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1. 发明专利

TW200527003A 反射型偏光板,疊層光學構件及液晶顯示裝置 POLARIZED PLATE OF RETLECTION TYPE,LAMINATED OPTICAL DEVICE AND LIQUID DISPLAY DEVICE 失效
简体标题：反射型偏光板,叠层光学构件及液晶显示设备 POLARIZED PLATE OF RETLECTION TYPE,LAMINATED OPTICAL DEVICE AND LIQUID DISPLAY DEVICE
公开(公告)号：TW200527003A
公开(公告)日：2005-08-16
申请号：TW093121863
申请日：2004-07-22
申请人：國立大學法人東京農工大學 NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOKYO UNIVERSITY OF AGRICULTURE AND TE , 住友化學工業股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：渡邊敏行 WATANABE, TOSHIYUKI , 戶谷健朗 TOTANI, KENRO , 林秀樹 HAYASHI, HIDEKI , 窪田雅明 KUBOTA, MASAAKI , 石飛昌光 ISHITOBI, MASAMITSU , 松岡祥樹 MATSUOKA, YOSHIKI
IPC分类号： G02B , B32B , G02F
CPC分类号： G02F1/133536 , G02B5/3008 , G02F1/13363 , G02F2001/133638 , G02F2413/09 , G03B21/604
摘要：一種反射型偏光板，其特徵為：其係在長軸方向上的垂直剖面之形狀為多角形或實質的圓形，其係由具備有：外觀比在2以上，使長軸方向與短軸方向之折射率差為0.05以上之多角柱體或圓柱體所形成的複數個之複折射體，使該複數個之複折射體在支持媒體中大致為朝向同一方向而分散配列，在各複折射體之長軸方向上的垂直剖面之形狀為實質的圓形之情況中，上述複數個之複折射體在上述剖面之任何一個看去之時，係和互相以圓柱之側面相接之另外至少二個之複折射體，分別地以圓柱之側面相接。
简体摘要：一种反射型偏光板，其特征为：其系在长轴方向上的垂直剖面之形状为多角形或实质的圆形，其系由具备有：外观比在2以上，使长轴方向与短轴方向之折射率差为0.05以上之多角柱体或圆柱体所形成的复数个之复折射体，使该复数个之复折射体在支持媒体中大致为朝向同一方向而分散配列，在各复折射体之长轴方向上的垂直剖面之形状为实质的圆形之情况中，上述复数个之复折射体在上述剖面之任何一个看去之时，系和互相以圆柱之侧面相接之另外至少二个之复折射体，分别地以圆柱之侧面相接。

2. 发明专利

TW200514183A 半導體裝置之塗膜溶液之評估方法 METHOD FOR EVALUATING SOLUTION FOR COATING FILM FOR SEMICONDUCTOR 审中-公开
简体标题：半导体设备之涂膜溶液之评估方法 METHOD FOR EVALUATING SOLUTION FOR COATING FILM FOR SEMICONDUCTOR
公开(公告)号：TW200514183A
公开(公告)日：2005-04-16
申请号：TW093128815
申请日：2004-09-23
申请人：住友化學工業股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：花元幸夫 HANAMOTO, YUKIO , 山本敏 YAMAMOTO, SATOSHI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/312 , C09D133/066 , H01L21/02118 , H01L21/0212 , H01L21/02282 , H01L21/3127 , H01L23/5329 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：本發明提供一種評估半導體裝置的塗膜所用溶液之方法，其包括在該溶液過濾通過一具有0.01至0.4微米之平均孔徑大小的過濾器之時，測量半導體塗膜所用溶液的堵塞度(Clogging Degree)，及估計從該溶液形成的塗膜之品質，其中該堵塞度係以下面的公式予以定義：堵塞度＝V2／V1V1：一溶液於固定的壓力和溫度之下過濾之情況中，於起始標準點的濾液線速度之值(對每1平方厘米之過濾器的過濾速率(克／(平方厘米．分)))V2：從起始標準點排放出一預定的濾液重量之點的濾液線速度值。根據本發明方法，不必實際形成塗膜即可演算出塗膜品質，且可以藉此評估塗膜所用溶液。
简体摘要：本发明提供一种评估半导体设备的涂膜所用溶液之方法，其包括在该溶液过滤通过一具有0.01至0.4微米之平均孔径大小的过滤器之时，测量半导体涂膜所用溶液的堵塞度(Clogging Degree)，及估计从该溶液形成的涂膜之品质，其中该堵塞度系以下面的公式予以定义：堵塞度＝V2／V1V1：一溶液于固定的压力和温度之下过滤之情况中，于起始标准点的滤液线速度之值(对每1平方厘米之过滤器的过滤速率(克／(平方厘米．分)))V2：从起始标准点排放出一预定的滤液重量之点的滤液线速度值。根据本发明方法，不必实际形成涂膜即可演算出涂膜品质，且可以借此评估涂膜所用溶液。

