专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW200929660A 非水系鋰型蓄電元件 NON-AQUEOUS LITHIUM STORAGE DEVICE 审中-公开
简体标题：非水系锂型蓄电组件 NON-AQUEOUS LITHIUM STORAGE DEVICE
公开(公告)号：TW200929660A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：TW097144272
申请日：2008-11-14
申请人：旭化成股份有限公司 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
发明人：津端敏男 TSUBATA, TOSHIO , 下山田倫子 SHIMOYAMADA, MICHIKO , 馬淵昭弘 MABUCHI, AKIHIRO
IPC分类号： H01M , H01G
CPC分类号： H01M4/587 , B01J20/20 , B01J20/28066 , B01J20/28071 , B01J20/28073 , B01J20/2808 , B01J20/28083 , B01J20/28092 , B01J2220/485 , H01G11/06 , H01G11/24 , H01G11/34 , H01M10/0525 , H01M2004/021 , Y02E60/13 , Y02T10/7011 , Y02T10/7022
摘要：本發明係關於一種非水系鋰型蓄電元件,其係於負極活性物質中使用吸存釋放鋰離子之材料者,其特徵在於,令該元件之正極活性物質中所用活性碳之取自直徑為20 以上500 以下之細孔之中孔量為V1(cc/g),原子直徑未達20 之細孔之微孔量為V2(cc/g)時,則0.3
简体摘要：本发明系关于一种非水系锂型蓄电组件,其系于负极活性物质中使用吸存释放锂离子之材料者,其特征在于,令该组件之正极活性物质中所用活性碳之取自直径为20 以上500 以下之细孔之中孔量为V1(cc/g),原子直径未达20 之细孔之微孔量为V2(cc/g)时,则0.3

2. 发明专利

TW200906916A 環氧基聚矽氧及其製造方法,以及使用此環氧基聚矽氧之硬化性樹脂組成物與其用途 EXPOXY SILICONE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, CURABLE RESIN COMPOSITION AND USE THEREOF 审中-公开
简体标题：环氧基聚硅氧及其制造方法,以及使用此环氧基聚硅氧之硬化性树脂组成物与其用途 EXPOXY SILICONE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, CURABLE RESIN COMPOSITION AND USE THEREOF
公开(公告)号：TW200906916A
公开(公告)日：2009-02-16
申请号：TW097113758
申请日：2008-04-16
申请人：旭化成化學股份有限公司 ASAHI KASEI CHEMICALS CORPORATION , 旭化成股份有限公司 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
发明人：黑田義人 KURODA, YOSHITO , 橫山雅子 YOKOYAMA, MASAKO , 小田弘治 ODA, HIROJI
IPC分类号： C08G , C08L , G02B , H01L
CPC分类号： C08G77/14 , C08G59/306 , C08G59/3254 , C08G77/38 , C08G77/50 , C08L63/00 , C08L83/06 , C08L83/14 , H01L23/296 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：本發明為一種環氧聚矽氧(epoxysilicone),其係以平均組成式(3)表示之環氧聚矽氧,且至少含有以下述式(1)表示之化合物及以下述式(2)表示之化合物,其中,【【g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)】】之値在0.020以下之範圍者。
097113758P01.bmp
(R^12YSiO1/2)a(R^33SiO1/2)b(R^32SiO2/2)c (R^3YSiO2/2)d(R^1ZSiO2/2)e(R^1R^2SiO2/2)f (R^1HSiO2/2)g(R^3SiO3/2)h(YSiO3/2)i(SiO
4/2)j...(3)
简体摘要：本发明为一种环氧聚硅氧(epoxysilicone),其系以平均组成式(3)表示之环氧聚硅氧,且至少含有以下述式(1)表示之化合物及以下述式(2)表示之化合物,其中,【【g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)】】之値在0.020以下之范围者。 097113758P01.bmp (R^12YSiO1/2)a(R^33SiO1/2)b(R^32SiO2/2)c (R^3YSiO2/2)d(R^1ZSiO2/2)e(R^1R^2SiO2/2)f (R^1HSiO2/2)g(R^3SiO3/2)h(YSiO3/2)i(SiO 4/2)j...(3)

