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2. 发明专利

TWI380826B 治療關節損傷的方法有权
简体标题：治疗关节损伤的方法
公开(公告)号：TWI380826B
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW095142096
申请日：2006-11-14
申请人：赫孚孟拉羅股份公司 , F. HOFFMANN-LA ROCHE AG , 生物基因艾迪克公司 , BIOGEN IDEC INC. , 建南德克公司 , GENENTECH, INC.
发明人：馬克托托里提斯 , TOTORITIS, MARK , 提摩西馬克蕭 , SHAW, TIMOTHY MARK , 桑尼爾艾嘉沃 , AGARWAL, SUNIL , 大衛尤康 , YOCUM, DAVID , 艾里拉凱曼 , KELMAN, ARIELLA
IPC分类号： A61K39/395 , A61P19/02
CPC分类号： C07K16/2887 , A61K31/519 , A61K39/3955 , A61K45/06 , A61K47/6849 , A61K2039/505 , C07K16/2896 , C07K2317/24 , C07K2317/56 , C07K2317/565 , C07K2317/76

3. 发明专利

TW200950778A 使用Ａｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬ治療癌症的方法 METHODS OF USING Apo2L/TRAIL TO TREAT CANCER 审中-公开
简体标题：使用Ａｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬ治疗癌症的方法 METHODS OF USING Apo2L/TRAIL TO TREAT CANCER
公开(公告)号：TW200950778A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：TW098116058
申请日：2009-05-14
申请人：建南德克公司 , 安美基公司 , 艾蒙尼克公司
发明人：諾佛特尼威廉 , 瑞斯大衛麥可 , 韋德彼得詹姆士
IPC分类号： A61K , C07K , A61P
CPC分类号： A61K31/282 , A61K31/337 , A61K38/00 , A61K39/39558 , C07K14/70575 , C07K16/22 , C07K16/2887 , A61K2300/00
摘要：本發明提供治療非小細胞肺癌(NSCLC)及非霍奇金氏淋巴瘤(non-hodgkin's lymphoma)(NHL)之方法。該等方法包括用有效量之Apo2L/TRAIL及所選化學治療方案及抗體療法治療癌細胞。本發明亦包括製品及套組，其包含Apo2L/TRAIL及提供(例如)關於治療諸如NSCLC及NHL之癌症之投藥及給藥資訊的包裝插頁。
简体摘要：本发明提供治疗非小细胞肺癌(NSCLC)及非霍奇金氏淋巴瘤(non-hodgkin's lymphoma)(NHL)之方法。该等方法包括用有效量之Apo2L/TRAIL及所选化学治疗方案及抗体疗法治疗癌细胞。本发明亦包括制品及套组，其包含Apo2L/TRAIL及提供(例如)关于治疗诸如NSCLC及NHL之癌症之投药及给药信息的包装插页。

4. 发明专利

TW200735889A 治療關節損傷的方法 METHOD FOR TREATING JOINT DAMAGE 审中-公开
简体标题：治疗关节损伤的方法 METHOD FOR TREATING JOINT DAMAGE
公开(公告)号：TW200735889A
公开(公告)日：2007-10-01
申请号：TW095142096
申请日：2006-11-14
申请人：赫孚孟拉羅股份公司 F. HOFFMANN-LA ROCHE AG , 生物基因艾迪克公司 BIOGEN IDEC INC. , 建南德克公司 GENENTECH, INC.
发明人：馬克托托里提斯 TOTORITIS, MARK , 提摩西馬克蕭 SHAW, TIMOTHY MARK , 桑尼爾艾嘉沃 AGARWAL, SUNIL , 大衛尤康 YOCUM, DAVID , 艾里拉凱曼 KELMAN, ARIELLA
IPC分类号： A61K , A61P
CPC分类号： C07K16/2887 , A61K31/519 , A61K39/3955 , A61K45/06 , A61K47/6849 , A61K2039/505 , C07K16/2896 , C07K2317/24 , C07K2317/56 , C07K2317/565 , C07K2317/76
摘要：本發明提供一種治療適於治療受治者之關節損傷的方法,其涉及將與B細胞表面標記結合的拮抗劑諸如CD20抗體,以可有效減緩關節損傷進程之量投予至該受治者,其中該關節損傷程度係由放射線照相法來量測。本發明進一步提供適用於該等方法之製品。
简体摘要：本发明提供一种治疗适于治疗受治者之关节损伤的方法,其涉及将与B细胞表面标记结合的拮抗剂诸如CD20抗体,以可有效减缓关节损伤进程之量投予至该受治者,其中该关节损伤程度系由放射线照相法来量测。本发明进一步提供适用于该等方法之制品。