3. 发明专利

TW200513690A 偏光薄膜之製造方法,偏光板之製造方法及光學層合物之製造方法 THE METHOD FOR PRODUCING A POLARIZING FILM, THE METHOD FOR PRODUCING A POLARIZER, AND THE METHOD FOR PRODUCING OPTICAL LAMINATE 审中-公开
简体标题：偏光薄膜之制造方法,偏光板之制造方法及光学层合物之制造方法 THE METHOD FOR PRODUCING A POLARIZING FILM, THE METHOD FOR PRODUCING A POLARIZER, AND THE METHOD FOR PRODUCING OPTICAL LAMINATE
公开(公告)号：TW200513690A
公开(公告)日：2005-04-16
申请号：TW093127660
申请日：2004-09-13
申请人：住友化學工業股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：網谷圭二 AMITANI, KEIJI , 藤本清二 FUJIMOTO, SEIJI , 松元浩二 MATSUMOTO, KOJI , 山根尚德 YAMANE, HISANORI
IPC分类号： G02B
摘要：本發明之課題係提供一種色不均勻少之偏光薄膜之製造方法，偏光板之製造方法及光學層合物之製造方法。本發明之解決手段係，將聚乙烯醇系薄膜，以膨脹處理，染色處理，硼酸處理之順序在浴中連續地處理，且該等處理步驟中以至少一步驟進行一軸延伸來獲得偏光薄膜之偏光薄膜製造方法中，在膨脹處理後染色處理之前設置至少1步驟之濕式延伸步驟，在該延伸步驟中使前述薄膜相對於水100重量份，含有硼酸0.01～2.0重量份之水溶液中以1.1倍以上不足3倍之延伸放大倍數進行一軸延伸。
简体摘要：本发明之课题系提供一种色不均匀少之偏光薄膜之制造方法，偏光板之制造方法及光学层合物之制造方法。本发明之解决手段系，将聚乙烯醇系薄膜，以膨胀处理，染色处理，硼酸处理之顺序在浴中连续地处理，且该等处理步骤中以至少一步骤进行一轴延伸来获得偏光薄膜之偏光薄膜制造方法中，在膨胀处理后染色处理之前设置至少1步骤之湿式延伸步骤，在该延伸步骤中使前述薄膜相对于水100重量份，含有硼酸0.01～2.0重量份之水溶液中以1.1倍以上不足3倍之延伸放大倍数进行一轴延伸。

