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71. 发明专利

TW201814873A 用於半導體晶圓檢查之缺陷標記审中-公开
简体标题：用于半导体晶圆检查之缺陷标记
公开(公告)号：TW201814873A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：TW106133040
申请日：2017-09-27
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：碩爾特大衛 , SHORTT, DAVID , 藍居史蒂芬 , LANGE, STEVEN , 魏俊偉 , WEI, JUNWEI , 卡普丹尼爾 , KAPP, DANIEL , 阿姆斯丹查理士 , AMSDEN, CHARLES
IPC分类号： H01L23/544 , H01L21/322
CPC分类号： G01N21/8851 , G01N1/286 , G01N1/44 , G01N21/8806 , G01N21/9501
摘要：本文中闡述用於準確地定位先前由一檢查系統偵測到之掩埋缺陷之方法及系統。在一晶圓之表面上由一檢查系統偵測到之一掩埋缺陷附近做出一實體標記。另外，該檢查系統在至少兩個維度上準確地量測該所偵測缺陷與該實體標記之間的距離。將該晶圓、該標記之標稱位置之一指示以及該偵測缺陷與標記之間的該距離之一指示傳送至一材料移除工具。該材料移除工具(例如，一聚焦離子束(FIB)機械加工工具)自該晶圓之該表面該掩埋缺陷上方移除材料直至使該掩埋缺陷對一基於電子束之量測系統可見為止。隨後，採用該基於電子束之量測系統來進一步分析該缺陷。
简体摘要：本文中阐述用于准确地定位先前由一检查系统侦测到之掩埋缺陷之方法及系统。在一晶圆之表面上由一检查系统侦测到之一掩埋缺陷附近做出一实体标记。另外，该检查系统在至少两个维度上准确地量测该所侦测缺陷与该实体标记之间的距离。将该晶圆、该标记之标称位置之一指示以及该侦测缺陷与标记之间的该距离之一指示发送至一材料移除工具。该材料移除工具(例如，一聚焦离子束(FIB)机械加工工具)自该晶圆之该表面该掩埋缺陷上方移除材料直至使该掩埋缺陷对一基于电子束之量测系统可见为止。随后，采用该基于电子束之量测系统来进一步分析该缺陷。

72. 发明专利

TWI618912B 用於控制照明之光譜屬性之系統及光學度量衡系統與執行光學度量衡之方法有权
简体标题：用于控制照明之光谱属性之系统及光学度量衡系统与运行光学度量衡之方法
公开(公告)号：TWI618912B
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW102146753
申请日：2013-12-17
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：馬那森阿農 , MANASSEN, AMNON , 希爾安卓V , HILL, ANDREW V. , 貝洽爾歐哈德 , BACHAR, OHAD , 亞伯瑞穆艾維 , ABRAMOV, AVI , 尼葛瑞戴瑞亞 , NEGRI, DARIA
IPC分类号： G01B11/00 , G01N21/84
CPC分类号： G01B11/02 , F21V5/02 , F21V5/04 , F21V9/40 , F21V14/08 , G01N21/55 , G02B5/18 , G02B5/205 , G02B6/0005 , G02B6/02 , G02B6/3512 , G02B6/4215 , G02B26/008 , G02B26/023 , G02B26/04 , G02B26/0816 , G02B27/1026 , G02B27/141 , G02B27/146

