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71. 发明专利

TWI400747B 雷射照射方法及裝置有权
简体标题：激光照射方法及设备
公开(公告)号：TWI400747B
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW096124650
申请日：2007-07-06
申请人：日本製鋼所股份有限公司 , THE JAPAN STEEL WORKS, LTD.
发明人：金澤正仁 , SHOJI KANAZAWA , 井波俊夫 , TOSHIO INAMI , 次田純一 , JUNICHI SHIDA
IPC分类号： H01L21/26

72. 发明专利

TW201323178A 薄壁成形品之成形方法审中-公开
公开(公告)号：TW201323178A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101121274
申请日：2012-06-14
申请人：日本製鋼所股份有限公司 , THE JAPAN STEEL WORKS, LTD.
发明人：兒玉浩一 , KODAMA, KOICHI , 澤田靖彥 , SAWADA, YASUHIKO , 須佐圭吳 , SUSA, KEIGO
IPC分类号： B29C45/60 , B29C45/72 , B29L7/00 , B29L11/00
摘要：本發明提供一種可以較薄之壁厚成形中型以上之液晶用導光板的薄壁成形品之成形方法。本發明係使用包括加熱汽缸(5)及螺桿(6)之射出裝置(2)而成形。首先，將模具(20、21)設為以既定量打開之狀態而沿軸向驅動螺桿(6)，從而向模腔內射出熔融樹脂。繼而，鎖定模具(20、21)而壓縮射出之熔融樹脂。於該壓縮之實施過程中，以既定時間使螺桿(6)後退而使模腔內之熔融樹脂之樹脂壓力降低。然後，實施向螺桿(6)施加軸向驅動力而向熔融樹脂施加既定之樹脂壓力之保壓。保壓中之螺桿(6)之驅動亦可實施速度控制，然後切換為壓力控制。
简体摘要：本发明提供一种可以较薄之壁厚成形中型以上之液晶用导光板的薄壁成形品之成形方法。本发明系使用包括加热汽缸(5)及螺杆(6)之射出设备(2)而成形。首先，将模具(20、21)设为以既定量打开之状态而沿轴向驱动螺杆(6)，从而向模腔内射出熔融树脂。继而，锁定模具(20、21)而压缩射出之熔融树脂。于该压缩之实施过程中，以既定时间使螺杆(6)后退而使模腔内之熔融树脂之树脂压力降低。然后，实施向螺杆(6)施加轴向驱动力而向熔融树脂施加既定之树脂压力之保压。保压中之螺杆(6)之驱动亦可实施速度控制，然后切换为压力控制。

73. 发明专利

TW201211392A 來回作動壓縮機之餘隙穴审中-公开
简体标题：来回作动压缩机之余隙穴
公开(公告)号：TW201211392A
公开(公告)日：2012-03-16
申请号：TW100129157
申请日：2011-08-16
申请人：日本製鋼所股份有限公司
发明人：立山省吾 , 大羽淳司
IPC分类号： F04B
CPC分类号： F04B39/125 , F04B39/0055 , F04B39/122 , F04B49/16 , F04B53/16
摘要：本發明之目的在於將螺合於餘隙活塞桿上之螺母設為經由彈簧構件卡合之二體，且可藉由無嘎嘎聲之螺合而實現穩定之動作及遠距離操作等。本發明之來回作動壓縮機之餘隙穴包括：桿59，其設置於餘隙活塞58且具有外螺紋59a，並且藉由防轉器84而保持成非旋轉狀態；螺母74，其螺合於上述外螺紋59a；及第1、第2螺母部75、76，其等形成上述螺母74，且經由彈簧構件77相互向反方向施力而卡合；且為即便於螺桿之咬合上無嘎嘎聲而變動負重作用於桿59上，亦可獲得穩定動作之構成。
简体摘要：本发明之目的在于将螺合于余隙活塞杆上之螺母设为经由弹簧构件卡合之二体，且可借由无嘎嘎声之螺合而实现稳定之动作及远距离操作等。本发明之来回作动压缩机之余隙穴包括：杆59，其设置于余隙活塞58且具有外螺纹59a，并且借由防转器84而保持成非旋转状态；螺母74，其螺合于上述外螺纹59a；及第1、第2螺母部75、76，其等形成上述螺母74，且经由弹簧构件77相互向反方向施力而卡合；且为即便于螺杆之咬合上无嘎嘎声而变动负重作用于杆59上，亦可获得稳定动作之构成。