5. 发明专利

TW201305397A 製造於矽或類似基材上之氮化鎵厚磊晶層的方法及使用該方法所獲得之層审中-公开
简体标题：制造于硅或类似基材上之氮化镓厚磊晶层的方法及使用该方法所获得之层
公开(公告)号：TW201305397A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW101123540
申请日：2012-06-29
申请人：蘇泰克公司 , SOITEC , 歐米克公司 , OMMIC , 國際科學研究中心 , CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)
发明人：史英克大衛 , SCHENK, DAVID , 巴伐德艾勒希斯 , BAVARD, ALEXIS , 寇迪爾伊凡 , CORDIER, YVON , 法西聶特艾立克 , FRAYSSINET, ERIC , 肯納德馬克 , KENNARD, MARK , 朗迪丹尼爾 , RONDI, DANIEL
IPC分类号： C30B25/02 , C30B29/40 , H01L21/20 , H01L29/872
CPC分类号： H01L21/0254 , B82Y20/00 , C30B25/183 , C30B29/406 , H01L21/02378 , H01L21/02381 , H01L21/02458 , H01L21/02505 , H01L21/02636 , H01L29/2003 , H01L29/7786 , H01L29/872 , H01L33/007 , H01S5/2009 , H01S5/305 , H01S5/3063 , H01S5/3216 , H01S5/34333
摘要：本發明有關一種藉由磊晶生長，在一基材上製造GaN單晶層的方法，該基材的熱膨脹係數少於GaN的熱膨脹係數，該方法包含下列步驟：(b)三維磊晶生長一於磊晶溫度鬆弛的GaN層，(c1)一BwAlxGayInzN的中間層之生長，(c2)一BwAlxGayInzN層之生長，(c3)一BwAlxGayInzN中間層的生長在步驟(c1)至(c3)形成的層之至少一者為一含有鋁及鎵的至少三元III-N合金，(d)該GaN層的生長。
简体摘要：本发明有关一种借由磊晶生长，在一基材上制造GaN单晶层的方法，该基材的热膨胀系数少于GaN的热膨胀系数，该方法包含下列步骤：(b)三维磊晶生长一于磊晶温度松弛的GaN层，(c1)一BwAlxGayInzN的中间层之生长，(c2)一BwAlxGayInzN层之生长，(c3)一BwAlxGayInzN中间层的生长在步骤(c1)至(c3)形成的层之至少一者为一含有铝及镓的至少三元III-N合金，(d)该GaN层的生长。

6. 外观设计

TWD206471S 標籤（四）有权
简体标题：标签（四）
公开(公告)号：TWD206471S
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW108307111
申请日：2019-11-20
申请人：德商默克公司 , MERCK KGAA
设计人：懷特福德傑佛瑞 , WHITFORD, JEFFREY , 埃佛斯斯凡 , ERFURTH, SVEN , 庫成塔爾克里斯坦 , KUECHENTHAL, CHRISTIAN

7. 外观设计

TWD206470S 標籤（三）有权
简体标题：标签（三）
公开(公告)号：TWD206470S
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW108307110
申请日：2019-11-20
申请人：德商默克公司 , MERCK KGAA
设计人：懷特福德傑佛瑞 , WHITFORD, JEFFREY , 埃佛斯斯凡 , ERFURTH, SVEN , 庫成塔爾克里斯坦 , KUECHENTHAL, CHRISTIAN