73. 发明专利

TW201810477A 同時多重角度光譜审中-公开
简体标题：同时多重角度光谱
公开(公告)号：TW201810477A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106119204
申请日：2017-06-09
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：克里許南桑卡 , KRISHNAN, SHANKAR , 布特納爾亞歷山德爾 , BUETTNER, ALEXANDER , 普魯克克里絲汀 , PURRUCKER, KERSTIN , 王大衛 Y , WANG, DAVID Y.
IPC分类号： H01L21/66 , G01J3/02
CPC分类号： G01J3/189 , G01J3/0289 , G01J3/10 , G01J3/2803 , G01N21/255 , G01N21/27 , G01N33/00 , G01N2033/0095
摘要：本文呈現用於在入射角(AOI)、方位角或兩者之一寬範圍內執行半導體結構之同時光譜量測的方法及系統。在不同感測器區域上方依高通量同時量測包含入射角、方位角或兩者之兩個或兩個以上子範圍的光譜。根據AOI、方位角或兩者之各子範圍之波長來跨一或多個偵測器之不同光敏區域線性分散收集光。各不同光敏區域配置於該一或多個偵測器上以對AOI、方位角或兩者之各不同範圍執行一單獨光譜量測。依此方式，依高信雜比同時偵測AOI、方位角或兩者之一寬範圍。此方法實現依高通量、高精確度及高準確性來高通量量測高縱橫比結構。
简体摘要：本文呈现用于在入射角(AOI)、方位角或两者之一宽范围内运行半导体结构之同时光谱量测的方法及系统。在不同传感器区域上方依高通量同时量测包含入射角、方位角或两者之两个或两个以上子范围的光谱。根据AOI、方位角或两者之各子范围之波长来跨一或多个侦测器之不同光敏区域线性分散收集光。各不同光敏区域配置于该一或多个侦测器上以对AOI、方位角或两者之各不同范围运行一单独光谱量测。依此方式，依高信杂比同时侦测AOI、方位角或两者之一宽范围。此方法实现依高通量、高精确度及高准确性来高通量量测高纵横比结构。

74. 发明专利

TW201809796A 用於自一寬頻源產生多通道可調照明之系統及方法审中-公开
简体标题：用于自一宽带源产生多信道可调照明之系统及方法
公开(公告)号：TW201809796A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106127873
申请日：2017-08-17
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：希爾安卓 V , HILL, ANDREW V. , 馬那森阿農 , MANASSEN, AMNON , 貝洽爾歐哈德 , BACHAR, OHAD
IPC分类号： G02B26/02 , G02B5/20
CPC分类号： G01N21/255 , G01J3/10 , G01J3/12 , G01J2003/1213 , G01N2201/0666 , G01N2201/0668 , G01N2201/0675 , G01N2201/0683 , G03F7/70633
摘要：本發明揭示一種度量系統，其包含：一照明源，其用於產生一照明光束；一多通道光譜濾波器；一聚焦元件，其用於將照明自單一光學柱導引至一樣本；及至少一偵測器，其用於擷取自該樣本收集之照明。該多通道光譜濾波器包含具有兩個或兩個以上通道光束路徑之兩個或兩個以上濾波通道。該兩個或兩個以上濾波通道基於兩個或兩個以上光譜透射率分佈來過濾沿該兩個或兩個以上通道光束路徑傳播之照明。該多通道光學濾波器進一步包含用於將該照明光束之至少一部分導引至至少一選定濾波通道中以過濾該照明光束之一通道選擇器。該多通道光譜濾波器進一步包含用於將來自該兩個或兩個以上濾波通道之照明組合成一單一光學柱之至少一光束組合器。
简体摘要：本发明揭示一种度量系统，其包含：一照明源，其用于产生一照明光束；一多信道光谱滤波器；一聚焦组件，其用于将照明自单一光学柱导引至一样本；及至少一侦测器，其用于截取自该样本收集之照明。该多信道光谱滤波器包含具有两个或两个以上信道光束路径之两个或两个以上滤波信道。该两个或两个以上滤波信道基于两个或两个以上光谱透射率分布来过滤沿该两个或两个以上信道光束路径传播之照明。该多信道光学滤波器进一步包含用于将该照明光束之至少一部分导引至至少一选定滤波信道中以过滤该照明光束之一信道选择器。该多信道光谱滤波器进一步包含用于将来自该两个或两个以上滤波信道之照明组合成一单一光学柱之至少一光束组合器。

75. 发明专利

TWI617799B 用於在半導體晶圓上之缺陷之自動分類的決策樹結構有权
简体标题：用于在半导体晶圆上之缺陷之自动分类的决策树结构
公开(公告)号：TWI617799B
公开(公告)日：2018-03-11
申请号：TW103138098
申请日：2014-11-03
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：陳千輝亞當 , CHEN, CHIEN-HUEI ADAM , 梅赫克里斯 , MAHER, CHRIS , 修特派翠克 , HUET, PATRICK , 聶泰坎 , NG, TAI-KAM , 喬丹約翰雷蒙德 , JORDAN, JOHN RAYMOND
IPC分类号： G01N21/94 , G01N21/95
CPC分类号： G06K9/6285 , G06K9/6282 , G06T7/0004

