专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

81. 发明专利

TW201816197A 基板固持器、鍍覆裝置、基板固持器之製造方法、以及基板保持方法审中-公开
简体标题：基板固持器、镀覆设备、基板固持器之制造方法、以及基板保持方法
公开(公告)号：TW201816197A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106130627
申请日：2017-09-07
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：宮本松太郎 , MIYAMOTO, MATSUTARO , 向山佳孝 , MUKAIYAMA, YOSHITAKA
IPC分类号： C25D7/12 , C25D17/06 , C25D21/00 , C23C18/31
摘要：本發明之基板固持器具備將基板夾持而固定之第一及第二保持構件，前述第一保持構件具有：第一保持構件本體；及夾具(clamp)，設於前述第一保持構件本體，可在與前述第一保持構件本體之面平行的軸周圍旋轉，或可在與前述第一保持構件本體之面交叉的方向往返移動；前述第二保持構件具有第二保持構件本體，前述夾具係構成在前述第一保持構件本體及前述第二保持構件本體彼此抵接狀態下與前述第二保持構件嚙合，可將前述第二保持構件固定於前述第一保持構件。
简体摘要：本发明之基板固持器具备将基板夹持而固定之第一及第二保持构件，前述第一保持构件具有：第一保持构件本体；及夹具(clamp)，设于前述第一保持构件本体，可在与前述第一保持构件本体之面平行的轴周围旋转，或可在与前述第一保持构件本体之面交叉的方向往返移动；前述第二保持构件具有第二保持构件本体，前述夹具系构成在前述第一保持构件本体及前述第二保持构件本体彼此抵接状态下与前述第二保持构件啮合，可将前述第二保持构件固定于前述第一保持构件。

82. 发明专利

TW201814087A 鍍覆裝置审中-公开
简体标题：镀覆设备
公开(公告)号：TW201814087A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：TW106127082
申请日：2017-08-10
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：谷澤昭尋 , YAZAWA, AKIHIRO , 小林賢一 , KOBAYASHI, KENICHI , 宮澤康之 , MIYASAWA, YASUYUKI , 相馬剛 , SOMA, TSUYOSHI
IPC分类号： C25D7/12 , C25D19/00
CPC分类号： C25D17/06 , C25D17/00
摘要：本發明提供一種鍍覆裝置，能夠一邊繼續運轉，一邊進行基板保持架的維護，該裝置包括：處理部(170C)，對基板W進行鍍覆；保管容器(20)，對用於保持基板W的基板保持架(11)進行保管；搬運機(140)，在處理部(170C)與保管容器(20)之間搬運基板保持架(11)；維護區域(21)，與保管容器(20)鄰接；以及基板保持架載體(25)，支承於保管容器(20)。基板保持架載體(25)構成為：能夠以支承有基板保持架(11)的狀態而在保管容器(20)與維護區域(21)之間移動。
简体摘要：本发明提供一种镀覆设备，能够一边继续运转，一边进行基板保持架的维护，该设备包括：处理部(170C)，对基板W进行镀覆；保管容器(20)，对用于保持基板W的基板保持架(11)进行保管；搬运机(140)，在处理部(170C)与保管容器(20)之间搬运基板保持架(11)；维护区域(21)，与保管容器(20)邻接；以及基板保持架载体(25)，支承于保管容器(20)。基板保持架载体(25)构成为：能够以支承有基板保持架(11)的状态而在保管容器(20)与维护区域(21)之间移动。

83. 发明专利

TW201812096A 鍍覆裝置审中-公开
简体标题：镀覆设备
公开(公告)号：TW201812096A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106145064
申请日：2014-03-25
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：平尾智則 , HIRAO, TOMONORI
IPC分类号： C23C18/31 , H01L21/288
CPC分类号： C25D5/48 , B65G45/10 , B65G45/22 , B65G45/24 , B65G45/26 , C23C18/1628 , C23C18/163 , C23C18/1632 , C23C18/1675 , C25D17/001 , C25D17/06 , C25D21/02 , C25D21/04 , C25D21/06
摘要：一種鍍覆裝置係具備：處理槽，其係積存處理液；基板保持器，其係保持基板；搬運機，其係使保持有基板之基板保持器浸漬於處理槽內的處理液，且將基板保持器從處理槽拉升，進而搬運基板保持器；以及，氣流形成裝置，其係在基板保持器的搬運方向於基板的前方形成清淨氣流。搬運機係朝水平方向搬運基板保持器之期間，使氣流形成裝置與基板保持器一體地朝水平方向移動。
简体摘要：一种镀覆设备系具备：处理槽，其系积存处理液；基板保持器，其系保持基板；搬运机，其系使保持有基板之基板保持器浸渍于处理槽内的处理液，且将基板保持器从处理槽拉升，进而搬运基板保持器；以及，气流形成设备，其系在基板保持器的搬运方向于基板的前方形成清净气流。搬运机系朝水平方向搬运基板保持器之期间，使气流形成设备与基板保持器一体地朝水平方向移动。