4. 发明专利

TW200427827A 金屬研磨組成物 METAL POLISHING COMPOSITION 审中-公开
简体标题：金属研磨组成物 METAL POLISHING COMPOSITION
公开(公告)号：TW200427827A
公开(公告)日：2004-12-16
申请号：TW093114207
申请日：2004-05-20
申请人：住友化學工業股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：一木直樹 ICHIKI, NAOKI , 松見泰夫 MATSUMI, YASUO , 高島正之 TAKASHIMA, MASAYUKI , 勝田修之 KATSUDA, NOBUYUKI
IPC分类号： C09K , C09G
CPC分类号： H01L21/02074 , C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/3212
摘要：本發明之目的係提供一種金屬研磨組成物，其可以高速研磨例如銅及鉭等金屬，具有用於疏水低介電常數膜之較高洗滌效率，穩定性絕佳，且於儲存期間研磨粒子不會沉澱(儲存穩定性絕佳)。本發明之目的可經由一種金屬研磨組成物達成，該組成物包含每個分子含有2個或2個以上陰離子官能基之陰離子界面活性劑，研磨磨料，無機鹽及水。
简体摘要：本发明之目的系提供一种金属研磨组成物，其可以高速研磨例如铜及钽等金属，具有用于疏水低介电常数膜之较高洗涤效率，稳定性绝佳，且于存储期间研磨粒子不会沉淀(存储稳定性绝佳)。本发明之目的可经由一种金属研磨组成物达成，该组成物包含每个分子含有2个或2个以上阴离子官能基之阴离子界面活性剂，研磨磨料，无机盐及水。

5. 发明专利

TW200412326A ��-氧化鋁粉末及其製造方法 �� -ALUMINA POWDER AND METHOD OF PRODUCING THE SAME 审中-公开
简体标题： ��-氧化铝粉末及其制造方法 �� -ALUMINA POWDER AND METHOD OF PRODUCING THE SAME
公开(公告)号：TW200412326A
公开(公告)日：2004-07-16
申请号：TW092126052
申请日：2003-09-22
申请人：住友化學工業股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人： 原和久 KAJIHARA, KAZUHISA , 竹內美明 TAKEUCHI, YOSHIAKI , 勝田敏史 KATSUDA, TOSHIFUMI
IPC分类号： C01F
CPC分类号： C04B35/6303 , B82Y30/00 , C01F7/02 , C01F7/30 , C01F7/442 , C01P2002/60 , C01P2002/74 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C01P2006/20 , C04B2235/3217 , C04B2235/3232 , C04B2235/3241 , C04B2235/3272 , C04B2235/3418 , C04B2235/3817 , C04B2235/3865 , C04B2235/483 , C04B2235/5409 , C04B2235/5454 , C04B2235/549 , C04B2235/72 , G11B5/738 , Y10T428/2982 , Y10T428/2998
摘要：一種適於作為一種添加在磁性紀錄媒體之添加劑之α–氧化鋁粉末及其製造之方法。此α–氧化鋁粉末之主要顆粒的平均粒徑為10–100nm，且其α相之含量可以下式來表示：I(113)／I(113)＋I(200)(1)其中，I(113)表示α–氧化鋁其X光繞射光譜中的(113)平面之波峰強度；I(200)表示θ–氧化鋁其X光繞射光譜中的(200)平面之波峰強度。本發明所製造之氧化鋁的α相含量達90％以上，且其至少含有一第一種成分與一第二種成分，其中第一種成分係選自於矽、鋯、磷和硼，其氧化物的含量為0.1–10wt％；而第二種成分係選自於鈦、鐵和鉻，其氧化物的含量為0.1–30wt％。
简体摘要：一种适于作为一种添加在磁性纪录媒体之添加剂之α–氧化铝粉末及其制造之方法。此α–氧化铝粉末之主要颗粒的平均粒径为10–100nm，且其α相之含量可以下式来表示：I(113)／I(113)＋I(200)(1)其中，I(113)表示α–氧化铝其X光绕射光谱中的(113)平面之波峰强度；I(200)表示θ–氧化铝其X光绕射光谱中的(200)平面之波峰强度。本发明所制造之氧化铝的α相含量达90％以上，且其至少含有一第一种成分与一第二种成分，其中第一种成分系选自于硅、锆、磷和硼，其氧化物的含量为0.1–10wt％；而第二种成分系选自于钛、铁和铬，其氧化物的含量为0.1–30wt％。

