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1. 发明专利

TW202004174A 具有反磁控管源的氣體分析审中-公开
简体标题：具有反磁控管源的气体分析
公开(公告)号：TW202004174A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108118058
申请日：2019-05-24
申请人：美商MKS儀器股份有限公司 , MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：布魯克傑爾多 , BRUCKER, GERARDO A. , 史維尼提姆西 , SWINNEY, TIMOTHY C. , 佩西克林頓 , PERCY, CLINTON L.
IPC分类号： G01N23/22 , H01J37/256
摘要：揭示一種總壓力冷陰極電離計。反磁控管電極設計能夠同時偵測和測量高真空系統中之總氣壓、以及一或多種氣體(諸如氫、氦)和水的分壓。另外，揭示一種洩漏偵測器(諸如氦洩漏偵測器)，其具有到離子偵測通道之進氣通道的緊湊逆流配置。
简体摘要：揭示一种总压力冷阴极电离计。反磁控管电极设计能够同时侦测和测量高真空系统中之总气压、以及一或多种气体(诸如氢、氦)和水的分压。另外，揭示一种泄漏侦测器(诸如氦泄漏侦测器)，其具有到离子侦测信道之进气信道的紧凑逆流配置。

2. 发明专利

TW201741639A 具備多個陰極之冷陰極離子化真空計审中-公开
简体标题：具备多个阴极之冷阴极离子化真空计
公开(公告)号：TW201741639A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106114328
申请日：2017-04-28
申请人： MKS儀器股份有限公司 , MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：史維尼提姆西 , SWINNEY, TIMOTHY C. , 佩西克林頓 , PERCY, CLINTON L. , 馬利安杜安 , MARION, DUANE W. , 凱利布蘭登 , KELLY, BRANDON J.
IPC分类号： G01L21/30 , H01J41/02
CPC分类号： G01L21/34 , H01J41/06
摘要：一種冷陰極離子化真空計包括多個陰極，其提供不同的間距於該等陰極和一陽極之間。該等多個陰極允許在更寬大的壓力範圍內的壓力測量。一具有較大的間距的第一陰極可根據湯森放電(Townsend discharge)來提供電流；而一具有較小的間距的第二陰極可根據在較高的壓力的湯森放電以及在更高的壓力的白仙定律(Paschen's Law)放電這兩者來提供電流。在該第二陰極上的一特徵構造可支持白仙定律放電。該等陰極之間的大電阻和一對電源供應器的回程(return)讓輸出輪廓的控制能夠擴大具有精確反應的壓力範圍並避免輸出最小值。壓力測量值可基於來自各個陰極之根據該個別陰極的輸出的電流在該寬大的壓力測量範圍內被獲得。該等多個陰極亦可提供避開各個陰極的電流輸出中被發現的中斷處(discontinuity)的測量值。
简体摘要：一种冷阴极离子化真空计包括多个阴极，其提供不同的间距于该等阴极和一阳极之间。该等多个阴极允许在更宽大的压力范围内的压力测量。一具有较大的间距的第一阴极可根据汤森放电(Townsend discharge)来提供电流；而一具有较小的间距的第二阴极可根据在较高的压力的汤森放电以及在更高的压力的白仙定律(Paschen's Law)放电这两者来提供电流。在该第二阴极上的一特征构造可支持白仙定律放电。该等阴极之间的大电阻和一对电源供应器的回程(return)让输出轮廓的控制能够扩大具有精确反应的压力范围并避免输出最小值。压力测量值可基于来自各个阴极之根据该个别阴极的输出的电流在该宽大的压力测量范围内被获得。该等多个阴极亦可提供避开各个阴极的电流输出中被发现的中断处(discontinuity)的测量值。