84. 发明专利

TW201811500A 修整製程之監視方法及研磨裝置审中-公开
简体标题：修整制程之监视方法及研磨设备
公开(公告)号：TW201811500A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106145303
申请日：2013-08-28
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：篠崎弘行 , SHINOZAKI, HIROYUKI
IPC分类号： B24B37/07
CPC分类号： B24B49/18 , B24B49/16
摘要：本發明提供一種將對研磨墊的修整工作數值化，可在研磨墊的修整中監視墊修整之方法。本發明使支持研磨墊22的研磨台12旋轉；使修整器50在研磨墊22的半徑方向搖動，同時將修整器50壓抵於旋轉的研磨墊22並修整研磨墊22；在研磨墊22的修整中，算出表示在修整器50與研磨墊22之間運作的摩擦力與壓抵力的比率的工作係數Z；以及根據工作係數Z，監視研磨墊22的修整。
简体摘要：本发明提供一种将对研磨垫的修整工作数值化，可在研磨垫的修整中监视垫修整之方法。本发明使支持研磨垫22的研磨台12旋转；使修整器50在研磨垫22的半径方向摇动，同时将修整器50压抵于旋转的研磨垫22并修整研磨垫22；在研磨垫22的修整中，算出表示在修整器50与研磨垫22之间运作的摩擦力与压抵力的比率的工作系数Z；以及根据工作系数Z，监视研磨垫22的修整。

85. 发明专利

TW202030382A 滲漏檢查方法、滲漏檢查裝置、鍍覆方法、及鍍覆裝置审中-公开
简体标题：渗漏检查方法、渗漏检查设备、镀覆方法、及镀覆设备
公开(公告)号：TW202030382A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108145296
申请日：2019-12-11
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：鈴木潔 , SUZUKI, KIYOSHI , 藤方淳平 , FUJIKATA, JUMPEI
IPC分类号： C25D21/12 , C25D17/06 , H01L21/288 , H01L21/683
摘要：本發明提供滲漏檢查方法、滲漏檢查裝置、鍍覆方法、以及鍍覆裝置，能適當辨別滲漏的程度。本方法實施第一檢查，第一檢查中一邊對利用基板保持器24的密封件45形成的內部空間R真空排氣，一邊測定內部空間R的壓力，檢測上述壓力在規定的第一檢查時間內達到第一壓力閾值的情況，在第一檢查後實施第二檢查，第二檢查中將進行了真空排氣的內部空間R封閉，測定被封閉了的內部空間R的壓力，檢測規定的第二檢查時間內的被封閉了的內部空間R的壓力超出第二壓力閾值且不上升的情況，在第二檢查後實施第三檢查，第三檢查中測定被封閉了的內部空間R的壓力與主容器120內的真空壓力的壓力差，檢測規定的第三檢查時間內的上述壓力差的上升幅度維持在壓力差閾值以下的情況。
简体摘要：本发明提供渗漏检查方法、渗漏检查设备、镀覆方法、以及镀覆设备，能适当辨别渗漏的程度。本方法实施第一检查，第一检查中一边对利用基板保持器24的密封件45形成的内部空间R真空排气，一边测定内部空间R的压力，检测上述压力在规定的第一检查时间内达到第一压力阈值的情况，在第一检查后实施第二检查，第二检查中将进行了真空排气的内部空间R封闭，测定被封闭了的内部空间R的压力，检测规定的第二检查时间内的被封闭了的内部空间R的压力超出第二压力阈值且不上升的情况，在第二检查后实施第三检查，第三检查中测定被封闭了的内部空间R的压力与主容器120内的真空压力的压力差，检测规定的第三检查时间内的上述压力差的上升幅度维持在压力差阈值以下的情况。

