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1. 实用新型

TWM457961U X光管有权
公开(公告)号：TWM457961U
公开(公告)日：2013-07-21
申请号：TW102200975
申请日：2013-01-16
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：柳鵬 , LIU, PENG , 杜秉初 , DU, BING-CHU , 周段亮 , ZHOU, DUAN-LIANG , 張春海 , ZHANG, CHUN-HAI , 范守善 , FAN, SHOU-SHAN
IPC分类号： H01J35/02
CPC分类号： H01J35/065 , H01J2201/30469

2. 发明专利

TWI576013B 雷射生成電漿光源中緩衝氣流穩定化的系統與方法有权
简体标题：激光生成等离子光源中缓冲气流稳定化的系统与方法
公开(公告)号：TWI576013B
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：TW101116337
申请日：2012-05-08
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：弗魯羅夫弗拉迪米爾B , FLEUROV, VLADIMIR B. , 派特洛威廉N , PARTLO, WILLIAM N. , 佛蒙柯維伊格爾V , FOMENKOV, IGOR V. , 艾瑟夫亞歷山大I , ERSHOV, ALEXANDER I.
IPC分类号： H05G2/00 , H01J35/02
CPC分类号： H05G2/005 , H05G2/008

3. 发明专利

TW201426808A X光管電源裝置、具該裝置之電源系統及其操作方法审中-公开
简体标题： X光管电源设备、具该设备之电源系统及其操作方法
公开(公告)号：TW201426808A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW101150843
申请日：2012-12-28
申请人：台達電子工業股份有限公司 , DELTA ELECTRONICS, INC.
发明人：王明煌 , WANG, MING WHANG , 陳鴻文 , CHEN, HONG WEN
IPC分类号： H01J35/02
CPC分类号： H05G1/32 , H05G1/10
摘要：一種具X光管電源裝置之電源系統係包含一X光管與一X光管電源裝置。該X光管係具有一陰極與一陽極。該X光管電源裝置係包含一第一電源轉換單元、一第二電源轉換單元以及一功率開關單元。該第一電源轉換單元係產生一正電壓與一驅動電壓。該第二電源轉換單元係產生一負電壓。當該驅動電壓控制該功率開關單元截止時，該X光管電源裝置係輸出該負電壓，以抑制該X光管之該陰極產生一電子流能量；當驅動電壓控制該功率開關單元導通時，該X光管電源裝置係輸出該正電壓，以驅動該X光管之該陰極產生該電子流能量以撞擊該陽極而產生X光。
简体摘要：一种具X光管电源设备之电源系统系包含一X光管与一X光管电源设备。该X光管系具有一阴极与一阳极。该X光管电源设备系包含一第一电源转换单元、一第二电源转换单元以及一功率开关单元。该第一电源转换单元系产生一正电压与一驱动电压。该第二电源转换单元系产生一负电压。当该驱动电压控制该功率开关单元截止时，该X光管电源设备系输出该负电压，以抑制该X光管之该阴极产生一电子流能量；当驱动电压控制该功率开关单元导通时，该X光管电源设备系输出该正电压，以驱动该X光管之该阴极产生该电子流能量以撞击该阳极而产生X光。

4. 发明专利

TW201823714A X射線螢光系統及樣品鑑定方法审中-公开
简体标题： X射线萤光系统及样品鉴定方法
公开(公告)号：TW201823714A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106131874
申请日：2017-09-18
申请人：以色列商蘇瑞克核能研究中心 , SOREQ NUCLEAR RESEARCH CENTER , 以色列商安全事務股份有限公司 , SECURITY MATTERS LTD.
发明人：格羅夫亞伊爾 , GROF, YAIR , 基斯流塞馬 , KISLEV, TZEMAH , 約倫納達 , YORAN, NADAV , 阿隆哈吉 , ALON, HAGGAI , 卡普林斯基莫爾 , KAPLINSKY, MOR
IPC分类号： G01N23/223 , H01J35/02
摘要：本發明提供一種控制系統及方法，用於控制偵測樣品所載有的至少一材料（例如樣品帶有的至少一標誌）之X射線螢光（XRF）系統的操作。該控制系統包含：數據輸入工具，用於接收包含關於該至少一材料/標誌之材料/標誌相關數據的輸入數據；及數據處理器和分析器工具。該數據處理器和分析器工具係配置並可操作成分析該輸入數據及判定該XRF系統的最佳幾何特徵，而用於：最佳化該XRF系統的操作條件以使到達樣品的預定區域且被該區域之體積吸收之初級X射線輻射的量最大化，並使發射自該區域、到達該XRF系統的偵測器之次級輻射的一部分最大化；及對該XRF系統產生允許該XRF系統之幾何特徵的調整之操作數據。
简体摘要：本发明提供一种控制系统及方法，用于控制侦测样品所载有的至少一材料（例如样品带有的至少一标志）之X射线萤光（XRF）系统的操作。该控制系统包含：数据输入工具，用于接收包含关于该至少一材料/标志之材料/标志相关数据的输入数据；及数据处理器和分析器工具。该数据处理器和分析器工具系配置并可操作成分析该输入数据及判定该XRF系统的最佳几何特征，而用于：最优化该XRF系统的操作条件以使到达样品的预定区域且被该区域之体积吸收之初级X射线辐射的量最大化，并使发射自该区域、到达该XRF系统的侦测器之次级辐射的一部分最大化；及对该XRF系统产生允许该XRF系统之几何特征的调整之操作数据。