3. 发明专利

TWI368930B 控制器及傳遞來自智慧型感應器之資料收集給晶圓廠應用的方法 CONTROLLER AND METHOD TO MEDIATE DATA COLLECTION FROM SMART SENSORS FOR FAB APPLICATIONS 失效
简体标题：控制器及传递来自智能型感应器之数据收集给晶圆厂应用的方法 CONTROLLER AND METHOD TO MEDIATE DATA COLLECTION FROM SMART SENSORS FOR FAB APPLICATIONS
公开(公告)号：TWI368930B
公开(公告)日：2012-07-21
申请号：TW094110908
申请日：2005-04-06
申请人： MKS儀器股份有限公司
发明人：伍茲雷夫阿密 , 剛特席夫那茲契 , 馬克阿特烏德
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G05B23/0221 , G05B19/41875 , G05B2219/32181 , G05B2219/37494 , G05B2219/45031 , Y02P90/18 , Y02P90/22
摘要：本發明關於相關工具的感應器的控制及其資料收集。詳言之，關於使用一控制器以協調一工具、與工具相關之感應器及例如主系統或分散式處理器之資料使用者間之通信。本發明的特定要點被敘述於申請專利範圍、說明書及圖式之中。
简体摘要：本发明关于相关工具的感应器的控制及其数据收集。详言之，关于使用一控制器以协调一工具、与工具相关之感应器及例如主系统或分佈式处理器之数据用户间之通信。本发明的特定要点被叙述于申请专利范围、说明书及图式之中。

4. 发明专利

TWI397830B 具有統計上可重複之回應時間的通用半導體製造控制器有权
简体标题：具有统计上可重复之回应时间的通用半导体制造控制器
公开(公告)号：TWI397830B
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW095115310
申请日：2006-04-28
申请人： MKS儀器股份有限公司 , MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：李奧尼德羅森伯恩 , ROZENBOIM, LEONID , 大衛高須 , GOSCH, DAVID MICHAEL
IPC分类号： G06F19/00 , G01N37/00

5. 发明专利

TWI388955B 智慧控制器方法及裝置之安全切換有权
简体标题：智能控制器方法及设备之安全切换
公开(公告)号：TWI388955B
公开(公告)日：2013-03-11
申请号：TW094125156
申请日：2005-07-25
申请人： MKS儀器股份有限公司 , MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：尼道爾卡利 , KHALIL, NIDAL , 剛特席夫那茲契 , SIFNATSCH, GUENTER , 伍茲雷夫阿密 , LEV AMI, UZI , 榮恩海達 , HADAR, RON
IPC分类号： G05B9/02 , G05B11/01
CPC分类号： G05B9/03

6. 发明专利

TW200709009A 具有統計上可重複之回應時間的通用半導體製造控制器 VERSATILE SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CONTROLLER WITH STATISTICALLY REPEATABLE RESPONSE TIMES 审中-公开
简体标题：具有统计上可重复之回应时间的通用半导体制造控制器 VERSATILE SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CONTROLLER WITH STATISTICALLY REPEATABLE RESPONSE TIMES
公开(公告)号：TW200709009A
公开(公告)日：2007-03-01
申请号：TW095115310
申请日：2006-04-28
申请人： MKS儀器股份有限公司 MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：李奧尼德羅森伯恩 ROZENBOIM, LEONID , 大衛高須 GOSCH, DAVID MICHAEL
IPC分类号： G06F , G01N
摘要：本發明有關於半導體製造用之程序I/O控制器,工具主機可委派資料收集、監視與控制的工作給該程序I/O控制器。特別係,本發明有關於可以統計上可重複之效能與精準度執行超過一個的資料收集、監視、控制以及回應來自工具主機之命令。所述之實施例使用具優先順序之即時操作系統來控制半導體製造工具以及從與感應器關聯的工具之資料的收集。於選定的製作步驟期間對選定的命令以及感應器輸入之統計上可重複的回應性能有效降低顫動(Jitter)。
简体摘要：本发明有关于半导体制造用之进程I/O控制器,工具主机可委派数据收集、监视与控制的工作给该进程I/O控制器。特别系,本发明有关于可以统计上可重复之性能与精准度运行超过一个的数据收集、监视、控制以及回应来自工具主机之命令。所述之实施例使用具优先级之实时操作系统来控制半导体制造工具以及从与感应器关联的工具之数据的收集。于选定的制作步骤期间对选定的命令以及感应器输入之统计上可重复的回应性能有效降低颤动(Jitter)。