3. 发明专利

TWI296632B 氧化伸丁基二醇共聚物及其製造方法 OXYTETRAMETHYLENE GLYCOL COPOLYMER AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME 有权
简体标题：氧化伸丁基二醇共聚物及其制造方法 OXYTETRAMETHYLENE GLYCOL COPOLYMER AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
公开(公告)号：TWI296632B
公开(公告)日：2008-05-11
申请号：TW090109216
申请日：2001-04-16
申请人：旭化成股份有限公司 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
发明人：兒玉保 KODAMA, TAMOTSU , 三之浦春行 , 恆松義之 , 福敏彥 FUKUZONO, TOSHIHIKO , 古別府聰
IPC分类号： C08G
CPC分类号： C08G65/30 , C08G65/20 , C08G65/2609 , C08G65/2696
摘要：本發明揭示四氫喃與新戊二醇共聚而得之氧化伸丁基二醇共聚物，其係(1)數均分子量Mn在800至5000，(2)分子量分布Mw/Mn在1.8以下，或，分子量分布超過1.8且滿足式(I)：1012×(Mw/Mn-1.8)5.95/exp(Mn×1.2/100)≦1.100所表之關係，(3)新戊二醇全共聚率Nw在6至30莫耳%，而(4)數均分子量Mn，新戊二醇全共聚率Nw，及氧化伸丁基二醇共聚物的高分子量側15重量%區分之新戊二醇部份共聚率Nh滿足下式(II)： Nh/Nw1.11/Mn0.3
简体摘要：本发明揭示四氢喃与新戊二醇共聚而得之氧化伸丁基二醇共聚物，其系(1)数均分子量Mn在800至5000，(2)分子量分布Mw/Mn在1.8以下，或，分子量分布超过1.8且满足式(I)：1012×(Mw/Mn-1.8)5.95/exp(Mn×1.2/100)≦1.100所表之关系，(3)新戊二醇全共聚率Nw在6至30莫耳%，而(4)数均分子量Mn，新戊二醇全共聚率Nw，及氧化伸丁基二醇共聚物的高分子量侧15重量%区分之新戊二醇部份共聚率Nh满足下式(II)： Nh/Nw1.11/Mn0.3<0.0560所表之关系的氧化伸丁基二醇共聚物及其制造方法。并揭示，于包含氧化伸丁基二醇共聚物及未反应二醇类之共聚反应混合物，添加至少与未反应之二醇类的重量等量之新鲜四氢喃，连同该四氢喃将未反应二醇类馏除，纯化氧化伸丁基二醇共聚物之方法。

4. 发明专利

TWI263506B 流動性、崩散性經改善的高成型性纖維素粉末 HIGHLY MOLDABLE CELLULOSE POWDER HAVING IMPROVED FLUIDITY AND DISINTEGRATING PROPERTY 有权
简体标题：流动性、崩散性经改善的高成型性纤维素粉末 HIGHLY MOLDABLE CELLULOSE POWDER HAVING IMPROVED FLUIDITY AND DISINTEGRATING PROPERTY
公开(公告)号：TWI263506B
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：TW090116288
申请日：2001-07-03
申请人：旭化成股份有限公司 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
发明人：大生和博 OBAE, KAZUHIRO , 鎌田悦雄 , 本田洋介 , 五味俊一 GOMI, SHUNICH , 山崎有亮 YAMASAKI, NAOAKI
IPC分类号： A61K , C08B
CPC分类号： A61K9/2054 , C08B15/02 , C08B15/08 , Y10T428/2982
摘要：本發明係提供一種成型性、流動性及崩散性之均勻性特別良好之纖維素粉末。其特徵係平均聚合度為150~450、75μm以下之粒子平均L/D為2.0~4.5、平均粒子徑為20~250μm，外觀比容積為4.0~7.0cm3/g，外觀放液比容積為2.4~4.5cm3/g，休止角為55°以下之纖維素粉末者。
简体摘要：本发明系提供一种成型性、流动性及崩散性之均匀性特别良好之纤维素粉末。其特征系平均聚合度为150~450、75μm以下之粒子平均L/D为2.0~4.5、平均粒子径为20~250μm，外观比容积为4.0~7.0cm3/g，外观放液比容积为2.4~4.5cm3/g，休止角为55°以下之纤维素粉末者。