74. 发明专利

TW201203325A 雷射回火處理裝置以及雷射回火處理方法 APPARATUS AND METHOD FOR LASER ANNEAL TREATMENT 审中-公开
简体标题：激光回火处理设备以及激光回火处理方法 APPARATUS AND METHOD FOR LASER ANNEAL TREATMENT
公开(公告)号：TW201203325A
公开(公告)日：2012-01-16
申请号：TW099127451
申请日：2010-08-17
申请人：日本製鋼所股份有限公司
发明人：次田純一 , 鄭石煥 , 町田政志
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/268 , B23K26/0622 , B23K26/064 , B23K26/0853 , B23K26/12 , B23K26/127 , H01L21/02532 , H01L21/02686
摘要：一種雷射回火處理裝置，於以脈衝雷射光照射半導體膜作回火時，可不提高適合的脈衝能量密度而增大脈衝能量密度的容限。此裝置包括輸出脈衝雷射光的雷射光源、對脈衝雷射光作整形並將其導引至作為處理對象的半導體膜的光學系統，以及設置照射脈衝雷射光的半導體膜的平台。上述脈衝雷射光自脈衝能量密度的最大高度的10%升至最大高度的上升時間為35奈秒以下，自最大高度降至最大高度的10%的下降時間為80奈秒以上，藉此可不顯著增大適合於結晶化等的脈衝能量密度而增大脈衝能量密度的容限量，從而可不使處理量降低地進行優質的回火處理。
简体摘要：一种激光回火处理设备，于以脉冲激光光照射半导体膜作回火时，可不提高适合的脉冲能量密度而增大脉冲能量密度的容限。此设备包括输出脉冲激光光的激光光源、对脉冲激光光作整形并将其导引至作为处理对象的半导体膜的光学系统，以及设置照射脉冲激光光的半导体膜的平台。上述脉冲激光光自脉冲能量密度的最大高度的10%升至最大高度的上升时间为35奈秒以下，自最大高度降至最大高度的10%的下降时间为80奈秒以上，借此可不显着增大适合于结晶化等的脉冲能量密度而增大脉冲能量密度的容限量，从而可不使处理量降低地进行优质的回火处理。

75. 发明专利

TW201200283A 氛圍安定化方法及雷射處理裝置审中-公开
简体标题：氛围安定化方法及激光处理设备
公开(公告)号：TW201200283A
公开(公告)日：2012-01-01
申请号：TW100108687
申请日：2011-03-15
申请人：日本製鋼所股份有限公司
发明人：武田直樹 , 伊達昭夫
IPC分类号： B23K
CPC分类号： B23K26/123 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/0853 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , H01L21/67115
摘要：本發明之課題是在將基板搬入到雷射處理裝置後，當使基板旋轉90°時，防止旋轉途中之氣體氛圍變亂。本發明之解決手段是以使氣體噴射口(6)位於基板(P)之第1邊(p1)之中央部附近之方式，搬入基板(P)(二點鏈線)，其次以基板(P)之中心接近氣體噴射口(6)之方式，使基板(P)直線移動(實線)，其次以基板(P)之中心作為旋轉軸使基板(P)水平旋轉90°。本發明之效果由於是在旋轉途中氣體噴射口(6)之端部不會在密封蓋(8)之外，所以可以防止氣體之洩漏而使氣體氛圍變亂。
简体摘要：本发明之课题是在将基板搬入到激光处理设备后，当使基板旋转90°时，防止旋转途中之气体氛围变乱。本发明之解决手段是以使气体喷射口(6)位于基板(P)之第1边(p1)之中央部附近之方式，搬入基板(P)(二点链线)，其次以基板(P)之中心接近气体喷射口(6)之方式，使基板(P)直线移动(实线)，其次以基板(P)之中心作为旋转轴使基板(P)水平旋转90°。本发明之效果由于是在旋转途中气体喷射口(6)之端部不会在密封盖(8)之外，所以可以防止气体之泄漏而使气体氛围变乱。