7. 发明专利

TWI455167B Ｘ光產生裝置及Ｘ光產生裝置之控制方法失效
简体标题：Ｘ光产生设备及Ｘ光产生设备之控制方法
公开(公告)号：TWI455167B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW100149318
申请日：2011-12-28
申请人：三菱重工業股份有限公司 , MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：青井辰史 , AOI, TATSUFUMI , 神纳祐一郎 , KAMINO, YUICHIRO , 尾木靖夫 , OGI, YASUO , 渡部聰 , WATANABE, AKIRA , 重岡伸之 , SHIGEOKA, NOBUYUKI
IPC分类号： H01J35/00 , H01J35/02
CPC分类号： G01V5/0041 , H05G1/26 , H05G1/32 , H05G1/34 , H05G2/00

8. 发明专利

TWI412051B Ｘ射線管及包含其之Ｘ射線源有权
简体标题：Ｘ射线管及包含其之Ｘ射线源
公开(公告)号：TWI412051B
公开(公告)日：2013-10-11
申请号：TW095137165
申请日：2006-10-05
申请人：濱松赫德尼古斯股份有限公司 , HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
发明人：稻鶴務 , INAZURU, TUTOMU
IPC分类号： H01J35/16 , H01J35/02
CPC分类号： H01J35/16 , H01J35/025 , H01J35/08 , H05G1/06

9. 发明专利

TW201907753A 用以在雷射產生電漿極紫外線(EUV)光源中遞送源材料之裝置及方法审中-公开
简体标题：用以在激光产生等离子极紫外线(EUV)光源中递送源材料之设备及方法
公开(公告)号：TW201907753A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107138006
申请日：2014-10-23
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：伊凡斯大衛R , EVANS,DAVID R. , 葛拉漢馬修R , GRAHAM,MATTHEW R. , 艾瑟夫亞歷山大 I , ERSHOV,ALEXANDER I.
IPC分类号： H05G2/00 , H05H1/00 , G03F7/20 , H01J35/02 , G21G4/00
摘要：本發明揭露一種使氣體平行於一源材料流而流動以形成一氣體護罩的裝置及方法。該氣體護罩可保護源材料流不被一交叉氣流中斷。該氣體護罩亦可限制該源材料通過之一實體護罩的加熱且藉由使在照射該源材料時形成之一電漿泡變形使得該電漿泡不會太靠近該實體護罩來限制源材料堆積在該實體護罩上。本發明亦揭露一種用以產生另一橫向氣流使得該氣體護罩不會造成源材料污染被用來聚集在照射該源材料時產生之光之一光學件的裝置及方法。
简体摘要：本发明揭露一种使气体平行于一源材料流而流动以形成一气体护罩的设备及方法。该气体护罩可保护源材料流不被一交叉气流中断。该气体护罩亦可限制该源材料通过之一实体护罩的加热且借由使在照射该源材料时形成之一等离子泡变形使得该等离子泡不会太靠近该实体护罩来限制源材料堆积在该实体护罩上。本发明亦揭露一种用以产生另一横向气流使得该气体护罩不会造成源材料污染被用来聚集在照射该源材料时产生之光之一光学件的设备及方法。

10. 发明专利

TWI456620B X光管電源裝置、具該裝置之電源系統及其操作方法有权
简体标题： X光管电源设备、具该设备之电源系统及其操作方法
公开(公告)号：TWI456620B
公开(公告)日：2014-10-11
申请号：TW101150843
申请日：2012-12-28
申请人：台達電子工業股份有限公司 , DELTA ELECTRONICS, INC.
发明人：王明煌 , WANG, MING WHANG , 陳鴻文 , CHEN, HONG WEN
IPC分类号： H01J35/02
CPC分类号： H05G1/32 , H05G1/10

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