5. 发明专利

TW200634151A 表現水解(Nitrile Hydratase)之轉形體失效
简体标题：表现水解(Nitrile Hydratase)之转形体
公开(公告)号：TW200634151A
公开(公告)日：2006-10-01
申请号：TW094143462
申请日：2005-12-08
申请人：旭化成股份有限公司 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA , 東西石油化學股份有限公司 TONGSUH PETROCHEMICAL CORP. LTD.
发明人：古家加夫留 FURUYA, KAORU , 玉木彰 TAMAKI, AKIRA , 長澤伸一郎 NAGASAWA, SHIN-ICHIRO , 鈴木綾乃 SUZUKI, AYANO
IPC分类号： C12N , C12P
CPC分类号： C12P13/02 , C12N1/20 , C12N9/88
摘要：本發明之目的係提供一種使用水解的醯胺化合物之製造方法，除了具有熱安定性，且即使在作為基質之高濃度化合物及生成物的存在下，亦能保持高度活性。本發明係由自然界探索可表現標的之水解的新穎微生物，並將導入有該酵素基因紅球菌屬之轉形菌體及其菌體處理物用於製造上。
简体摘要：本发明之目的系提供一种使用水解的酰胺化合物之制造方法，除了具有热安定性，且即使在作为基质之高浓度化合物及生成物的存在下，亦能保持高度活性。本发明系由自然界探索可表现标的之水解的新颖微生物，并将导入有该酶基因红球菌属之转形菌体及其菌体处理物用于制造上。

6. 发明专利

TWI259196B 熱塑性樹脂組成物有权
简体标题：热塑性树脂组成物
公开(公告)号：TWI259196B
公开(公告)日：2006-08-01
申请号：TW090115135
申请日：2001-06-21
申请人：旭化成股份有限公司 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
发明人： 川雅弘 , 鈴木勝美 SUZUKI, KATSUMI , 保科敏和
IPC分类号： C08L
摘要：本發明之課題為提供一種熱塑性樹脂組成物，其極具耐熱性、耐油性、耐熱老化性，且拉伸延展特性優異；本發明係藉由於苯乙烯系樹脂及/或聚伸苯醚系樹脂與烯烴系樹脂中，添加特定之部分氫化嵌段共聚物，以製得該熱塑性樹脂組成物。本發明係關於一種熱塑性樹脂組成物，其特徵在於包含：95至5重量%之(A)苯乙烯系樹脂；5至95重量%之(B)乙烯系(共)聚合物及/或丙烯系(共)聚合物；以及相對於總計100重量分之成分(A)及(B)為2至30重量分之(C)部分氫化嵌段共聚物，其中(C)係具有至少1個以乙烯基芳族化合物為主體之聚合物嵌段X、與至少1個以共軛二烯化合物為主體之聚合物嵌段Y，結合乙烯基芳族化合物含量為30至80重量%，而根據以共軛二烯化合物為主體之聚合物嵌段Y中乙烯鍵量為20重量%以上、未達65重量%之嵌段共聚物中共軛二烯化合物的雙鍵之35%以上、未達70%予以氫化所得之部分氫化嵌段共聚物。
简体摘要：本发明之课题为提供一种热塑性树脂组成物，其极具耐热性、耐油性、耐热老化性，且拉伸延展特性优异；本发明系借由于苯乙烯系树脂及/或聚伸苯醚系树脂与烯烃系树脂中，添加特定之部分氢化嵌段共聚物，以制得该热塑性树脂组成物。本发明系关于一种热塑性树脂组成物，其特征在于包含：95至5重量%之(A)苯乙烯系树脂；5至95重量%之(B)乙烯系(共)聚合物及/或丙烯系(共)聚合物；以及相对于总计100重量分之成分(A)及(B)为2至30重量分之(C)部分氢化嵌段共聚物，其中(C)系具有至少1个以乙烯基芳族化合物为主体之聚合物嵌段X、与至少1个以共轭二烯化合物为主体之聚合物嵌段Y，结合乙烯基芳族化合物含量为30至80重量%，而根据以共轭二烯化合物为主体之聚合物嵌段Y中乙烯键量为20重量%以上、未达65重量%之嵌段共聚物中共轭二烯化合物的双键之35%以上、未达70%予以氢化所得之部分氢化嵌段共聚物。