76. 发明专利

TW201142924A 雷射處理裝置 LASER TREATMENT APPARATUS 审中-公开
简体标题：激光处理设备 LASER TREATMENT APPARATUS
公开(公告)号：TW201142924A
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：TW100112641
申请日：2011-04-12
申请人：日本製鋼所股份有限公司
发明人：松島達郎 , 伊藤大介 , 佐塚祐貴 , 時久昌吉 , 田子洋輔 , 清水良
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/268 , B23K26/127
摘要：一種雷射處理裝置,可不於雷射處理裝置中設置負載鎖定室等而迅速地將被處理體予以搬出、搬入,而且可於短時間內使處理室內的環境穩定化。該雷射處理裝置包括:處理室2,收容著被處理體100,且於經調整的環境下,將雷射光照射至被處理體100;以及光學系統,將雷射光自外部引導至處理室2內,處理室2包括將被處理體100自處理室2外部裝入至處理室2內部的可開閉的裝入口7,於處理室2內部包括連接於裝入口7的載入區域A與連接於載入區域A的雷射光照射區域B,且包括將載入區域A分隔為上述裝入口側的空間A1與雷射光照射區域側空間A2的間隔部,間隔部使被處理體100可於裝入口側空間A1與雷射光照射區域側空間A2之間移動。
简体摘要：一种激光处理设备,可不于激光处理设备中设置负载锁定室等而迅速地将被处理体予以搬出、搬入,而且可于短时间内使处理室内的环境稳定化。该激光处理设备包括:处理室2,收容着被处理体100,且于经调整的环境下,将激光光照射至被处理体100;以及光学系统,将激光光自外部引导至处理室2内,处理室2包括将被处理体100自处理室2外部装入至处理室2内部的可开闭的装入口7,于处理室2内部包括连接于装入口7的加载区域A与连接于加载区域A的激光光照射区域B,且包括将加载区域A分隔为上述装入口侧的空间A1与激光光照射区域侧空间A2的间隔部,间隔部使被处理体100可于装入口侧空间A1与激光光照射区域侧空间A2之间移动。

77. 发明专利

TW201034082A 結晶質膜的製造方法以及結晶質膜的製造裝置 FABRICATING METHOD OF CRYSTALLINE FILM AND FABRICATING APPARATUS OF THE SAME 审中-公开
简体标题：结晶质膜的制造方法以及结晶质膜的制造设备 FABRICATING METHOD OF CRYSTALLINE FILM AND FABRICATING APPARATUS OF THE SAME
公开(公告)号：TW201034082A
公开(公告)日：2010-09-16
申请号：TW099106288
申请日：2010-03-04
申请人：日本製鋼所股份有限公司
发明人：富樫陵太郎 , 佐藤亮介 , 清野俊明 , 井波俊夫 , 草間秀晃
IPC分类号： H01L , B23K
CPC分类号： H01L21/02532 , B23K26/0732 , H01L21/02422 , H01L21/02686 , H01L27/1285
摘要：一種結晶質膜的製造方法，其對非晶質膜，以1次～10次的發數來照射由340nm～358nm的波長所構成、且具有130mJ/cm 2 ～240mJ/cm 2 的能量密度的脈衝雷射光，將上述非晶質膜加熱至不超過結晶熔點的溫度使其結晶化；較佳是，將脈衝雷射光的脈衝寬度設為5ns～100ns，將頻率設為6kHz～10kHz，將短軸寬度設為小於等於1.0mm，將該脈衝雷射光相對地以掃描速度50mm/sec～1000mm/sec進行掃描，藉此可不對基板造成損傷，而由非晶質膜來效率良好地製作結晶粒徑的不均(fluctuation)少、均勻且微細的結晶質膜。
简体摘要：一种结晶质膜的制造方法，其对非晶质膜，以1次～10次的发数来照射由340nm～358nm的波长所构成、且具有130mJ/cm 2 ～240mJ/cm 2 的能量密度的脉冲激光光，将上述非晶质膜加热至不超过结晶熔点的温度使其结晶化；较佳是，将脉冲激光光的脉冲宽度设为5ns～100ns，将频率设为6kHz～10kHz，将短轴宽度设为小于等于1.0mm，将该脉冲激光光相对地以扫描速度50mm/sec～1000mm/sec进行扫描，借此可不对基板造成损伤，而由非晶质膜来效率良好地制作结晶粒径的不均(fluctuation)少、均匀且微细的结晶质膜。

