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1. 发明专利

TW200607853A 洗淨方法及洗淨裝置 CLEANING METHOD AND CLEANING APPARATUS 审中-公开
简体标题：洗净方法及洗净设备 CLEANING METHOD AND CLEANING APPARATUS
公开(公告)号：TW200607853A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：TW094136721
申请日：2001-05-07
申请人：旭化成股份有限公司 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
发明人： 島和夫 , 加藤謙一 KATO, KENICHI , 松本省慈 MATSUMOTO, SHOJI
IPC分类号： C11D
CPC分类号： C11D7/28 , C11D7/24 , C11D7/26 , C11D7/5018 , C11D11/0005 , C11D11/0029 , C11D11/0041 , C11D11/0047 , C11D11/0076 , C23G5/02803 , C23G5/032 , C23G5/04
摘要：針對任何類型污染，提供顯示媲美於HCF225之高洗淨力同時防止因於被洗物表面污染之再附著的洗淨性降低，並且，一方面防止於高溫下之洗淨或蒸氣洗淨時的氧化劣化，一方面含有低毒性且閃燃性低，完全無臭氧層破壞之憂慮的洗淨性優異之高沸點溶劑的洗淨劑，以及適於該洗淨劑或／及洗滌劑之洗淨方法、污染分離方法與洗淨裝置。加入一種或兩種以上之於20℃時蒸氣壓未滿1.33×10^3Pa成分之化合物於20℃時蒸氣壓1.33×10^3Pa以上之非氯系氟化合物中，進一步利用於必要時併用抗氧化劑之添加之洗淨劑。又，一邊以該洗淨劑來洗淨，一邊利用因沸騰該洗淨劑所產生之該洗淨劑之蒸氣及凝結液，利用以洗滌及／或蒸氣洗淨之洗淨方法、於污染分離槽使洗淨槽中之洗淨劑與凝結水分離槽中之洗淨劑蒸氣之液體接觸，連續地分離除去包含於洗淨劑中之污染成分的污染分離方法及洗淨裝置。
简体摘要：针对任何类型污染，提供显示媲美于HCF225之高洗净力同时防止因于被洗物表面污染之再附着的洗净性降低，并且，一方面防止于高温下之洗净或蒸气洗净时的氧化劣化，一方面含有低毒性且闪燃性低，完全无臭氧层破坏之忧虑的洗净性优异之高沸点溶剂的洗净剂，以及适于该洗净剂或／及洗涤剂之洗净方法、污染分离方法与洗净设备。加入一种或两种以上之于20℃时蒸气压未满1.33×10^3Pa成分之化合物于20℃时蒸气压1.33×10^3Pa以上之非氯系氟化合物中，进一步利用于必要时并用抗氧化剂之添加之洗净剂。又，一边以该洗净剂来洗净，一边利用因沸腾该洗净剂所产生之该洗净剂之蒸气及凝结液，利用以洗涤及／或蒸气洗净之洗净方法、于污染分离槽使洗净槽中之洗净剂与凝结水分离槽中之洗净剂蒸气之液体接触，连续地分离除去包含于洗净剂中之污染成分的污染分离方法及洗净设备。

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