76. 发明专利

TWI616962B 用於晶圓檢驗之方法、系統及非暫時性電腦可讀取媒體有权
简体标题：用于晶圆检验之方法、系统及非暂时性电脑可读取媒体
公开(公告)号：TWI616962B
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW103122161
申请日：2014-06-26
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：高翔 , GAO, XIANG , 伏蘭納菲利浦D , FLANNER, PHILIP D. , 波斯拉夫斯基李奧尼多 , POSLAVSKY, LEONID , 狄明 , DI, MING , 趙寬 , ZHAO, QIANG , 培納爾史考特 , PENNER, SCOTT
IPC分类号： H01L21/66 , G01N21/95
CPC分类号： H01L22/12 , G01N21/211 , G01N2021/213 , H01L22/20

77. 发明专利

TW201805844A 用於自動產生一晶圓影像以設計座標映射之系統、方法及電腦程式產品审中-公开
简体标题：用于自动产生一晶圆影像以设计座标映射之系统、方法及电脑进程产品
公开(公告)号：TW201805844A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106118145
申请日：2017-06-01
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：巴哈特阿恰亞桑透許 , BHATTACHARYYA, SANTOSH
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06T7/0006 , G06T7/001 , G06T7/33 , G06T2207/10004 , G06T2207/20101 , G06T2207/30148
摘要：本發明提供一種用於自動產生一晶圓影像以設計座標映射之系統、方法及電腦程式產品。在使用中，一晶圓之一設計由一電腦處理器接收。另外，由該設計製造之一晶圓之一影像由該電腦處理器接收。此外，該設計與該影像之間的一座標映射由該電腦處理器自動產生。
简体摘要：本发明提供一种用于自动产生一晶圆影像以设计座标映射之系统、方法及电脑进程产品。在使用中，一晶圆之一设计由一电脑处理器接收。另外，由该设计制造之一晶圆之一影像由该电脑处理器接收。此外，该设计与该影像之间的一座标映射由该电脑处理器自动产生。

78. 发明专利

TWI614884B 影像感測器、製造影像感測器之方法、及檢驗系統有权
简体标题：影像传感器、制造影像传感器之方法、及检验系统
公开(公告)号：TWI614884B
公开(公告)日：2018-02-11
申请号：TW106113024
申请日：2013-03-28
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：陳振華 , CHERN,JEHN-HUAR , 伊桑尼阿里 R , EHSANI,ALI R. , 德爾加多吉爾達多 , DELGADO,GILDARDO , 布朗大衛 L , BROWN,DAVID L. , 莊勇和艾力克斯 , CHUANG,YUNG-HO ALEX , 費爾登約翰 , FIELDEN,JOHN
IPC分类号： H01L27/146 , G01N21/88 , G01N21/95
CPC分类号： H01L31/0216 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/95676 , H01L27/1462 , H01L27/1464 , H01L27/14685 , H01L27/14689 , H01L27/14806

79. 发明专利

TWI613433B 用於背光檢測之物體載具、系統及方法有权
简体标题：用于背光检测之物体载具、系统及方法
公开(公告)号：TWI613433B
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW102130675
申请日：2013-08-27
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：渥特斯克里斯夫 , WOUTERS, CHRISTOPHE , 畢肯斯史帝芬 , BOEYKENS, STEVEN , 史邁茲卡爾 , SMETS, CARL
IPC分类号： G01N21/63 , G01N21/88
CPC分类号： G01N21/6489 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N21/958 , G01N2201/02 , G01N2201/061 , G01N2201/06113 , G01N2201/06193 , G01N2201/062

80. 发明专利

TWI612378B 照射系統及將來自複數個照射源之輻射反射至共同光學路徑之方法有权
简体标题：照射系统及将来自复数个照射源之辐射反射至共同光学路径之方法
公开(公告)号：TWI612378B
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW102112556
申请日：2013-04-09
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：瓦克丹尼爾 , WACK, DANIEL , 烏瑪史塔特卡爾R , UMSTADTER, KARL R. , 區利塞法藍西絲 , CHILESE, FRANCIS , 王代冕 , WANG, DAIMIAN , 馬艾德 , MA, ED
IPC分类号： G03F1/84 , G01N21/956
CPC分类号： G02B26/123 , G01N21/8806 , G01N2021/95676 , G01N2201/105 , G03F1/24 , G03F1/84 , G03F7/7005

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