78. 发明专利

TW201004783A 壓出成形用模具及模具流路決定方法审中-公开
简体标题：压出成形用模具及模具流路决定方法
公开(公告)号：TW201004783A
公开(公告)日：2010-02-01
申请号：TW098125655
申请日：2009-07-30
申请人：日本製鋼所股份有限公司
发明人：富山秀樹 , 岩村真 , 內海真一 , 鹽谷智朗
IPC分类号： B29C
摘要：提供一種可提高均勻性與縮短滯留時間雙方之高均勻型的擠壓成形用模具。自模具的寬度方向中央部起朝向端部其剖面積逐漸縮減之流道2在模具的寬度方向中央部中連通於流入口1，具有比流道2的直徑更窄小之間隙h1，同時，使自模具的寬度方向中央部朝向端部具有直線逐漸增大之流路長度的第1縫隙3連通至流道2的下游側，其具有比第1縫隙3之間隙h1更窄之間隙h2，同時，使自模具的寬度方向中央部起朝向端部具有直線逐漸縮減之流路長度的第2縫隙4連通至第1縫隙3之下游側，而具有比第2縫隙4的間隙h2更窄小之間隙，同時，使在寬度方向具有相等流路長度之第3縫隙5連通至第2縫隙4之下游側。
简体摘要：提供一种可提高均匀性与缩短滞留时间双方之高均匀型的挤压成形用模具。自模具的宽度方向中央部起朝向端部其剖面积逐渐缩减之流道2在模具的宽度方向中央部中连通于流入口1，具有比流道2的直径更窄小之间隙h1，同时，使自模具的宽度方向中央部朝向端部具有直线逐渐增大之流路长度的第1缝隙3连通至流道2的下游侧，其具有比第1缝隙3之间隙h1更窄之间隙h2，同时，使自模具的宽度方向中央部起朝向端部具有直线逐渐缩减之流路长度的第2缝隙4连通至第1缝隙3之下游侧，而具有比第2缝隙4的间隙h2更窄小之间隙，同时，使在宽度方向具有相等流路长度之第3缝隙5连通至第2缝隙4之下游侧。