7. 发明专利

TW201947339A 用於多通道質量流量和比例控制系統的方法和設備审中-公开
简体标题：用于多信道质量流量和比例控制系统的方法和设备
公开(公告)号：TW201947339A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108114999
申请日：2019-04-30
申请人：美商MKS儀器股份有限公司 , MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：丁君華 , DING, JUNHUA , 雷貝西麥可 , L'BASSI, MICHAEL , 科爾韋恩 , COLE, WAYNE
IPC分类号： G05D7/06 , H01L21/67
摘要：提供了流體控制系統，其包含質量流量控制系統、質量流量比例控制系統，和質量流量及比例控制系統，以及用於流體控制的對應方法。這些系統允許一個共用壓力感測器被用於多個流動通道，以及可以基於由此共用壓力感測器檢測的流體壓力精確地確定質量流量的控制器。
简体摘要：提供了流体控制系统，其包含质量流量控制系统、质量流量比例控制系统，和质量流量及比例控制系统，以及用于流体控制的对应方法。这些系统允许一个共享压力传感器被用于多个流动信道，以及可以基于由此共享压力传感器检测的流体压力精确地确定质量流量的控制器。

8. 发明专利

TW201903822A 強健型離子源审中-公开
简体标题：强健型离子源
公开(公告)号：TW201903822A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107118649
申请日：2018-05-31
申请人：美商MKS儀器股份有限公司 , MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：布雷西詹姆士 , BLESSING, JAMES E. , 萊斯里喬納森 , LESLIE, JONATHAN , 貝悌喬納森 , BATEY, JONATHAN HUGH
IPC分类号： H01J49/10
摘要：設備(例如，離子源)、系統(例如，殘餘氣體分析器)以及方法在存在污染氣體的情況下提供質譜儀之延長的壽命與提高的分析穩定度，同時在內部背景氣體上達成樣本氣體的大量優先電離。一個實施例為一種離子源，其包括氣體源、噴嘴、電子源及電極。氣體源經由噴嘴將氣體傳遞到真空的電離體積，且處於較真空的電離體積的壓力更高的壓力下。通過噴嘴的氣體在電離體積的電離區域中自由地擴展。電子源發射電子通過電離區域中之擴展的氣體，以使擴展的氣體的至少一部分電離。電極建立用於從電離區域到濾質器的離子流的電場，且電極被定位在距離噴嘴的距離處，以及被定向來限制其對於氣體的暴露。
简体摘要：设备(例如，离子源)、系统(例如，残余气体分析器)以及方法在存在污染气体的情况下提供质谱仪之延长的寿命与提高的分析稳定度，同时在内部背景气体上达成样本气体的大量优先电离。一个实施例为一种离子源，其包括气体源、喷嘴、电子源及电极。气体源经由喷嘴将气体传递到真空的电离体积，且处于较真空的电离体积的压力更高的压力下。通过喷嘴的气体在电离体积的电离区域中自由地扩展。电子源发射电子通过电离区域中之扩展的气体，以使扩展的气体的至少一部分电离。电极创建用于从电离区域到滤质器的离子流的电场，且电极被定位在距离喷嘴的距离处，以及被定向来限制其对于气体的暴露。