6. 发明专利

TW200407383A 硬化性樹脂組成物及保護膜 CURABLE RESIN COMPOSITION AND PROTECTIVE FILM 审中-公开
简体标题：硬化性树脂组成物及保护膜 CURABLE RESIN COMPOSITION AND PROTECTIVE FILM
公开(公告)号：TW200407383A
公开(公告)日：2004-05-16
申请号：TW092125456
申请日：2003-09-16
申请人：住友化學工業股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：川口裕次郎 KAWAGUCHI, YUJIRO , 長谷川俊之 HASEGAWA, TOSHIYUKI
IPC分类号： C08L
摘要：本發明提供一種包含下述(A)成分與(B)成分的硬化性樹脂組成物，並提供該硬化性樹脂組成物熱硬化所得的保護膜。(A)成分：具有環狀醚基以及烯烴雙鍵之單體的至少一種加成聚合，或是該單體與不含有具雙鍵之環狀醚基反應所得官能基的其他單體加成聚合所得的聚合物；(B)成分：熱陽離子硬化觸媒。
简体摘要：本发明提供一种包含下述(A)成分与(B)成分的硬化性树脂组成物，并提供该硬化性树脂组成物热硬化所得的保护膜。(A)成分：具有环状醚基以及烯烃双键之单体的至少一种加成聚合，或是该单体与不含有具双键之环状醚基反应所得官能基的其他单体加成聚合所得的聚合物；(B)成分：热阳离子硬化触媒。

7. 发明专利

TW583231B 多孔對位取代之芳族聚醯胺膜與製造該膜之方法以及預浸材失效
简体标题：多孔对位取代之芳族聚酰胺膜与制造该膜之方法以及预浸材
公开(公告)号：TW583231B
公开(公告)日：2004-04-11
申请号：TW091105692
申请日：2002-03-25
申请人：住友化學工業股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：篠原泰雄 , 高橋勉
IPC分类号： C08J , C08L , H05K
CPC分类号： C08J5/18 , C08J9/0061 , C08J9/28 , C08J2201/0544 , C08J2377/08 , C08J2477/00 , C08L67/03 , C08L77/08 , C08L77/10 , C08L79/06 , C08L79/08 , H05K1/0346 , H05K1/0366 , H05K1/0373 , H05K2201/0116 , H05K2201/0129 , H05K2201/0212 , H05K2201/068 , C08L77/00
摘要：本發明提供一種多孔對位取代之芳族聚醯胺膜，其含有10至400重量份之由耐熱性樹脂所組成之細微粒子(以100重量份之對位取代之芳族聚醯胺計)並於200至300℃下具有-50×10-6/℃至+50×10-6/℃之線性熱膨脹係數。多孔對位取代之芳族聚醯胺膜顯示出優異之抗撕裂傳播性且其質輕及具有低線性膨脹係數，適合用作為印刷電路板用之基板之預浸材。
简体摘要：本发明提供一种多孔对位取代之芳族聚酰胺膜，其含有10至400重量份之由耐热性树脂所组成之细微粒子(以100重量份之对位取代之芳族聚酰胺计)并于200至300℃下具有-50×10-6/℃至+50×10-6/℃之线性热膨胀系数。多孔对位取代之芳族聚酰胺膜显示出优异之抗撕裂传播性且其质轻及具有低线性膨胀系数，适合用作为印刷电路板用之基板之预浸材。

