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    • 1. 发明专利
    • 形成低折射率薄膜用塗佈組成物
    • 形成低折射率薄膜用涂布组成物
    • TWI251615B
    • 2006-03-21
    • TW091136165
    • 2002-12-13
    • 旭化成股份有限公司 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
    • 佐佐木洋朗花博之 HANAHATA, HIROYUKI井岡崇明 IOKA, TAKAAKI
    • C09D
    • C09D183/14C08G77/08C09D1/00C09D183/04
    • 本發明揭示一種組成物,其特徵為包含(A)至少一種的烷氧基矽烷於酸觸媒存在下,進行水解縮聚合所得之流動性二氧化矽前驅物、
      (B)具有至少一種選自鹼性羥基及鹼性氮原子所成群之鹼性化合物,但,該鹼性化合物(B)的0.1N的水溶液的pH為11以上,且該鹼性化合物(B)的100℃下之蒸氣壓為1.3kPa以下,及
      (C)包含沸點為100℃以上,與該流動性二氧化矽前驅物(A)相溶之有機化合物的塗佈組成物,
      該鹼性化合物(B)的量,換算成與該鹼性化合物(B)中的該鹼性羥基及鹼性氮原子的總莫耳量時,對1莫耳的該流動性二氧化矽前驅物(A)中的矽原子而言為0.0015~0.5莫耳。
    • 本发明揭示一种组成物,其特征为包含(A)至少一种的烷氧基硅烷于酸触媒存在下,进行水解缩聚合所得之流动性二氧化硅前驱物、 (B)具有至少一种选自碱性羟基及碱性氮原子所成群之碱性化合物,但,该碱性化合物(B)的0.1N的水溶液的pH为11以上,且该碱性化合物(B)的100℃下之蒸气压为1.3kPa以下,及 (C)包含沸点为100℃以上,与该流动性二氧化硅前驱物(A)相溶之有机化合物的涂布组成物, 该碱性化合物(B)的量,换算成与该碱性化合物(B)中的该碱性羟基及碱性氮原子的总莫耳量时,对1莫耳的该流动性二氧化硅前驱物(A)中的硅原子而言为0.0015~0.5莫耳。