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    • 76. 发明专利
    • p型選擇射極形成方法及太陽電池
    • p型选择射极形成方法及太阳电池
    • TW201511302A
    • 2015-03-16
    • TW103119544
    • 2014-06-05
    • 信越化學工業股份有限公司SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
    • 高橋光人TAKAHASHI, MITSUHITO白井省三SHIRAI, SHOZO大塚寛之OTSUKA, HIROYUKI
    • H01L31/0224H01L31/068H01L31/18
    • H01L21/2254H01L21/2225H01L31/068H01L31/1804Y02E10/547Y02P70/521
    • 藉由p型選擇射極形成方法,該方法包含:在矽基板之受光面側形成有機矽化合物之膜的工程,和除去該有機矽化合物之膜中應形成高濃度擴散層之區域而在該區域形成開口部之工程,和接著覆蓋上述有機矽化合物之膜及開口部而塗佈第一摻雜塗佈劑,且從上述有機矽化合物及開口部使第一摻雜劑擴散在上述矽基板,在從上述開口部擴散第一摻雜劑之部分上形成高濃度擴散層,在通過上述有機矽化合物之膜而擴散第一摻雜劑之部分上形成低濃度擴散層之工程,可以簡單製造出具有p型選擇射極層之太陽電池,且該p型選擇射極層具有高濃度擴散層和低濃度擴散層,並可以一面維持製造良率在高水準,一面提供高性能的太陽電池。
    • 借由p型选择射极形成方法,该方法包含:在硅基板之受光面侧形成有机硅化合物之膜的工程,和除去该有机硅化合物之膜中应形成高浓度扩散层之区域而在该区域形成开口部之工程,和接着覆盖上述有机硅化合物之膜及开口部而涂布第一掺杂涂布剂,且从上述有机硅化合物及开口部使第一掺杂剂扩散在上述硅基板,在从上述开口部扩散第一掺杂剂之部分上形成高浓度扩散层,在通过上述有机硅化合物之膜而扩散第一掺杂剂之部分上形成低浓度扩散层之工程,可以简单制造出具有p型选择射极层之太阳电池,且该p型选择射极层具有高浓度扩散层和低浓度扩散层,并可以一面维持制造良率在高水准,一面提供高性能的太阳电池。