7. 发明专利

TWI257403B 木質合成樹脂組成物失效
简体标题：木质合成树脂组成物
公开(公告)号：TWI257403B
公开(公告)日：2006-07-01
申请号：TW092103562
申请日：2003-02-20
申请人：旭化成股份有限公司 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
发明人：前田睦 , 近藤正昭 , 山內紀子 , 伊藤幹彥
IPC分类号： C08L
CPC分类号： C08L97/02 , C08L23/02 , C08L23/06 , C08L97/00 , C08L2205/02 , C08L2205/03 , C08L2207/062 , C08L2207/068 , C08L2666/26 , C08L23/00 , C08L2666/02
摘要： 5~95重量份(A)熱可塑性樹脂，5~95重量份(C)植物性纖維素，及相對於100重量份(A)+(C)之0.1~10重量份粘度平均分子量為120萬以上之(B)超高分子量聚合物所成，且，(A)熱可塑性樹脂為由(J)聚烴系樹脂組成物所成之木質合成樹脂組成物，可安定的形成打釘、上鋸、拴螺絲等的二次加工性與天然木材同等，強度‧剛性優，表面無粗糙，外觀良好之木質合成樹脂發泡成形物。
简体摘要： 5~95重量份(A)热可塑性树脂，5~95重量份(C)植物性纤维素，及相对于100重量份(A)+(C)之0.1~10重量份粘度平均分子量为120万以上之(B)超高分子量聚合物所成，且，(A)热可塑性树脂为由(J)聚烃系树脂组成物所成之木质合成树脂组成物，可安定的形成打钉、上锯、拴螺丝等的二次加工性与天然木材同等，强度‧刚性优，表面无粗糙，外观良好之木质合成树脂发泡成形物。

8. 发明专利

TWI251585B 高强度矽酸鈣硬化物 CURED FORM OF CALCIUM SILICATE HAVING HIGH STRENGTH 失效
简体标题：高强度硅酸钙硬化物 CURED FORM OF CALCIUM SILICATE HAVING HIGH STRENGTH
公开(公告)号：TWI251585B
公开(公告)日：2006-03-21
申请号：TW090103846
申请日：2001-02-19
申请人：旭化成股份有限公司 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
发明人：松山博圭 MATSUYAMA, HIROYOSHI , 松井久仁雄 , 清水正
IPC分类号： C04B , B28B
CPC分类号： C04B28/18 , C04B2111/00189 , C04B2111/00336 , C04B2111/28 , C04B7/00 , C04B14/04 , C04B22/064 , C04B22/142 , C04B38/0051 , C04B40/024
摘要：本發明係揭示主要由雪矽鈣石所構成，粉末X射線衍射之雪矽鈣石之(220)面之衍射波峰強度Ib，與被雪矽鈣石之(220)面與(222)面之2支衍射波峰所挾之角度區域之衍射強度之最低值Ia之比Ib/Ia為3.0以上，且以水銀壓入法測定之微分細孔分佈曲線之最大值之1/4高度的對數分佈寬度為0.40~1.20之矽酸鈣硬化物、及其複合物及其製造方法。本發明之矽酸鈣硬化物及其複合物之鬆比重輕為0.14~1.0，但具有高強度及彈性模數，同時可作為耐碳酸化阻力、吸水性、尺寸安定性及耐缺損性優異之建築材料使用。
简体摘要：本发明系揭示主要由雪硅钙石所构成，粉末X射线衍射之雪硅钙石之(220)面之衍射波峰强度Ib，与被雪硅钙石之(220)面与(222)面之2支衍射波峰所挟之角度区域之衍射强度之最低值Ia之比Ib/Ia为3.0以上，且以水银压入法测定之微分细孔分布曲线之最大值之1/4高度的对数分布宽度为0.40~1.20之硅酸钙硬化物、及其复合物及其制造方法。本发明之硅酸钙硬化物及其复合物之松比重轻为0.14~1.0，但具有高强度及弹性模数，同时可作为耐碳酸化阻力、吸水性、尺寸安定性及耐缺损性优异之建筑材料使用。