9. 发明专利

TW201829986A 用於寬範圍質量流驗證之方法及裝置审中-公开
简体标题：用于宽范围质量流验证之方法及设备
公开(公告)号：TW201829986A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106142726
申请日：2017-12-06
申请人：美商MKS儀器股份有限公司 , MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：丁君華 , DING, JUNHUA , 雷貝西麥可 , L'BASSI, MICHAEL , 科爾韋恩 , COLE, WAYNE
IPC分类号： G01F15/04 , G01F22/02
摘要：一種具空間效益且在寬範圍的流率上針對未知流體來驗證流率之質量流驗證器(MFV)包含：腔室，被建構成用以接收流體；臨界流噴嘴，連接至該腔室；及第一與第二壓力感應器，分別地偵測在腔室中及該臨界流噴嘴之上游處的流體壓力。該MFV之控制器被建構成用以藉由以下操作來驗證該流體之流率：(i)在第一流量範圍中，基於由該第一壓力感應器所偵測之該流體壓力的上升率來量測第一流率且基於由該第一及第二壓力感應器所偵測之壓力來判定該流體之氣體性質函數，及(ii)在第二流量範圍中，基於由該第二壓力感應器所偵測之壓力及該判定的氣體性質函數來量測第二流率。
简体摘要：一种具空间效益且在宽范围的流率上针对未知流体来验证流率之质量流验证器(MFV)包含：腔室，被建构成用以接收流体；临界流喷嘴，连接至该腔室；及第一与第二压力感应器，分别地侦测在腔室中及该临界流喷嘴之上游处的流体压力。该MFV之控制器被建构成用以借由以下操作来验证该流体之流率：(i)在第一流量范围中，基于由该第一压力感应器所侦测之该流体压力的上升率来量测第一流率且基于由该第一及第二压力感应器所侦测之压力来判定该流体之气体性质函数，及(ii)在第二流量范围中，基于由该第二压力感应器所侦测之压力及该判定的气体性质函数来量测第二流率。

10. 发明专利

TW201813285A 具有增加動態範圍的跨阻抗放大器审中-公开
简体标题：具有增加动态范围的跨阻抗放大器
公开(公告)号：TW201813285A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106110891
申请日：2017-03-30
申请人： MKS儀器股份有限公司 , MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：漢森道格拉斯 , HANSEN, DOUGLAS C.
IPC分类号： H03F1/32 , H03F3/45
CPC分类号： H03F3/45 , G01R19/0061 , H03F1/083 , H03F1/3211 , H03F1/34 , H03F3/45475 , H03F2200/153 , H03F2200/261 , H03F2200/462 , H03F2203/45138 , H03F2203/45161 , H03F2203/45288 , H03F2203/45528
摘要：一種寬動態範圍跨阻抗放大器包含：第一跨阻抗放大器，被組態以接收第一輸入電流並產生第一電壓為該第一輸入電流的函數，及第二跨阻抗放大器，被組態以接收第二輸入電流，並產生第二電壓為該第二輸入電流的函數。電流操縱元件，使得來自電流源的電流的第一部份流至該第一跨阻抗放大器直到該第一電流部份到達第一臨限電流為止，並使得來自該電流源的電流的第二部份流至該第二跨阻抗放大器，直到該第二電流部份到達該第二臨限電流為止。該第二電流部份係為來自該電流源的超出該第一臨限電流的電流。該寬動態範圍跨阻抗放大器可以例如接收來自熱陰極離子真空計(HCIG)的離子收集器電流。
简体摘要：一种宽动态范围跨阻抗放大器包含：第一跨阻抗放大器，被组态以接收第一输入电流并产生第一电压为该第一输入电流的函数，及第二跨阻抗放大器，被组态以接收第二输入电流，并产生第二电压为该第二输入电流的函数。电流操纵组件，使得来自电流源的电流的第一部份流至该第一跨阻抗放大器直到该第一电流部份到达第一临限电流为止，并使得来自该电流源的电流的第二部份流至该第二跨阻抗放大器，直到该第二电流部份到达该第二临限电流为止。该第二电流部份系为来自该电流源的超出该第一临限电流的电流。该宽动态范围跨阻抗放大器可以例如接收来自热阴极离子真空计(HCIG)的离子收集器电流。

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