, ING SHOUH洪紹剛 HUNG, SHAO KANG傅立成 FU, LI CHEN林明彥 LIN, MING YEN
    • G02B
    • 掃針式原子力顯微鏡之探針,在掃描過程中會有水平方向之位移及垂直方向之運動,而樣品則固定不動。因掃描運動對探針產生之假性撓曲,應設法加以補償。本發明之原子力顯微鏡之光束追踪系統設計成使該聚焦雷射光點在掃描過程之三度空間運動中,始終能追踪該探針之懸臂上之同一點。如果樣品與探針間距離太遠,且無法產生撓曲。則使雷射光束由運動中之懸臂所反射回來之雷射光束射中光學偵測器上一定點。依據本發明所設計之光路機構,可將水平方向及垂直方向之追踪誤差限制在小於0.3nm(於掃描距離為4μgm時)至小於12nm(掃描距離為100μm時)之間。
    • 扫针式原子力显微镜之探针,在扫描过程中会有水平方向之位移及垂直方向之运动,而样品则固定不动。因扫描运动对探针产生之假性挠曲,应设法加以补偿。本发明之原子力显微镜之光束追踪系统设计成使该聚焦激光光点在扫描过程之三度空间运动中,始终能追踪该探针之悬臂上之同一点。如果样品与探针间距离太远,且无法产生挠曲。则使激光光束由运动中之悬臂所反射回来之激光光束射中光学侦测器上一定点。依据本发明所设计之光路机构,可将水平方向及垂直方向之追踪误差限制在小于0.3nm(于扫描距离为4μgm时)至小于12nm(扫描距离为100μm时)之间。
    • 5. 发明专利
    • 物體表面高度、角度及其變化之量測系統 SYSTEM FOR MEASUREMENT OF HEIGHT, ANGLE AND THEIR VARIATIONS OF SURFACE OF ARTICLES
    • 物体表面高度、角度及其变化之量测系统 SYSTEM FOR MEASUREMENT OF HEIGHT, ANGLE AND THEIR VARIATIONS OF SURFACE OF ARTICLES
    • TWI264520B
    • 2006-10-21
    • TW094138312
    • 2005-11-01
    • 中央研究院 ACADEMIA SINICA
    • 黃英碩 HWANG, ING SHOUH胡恩德 HU, EN TE黃光裕 HUANG, KUANG YUH
    • G01B
    • 本發明提供一種新穎的物體表面高度、角度及其變化之量測系統。本發明之光路架構中,雷射光束經透鏡組聚焦於一待測物表面上,反射後再經該透鏡組聚焦,通過一可產生像散之鏡片,射入置於適當距離之光感測器,並在其上形成光點。當雷射光在待測物表面投射點之高度產生變化,例如待測物位置平移,或角度發生偏折時,反射聚焦光束於光感測器上之光點形狀與位置也發生變化。由光感測器產生之訊號運算後,可得到對焦誤差訊號(用於偵測待測物在雷射光軸方向的直線位移)、X軸角度訊號(用於偵測待測物以垂直雷射光軸的角度運動)與 Y軸角度訊號(用於偵測待測物以垂直雷射光與X軸的角度運動),藉此可同時針對雷射光在待測物表面之投射點高度與兩軸角度偏折變化作非接觸式之精密量測。
    • 本发明提供一种新颖的物体表面高度、角度及其变化之量测系统。本发明之光路架构中,激光光束经透镜组聚焦于一待测物表面上,反射后再经该透镜组聚焦,通过一可产生像散之镜片,射入置于适当距离之光传感器,并在其上形成光点。当激光光在待测物表面投射点之高度产生变化,例如待测物位置平移,或角度发生偏折时,反射聚焦光束于光传感器上之光点形状与位置也发生变化。由光传感器产生之信号运算后,可得到对焦误差信号(用于侦测待测物在激光光轴方向的直线位移)、X轴角度信号(用于侦测待测物以垂直激光光轴的角度运动)与 Y轴角度信号(用于侦测待测物以垂直激光光与X轴的角度运动),借此可同时针对激光光在待测物表面之投射点高度与两轴角度偏折变化作非接触式之精密量测。