9. 发明专利

TWI250968B 二氧化矽絕緣薄膜製造用之塗佈組成物,及二氧化矽絕緣薄膜之製造方法 COATING COMPOSITION FOR USE IN PRODUCING A SILICA INSULATING THIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING A SILICA INSULATING THIN FILM 失效
简体标题：二氧化硅绝缘薄膜制造用之涂布组成物,及二氧化硅绝缘薄膜之制造方法 COATING COMPOSITION FOR USE IN PRODUCING A SILICA INSULATING THIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING A SILICA INSULATING THIN FILM
公开(公告)号：TWI250968B
公开(公告)日：2006-03-11
申请号：TW090108372
申请日：2001-04-04
申请人：旭化成股份有限公司 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
发明人：花博之 HANAHATA, HIROYUKI , 荒木徹 , 中村三樹彥
IPC分类号： C01B
CPC分类号： H01L21/02126 , C09D183/04 , C09D183/14 , H01L21/02203 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , H01L21/02337 , H01L21/3121 , H01L21/3122 , H01L21/316 , Y10T428/31663
摘要：揭示一種二氧化矽薄膜製造用塗佈組成物，其特徵為，包含(A)含有至少一種選自特定的烷氧基矽烷與其水解物所成群之化合物的二氧化矽前驅體；(B)至少一種有機聚合物；(C)水；以及(D)至少一種醇類；以及，依情況而定亦含有(E)該成分(A)、(B)、(C)以及(D)之混合物的有機溶劑而成之二氧化矽絕緣性薄膜製造用塗佈組成物，
該水(C)相對於該二氧化矽前驅體(A)之重量比( WR)滿足式0.01＜WR＜10，且該水(C)的重量大於該醇類(D)的重量，且
在該有機聚合物(B)不溶於該(C)與該醇類(D)之混合物中的情況下，該塗佈組成物包含(A)～(E)全部。
简体摘要：揭示一种二氧化硅薄膜制造用涂布组成物，其特征为，包含(A)含有至少一种选自特定的烷氧基硅烷与其水解物所成群之化合物的二氧化硅前驱体；(B)至少一种有机聚合物；(C)水；以及(D)至少一种醇类；以及，依情况而定亦含有(E)该成分(A)、(B)、(C)以及(D)之混合物的有机溶剂而成之二氧化硅绝缘性薄膜制造用涂布组成物，该水(C)相对于该二氧化硅前驱体(A)之重量比( WR)满足式0.01＜WR＜10，且该水(C)的重量大于该醇类(D)的重量，且在该有机聚合物(B)不溶于该(C)与该醇类(D)之混合物中的情况下，该涂布组成物包含(A)～(E)全部。

10. 发明专利

TW200607853A 洗淨方法及洗淨裝置 CLEANING METHOD AND CLEANING APPARATUS 审中-公开
简体标题：洗净方法及洗净设备 CLEANING METHOD AND CLEANING APPARATUS
公开(公告)号：TW200607853A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：TW094136721
申请日：2001-05-07
申请人：旭化成股份有限公司 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
发明人： 島和夫 , 加藤謙一 KATO, KENICHI , 松本省慈 MATSUMOTO, SHOJI
IPC分类号： C11D
CPC分类号： C11D7/28 , C11D7/24 , C11D7/26 , C11D7/5018 , C11D11/0005 , C11D11/0029 , C11D11/0041 , C11D11/0047 , C11D11/0076 , C23G5/02803 , C23G5/032 , C23G5/04
摘要：針對任何類型污染，提供顯示媲美於HCF225之高洗淨力同時防止因於被洗物表面污染之再附著的洗淨性降低，並且，一方面防止於高溫下之洗淨或蒸氣洗淨時的氧化劣化，一方面含有低毒性且閃燃性低，完全無臭氧層破壞之憂慮的洗淨性優異之高沸點溶劑的洗淨劑，以及適於該洗淨劑或／及洗滌劑之洗淨方法、污染分離方法與洗淨裝置。加入一種或兩種以上之於20℃時蒸氣壓未滿1.33×10^3Pa成分之化合物於20℃時蒸氣壓1.33×10^3Pa以上之非氯系氟化合物中，進一步利用於必要時併用抗氧化劑之添加之洗淨劑。又，一邊以該洗淨劑來洗淨，一邊利用因沸騰該洗淨劑所產生之該洗淨劑之蒸氣及凝結液，利用以洗滌及／或蒸氣洗淨之洗淨方法、於污染分離槽使洗淨槽中之洗淨劑與凝結水分離槽中之洗淨劑蒸氣之液體接觸，連續地分離除去包含於洗淨劑中之污染成分的污染分離方法及洗淨裝置。
简体摘要：针对任何类型污染，提供显示媲美于HCF225之高洗净力同时防止因于被洗物表面污染之再附着的洗净性降低，并且，一方面防止于高温下之洗净或蒸气洗净时的氧化劣化，一方面含有低毒性且闪燃性低，完全无臭氧层破坏之忧虑的洗净性优异之高沸点溶剂的洗净剂，以及适于该洗净剂或／及洗涤剂之洗净方法、污染分离方法与洗净设备。加入一种或两种以上之于20℃时蒸气压未满1.33×10^3Pa成分之化合物于20℃时蒸气压1.33×10^3Pa以上之非氯系氟化合物中，进一步利用于必要时并用抗氧化剂之添加之洗净剂。又，一边以该洗净剂来洗净，一边利用因沸腾该洗净剂所产生之该洗净剂之蒸气及凝结液，利用以洗涤及／或蒸气洗净之洗净方法、于污染分离槽使洗净槽中之洗净剂与凝结水分离槽中之洗净剂蒸气之液体接触，连续地分离除去包含于洗净剂中之污染成分的污染分离方法及洗净设备。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式