8. 外观设计

TWD206469S 標籤（二）有权
简体标题：标签（二）
公开(公告)号：TWD206469S
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW108307109
申请日：2019-11-20
申请人：德商默克公司 , MERCK KGAA
设计人：懷特福德傑佛瑞 , WHITFORD, JEFFREY , 埃佛斯斯凡 , ERFURTH, SVEN , 庫成塔爾克里斯坦 , KUECHENTHAL, CHRISTIAN

9. 发明专利

TW202026462A 無電鎳鍍浴溶液审中-公开
简体标题：无电镍镀浴溶液
公开(公告)号：TW202026462A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108140008
申请日：2019-11-05
申请人：德商德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：貝瑞霍格 , BERA, HOLGER , 史瓦茲克莉絲汀 , SCHWARZ, CHRISTIAN , 舒茲安德烈亞斯 , SCHULZE, ANDREAS
IPC分类号： C23C18/48
摘要：本發明係關於一種無電鎳鍍浴溶液，其包含鎳離子源，鉬離子源，鎢離子源，次磷酸根離子源，至少一種錯合劑，濃度為0.38-38.00 µmol/L之至少一種有機含硫化合物，及濃度為0.67-40.13 mmol/L之至少一種胺基酸，一種用於在基板上無電鍍鎳合金層之方法，一種鎳合金層以及一種包含鎳合金層之物件。
简体摘要：本发明系关于一种无电镍镀浴溶液，其包含镍离子源，钼离子源，钨离子源，次磷酸根离子源，至少一种错合剂，浓度为0.38-38.00 µmol/L之至少一种有机含硫化合物，及浓度为0.67-40.13 mmol/L之至少一种氨基酸，一种用于在基板上无电镀镍合金层之方法，一种镍合金层以及一种包含镍合金层之对象。

10. 发明专利

TW202026244A 回收鋰之方法审中-公开
简体标题：回收锂之方法
公开(公告)号：TW202026244A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108140627
申请日：2019-11-08
申请人：比利時商烏明克公司 , UMICORE
发明人：休尼斯萊納特 , SCHEUNIS, LENNART , 嘉麗寶威廉 , CALLEBAUT, WILLEM
IPC分类号： C01D15/04
摘要：本揭露係關於用於冶金煙霧中濃縮鋰的方法。該方法包含下列步驟： -提供冶金熔融浴爐； -製備包含帶有鋰之材料、過渡金屬、及助熔劑的冶金爐料(metallurgical charge)； -在該爐中在還原條件下冶煉該冶金爐料及該助熔劑，從而獲得具有合金及渣相的熔融浴；以及， -可選地將該合金與該渣相分離；其特徵在於，藉由添加鹼金屬及/或鹼土金屬氯化物至該方法，該鋰的主要部分係由該熔融渣發煙為LiCl。使用單一個冶煉步驟，將爐料中還存在的有價值過渡金屬(諸如鈷和鎳)收集在合金相中，而將鋰反映成煙霧。煙霧中的鋰以濃縮形式提供，適用於後續的濕法冶金(hydrometallurgical)程序。
简体摘要：本揭露系关于用于冶金烟雾中浓缩锂的方法。该方法包含下列步骤： -提供冶金熔融浴炉； -制备包含带有锂之材料、过渡金属、及助熔剂的冶金炉料(metallurgical charge)； -在该炉中在还原条件下冶炼该冶金炉料及该助熔剂，从而获得具有合金及渣相的熔融浴；以及， -可选地将该合金与该渣相分离；其特征在于，借由添加碱金属及/或碱土金属氯化物至该方法，该锂的主要部分系由该熔融渣发烟为LiCl。使用单一个冶炼步骤，将炉料中还存在的有价值过渡金属(诸如钴和镍)收集在合金相中，而将锂反映成烟雾。烟雾中的锂以浓缩形式提供，适用于后续的湿法冶金(hydrometallurgical)进程。

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