86. 发明专利

TW202027564A 電磁鐵控制裝置、電磁鐵及電磁鐵控制方法审中-公开
简体标题：电磁铁控制设备、电磁铁及电磁铁控制方法
公开(公告)号：TW202027564A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW109107086
申请日：2016-05-10
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：大橋知範 , OHASHI, TOMONORI , 茨田敏光 , BARADA, TOSHIMITSU , 山崎裕延 , YAMASAKI, HIRONOBU , 工藤美沙子 , KUDO, MISAKO , 佐藤一樹 , SATO, ICHIJU
IPC分类号： H05H1/46 , H01F7/06 , H01F27/22 , H01L21/3065
摘要：本發明之電磁鐵裝置，係具有：前面具有環狀的溝槽之磁軛；配置於溝槽之環狀的線圈；以及設於線圈的外面，使線圈相對於磁軛而固定之環氧樹脂；而在磁軛的溝槽的外周面、與設在線圈的徑向外側之環氧樹脂之間設有間隙。
简体摘要：本发明之电磁铁设备，系具有：前面具有环状的沟槽之磁轭；配置于沟槽之环状的线圈；以及设于线圈的外面，使线圈相对于磁轭而固定之环氧树脂；而在磁轭的沟槽的外周面、与设在线圈的径向外侧之环氧树脂之间设有间隙。

87. 发明专利

TWI698555B 鍍覆裝置及鍍覆方法有权
简体标题：镀覆设备及镀覆方法
公开(公告)号：TWI698555B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW106105907
申请日：2017-02-22
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：下山正 , SHIMOYAMA, MASASHI , 岸貴士 , KISHI, TAKASHI
IPC分类号： C25D5/02 , C25D7/12 , H01L21/288 , H01L21/28

88. 外观设计

TWD204996S 電連接端子有权
简体标题：电连接端子
公开(公告)号：TWD204996S
公开(公告)日：2020-06-01
申请号：TW108306474
申请日：2019-10-18
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
设计人：鈴木潔 , SUZUKI, KIYOSHI

89. 发明专利

TWI692444B 用於基板鍍覆的氧化銅固形物、該氧化銅固形物之製造方法、及用以供給鍍覆液至鍍覆槽的裝置有权
简体标题：用于基板镀覆的氧化铜固形物、该氧化铜固形物之制造方法、及用以供给镀覆液至镀覆槽的设备
公开(公告)号：TWI692444B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：TW108128174
申请日：2019-08-08
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：山川純逸 , YAMAKAWA, JUNITSU , 竇春暉 , DOU, CHUNHUI , 木村梨沙 , KIMURA, RISA , 横山俊夫 , YOKOYAMA, TOSHIO
IPC分类号： C01G3/02 , C25D21/14 , C25D3/38

90. 发明专利

TW202014560A 用於在基板保持器上保持基板和/或用於解除基板保持器對基板的保持的裝置及具有該裝置的鍍敷裝置审中-公开
简体标题：用于在基板保持器上保持基板和/或用于解除基板保持器对基板的保持的设备及具有该设备的镀敷设备
公开(公告)号：TW202014560A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108134521
申请日：2019-09-25
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：對馬拓也 , TSUSHIMA, TAKUYA
IPC分类号： C25D17/06
摘要：本發明提供一種能夠適合於兩面保持器的基板裝卸裝置。本發明公開了一種裝置，所述裝置用於在基板保持器上保持基板和/或用於解除基板保持器對基板的保持，基板保持器包括第一框架及第二框架，第一框架及第二框架分別具有開口，裝置包括用於在第一框架及第二框架之間夾持基板的基板支持單元，基板支持單元包括下部基板支持件與上部基板支持件，下部基板支持件構成為通過位於下方的框架的開口而與基板接觸，上部基板支持件構成為通過位於上方的框架的開口而與基板接觸。
简体摘要：本发明提供一种能够适合于两面保持器的基板装卸设备。本发明公开了一种设备，所述设备用于在基板保持器上保持基板和/或用于解除基板保持器对基板的保持，基板保持器包括第一框架及第二框架，第一框架及第二框架分别具有开口，设备包括用于在第一框架及第二框架之间夹持基板的基板支持单元，基板支持单元包括下部基板支持件与上部基板支持件，下部基板支持件构成为通过位于下方的框架的开口而与基板接触，上部基板支持件构成为通过位于上方的框架的开口而与基板接触。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式