8. 发明专利

TW583191B 相位延遲器失效
简体标题：相位延迟器
公开(公告)号：TW583191B
公开(公告)日：2004-04-11
申请号：TW091107167
申请日：2002-04-10
申请人：住友化學工業股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：水口圭一 , 東浩二 , 大井伸夫 NOBUO OI
IPC分类号： C08F , G02B
CPC分类号： C08F232/00 , C08F210/02 , C08F210/04 , C08F210/06 , C08F210/08 , Y10S526/916 , C08F212/08 , C08F2500/25 , C08F2500/26
摘要：本發明係提供一種相位延遲器，其係由(A)、(B)、(C)成分聚合所形成之共聚合物構成，其中(A)成分為一非環狀烯烴單體，此單體係選自於乙烯與具有3至20個碳的α-烯烴化合物，(B)成分為一環狀烯烴單體，此單體係選自於環狀烯烴化合物例如是原冰片烯，(C)成分為具有一環狀單元的乙烯基化合物例如是苯乙烯或乙烯積環己烷，其中(1)若是成分(C)為芳香族乙烯基單體時，芳香族乙烯基單體之含量約為1至20mol%；非環狀烯烴單體(A)以及環狀烯烴單體(B)的總含量約為80至99mol%。(2)若是成分(C)為環脂族乙烯基單體時，環脂族乙烯基單體之含量約為80至99mol%，非環狀烯烴單體(A)以及環狀烯烴單體(B)的總含量約為1至20mol%。本發明是之相位延遲器，可以僅用單一的相位延遲器而在寬的波長範圍內進行一致的極化轉換。
简体摘要：本发明系提供一种相位延迟器，其系由(A)、(B)、(C)成分聚合所形成之共聚合物构成，其中(A)成分为一非环状烯烃单体，此单体系选自于乙烯与具有3至20个碳的α-烯烃化合物，(B)成分为一环状烯烃单体，此单体系选自于环状烯烃化合物例如是原冰片烯，(C)成分为具有一环状单元的乙烯基化合物例如是苯乙烯或乙烯积环己烷，其中(1)若是成分(C)为芳香族乙烯基单体时，芳香族乙烯基单体之含量约为1至20mol%；非环状烯烃单体(A)以及环状烯烃单体(B)的总含量约为80至99mol%。(2)若是成分(C)为环脂族乙烯基单体时，环脂族乙烯基单体之含量约为80至99mol%，非环状烯烃单体(A)以及环状烯烃单体(B)的总含量约为1至20mol%。本发明是之相位延迟器，可以仅用单一的相位延迟器而在宽的波长范围内进行一致的极化转换。

9. 发明专利

TW583156B 溴-芳族縮合環化合物的製法失效
简体标题：溴-芳族缩合环化合物的制法
公开(公告)号：TW583156B
公开(公告)日：2004-04-11
申请号：TW090131617
申请日：2001-12-20
申请人：住友化學工業股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：上岡隆宏 TAKAHIRO UEOKA , 池平秀行
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C07C43/225 , C07C17/12 , C07C25/22 , C07C41/22 , C07C43/1745 , C07C2603/44 , C07C25/24 , C07C43/1747
摘要：提供一種溴-芳族縮合環化合物的製法，其製法包括在氯化烴類化合物及硫酸之存在下使構成芳族縮合環之碳原子數為 15 或15以上的芳族縮合環化合物與N-溴羧酸醯胺反應，以溴化該芳族縮合環化合物。
简体摘要：提供一种溴-芳族缩合环化合物的制法，其制法包括在氯化烃类化合物及硫酸之存在下使构成芳族缩合环之碳原子数为 15 或15以上的芳族缩合环化合物与N-溴羧酸酰胺反应，以溴化该芳族缩合环化合物。

10. 发明专利

TW581657B 除蟲害組成物以及防治害蟲的方法失效
简体标题：除虫害组成物以及防治害虫的方法
公开(公告)号：TW581657B
公开(公告)日：2004-04-01
申请号：TW089105716
申请日：2000-03-28
申请人：住友化學工業股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：田中康順 TANAKA YASUYORI
IPC分类号： A01N
CPC分类号： A01N47/02 , A01N25/06 , A01N25/02 , A01N2300/00
摘要：一種除蟲害液體組成物，其中含0.01至5重量%之2-甲酯基-4-氯三氟甲基磺醯替苯胺及35至99.9重量%含13至17個碳數之飽和烴，或一種氣溶膠組成物其中含該液體組成物及拋射劑，其顯示極佳的除蟲害效應。
简体摘要：一种除虫害液体组成物，其中含0.01至5重量%之2-甲酯基-4-氯三氟甲基磺酰替苯胺及35至99.9重量%含13至17个碳数之饱和烃，或一种气溶胶组成物其中含该液体组成物及抛射剂，其显示极佳的除虫害效应。

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