79. 发明专利

TW200912178A 壓力容器之製造方法审中-公开
简体标题：压力容器之制造方法
公开(公告)号：TW200912178A
公开(公告)日：2009-03-16
申请号：TW097106233
申请日：2008-02-22
申请人：日本製鋼所股份有限公司 THE JAPAN STEEL WORKS, LTD.
发明人：河原崎芳德 YOSHINORI KAWAHARAZAKI , 岩本隆志 TAKASHI IWAMOTO , 野家和雄 KAZUO NOIE
IPC分类号： F17C , F16J
CPC分类号： B23K11/002 , B23K26/24 , B23K2201/006 , B23K2201/12 , B23K2201/36 , B23K2203/05 , B23K2203/08 , B23K2203/10 , F17C1/14 , F17C11/005 , F17C2201/0157 , F17C2201/056 , F17C2201/058 , F17C2203/013 , F17C2203/0617 , F17C2203/0643 , F17C2203/0646 , F17C2203/0648 , F17C2209/221 , F17C2209/23 , F17C2221/012 , F17C2223/0123 , F17C2223/033 , F17C2223/035 , F17C2260/011 , F17C2260/013 , F17C2270/05 , F17C2270/0763 , Y02E60/321
摘要：在筒形狀之壓力容器(容器本體1)內配置肋板2,藉自壓力容器壁之外部熔接該肋板2,在該壓力容器的壁內面以立設狀態予以接合。前述熔接法以熱影響較小之電阻熔接或雷射熔接為佳。在小型、厚度薄之壓力容器中使肋板配置固定於內部時則可提高壓力容器之耐壓强度,如當作吸氫合金容器使用時對合金膨脹亦具有卓越之强度。由於容器製造簡單,因此其可大量生產。且藉容器板厚之薄化及肋條形狀之最適化則可使內容積增大,而可提高吸氫容器之體積效率。
简体摘要：在筒形状之压力容器(容器本体1)内配置肋板2,藉自压力容器壁之外部熔接该肋板2,在该压力容器的壁内面以立设状态予以接合。前述熔接法以热影响较小之电阻熔接或激光熔接为佳。在小型、厚度薄之压力容器中使肋板配置固定于内部时则可提高压力容器之耐压强度,如当作吸氢合金容器使用时对合金膨胀亦具有卓越之强度。由于容器制造简单,因此其可大量生产。且藉容器板厚之薄化及肋条形状之最适化则可使内容积增大,而可提高吸氢容器之体积效率。

80. 发明专利

TWI303300B 熱交換裝置 HEAT EXCHANGE APPARATUS 有权
简体标题：热交换设备 HEAT EXCHANGE APPARATUS
公开(公告)号：TWI303300B
公开(公告)日：2008-11-21
申请号：TW095108112
申请日：2006-03-10
申请人：日本製鋼所股份有限公司 THE JAPAN STEEL WORKS, LTD.
发明人：小田三男 MITSUO KODA , 河原崎芳德 YOSHINORI KAWAHARAZAKI , 大康志 YASUSHI OWAKI
IPC分类号： F17C , F28D
CPC分类号： F28D1/06 , F17C11/005 , F28D7/024 , F28D7/106 , F28D2021/0047 , Y02E60/321 , Y02E60/324 , Y02P90/45
摘要：一種熱交換裝置,包含一個熱交換部,此熱交換部係設置成用以圍繞一個圓柱狀或圓筒狀熱交換目標的外圍表面,其中,此熱交換部內包含一個用以使熱媒介通過的中空空間,且具有撓性,能夠藉由熱媒介的壓力而朝向至少其內圍側邊膨脹。熱媒介係藉由一泵而供應到熱交換部。藉由將熱媒介引入到熱交換部內,熱交換部可以朝向內圍側邊膨脹,且,熱交換部的內表面可以與熱交換目標的外圍表面產生緊密接觸,藉此,大幅增加熱傳效率。當使用一個其中容納有氫氣儲存合金的氫氣儲存/排放容器作為熱交換目標時,可以有效地實施氫氣的儲存或排放。
简体摘要：一种热交换设备,包含一个热交换部,此热交换部系设置成用以围绕一个圆柱状或圆筒状热交换目标的外围表面,其中,此热交换部内包含一个用以使热媒介通过的中空空间,且具有挠性,能够借由热媒介的压力而朝向至少其内围侧边膨胀。热媒介系借由一泵而供应到热交换部。借由将热媒介引入到热交换部内,热交换部可以朝向内围侧边膨胀,且,热交换部的内表面可以与热交换目标的外围表面产生紧密接触,借此,大幅增加热传效率。当使用一个其中容纳有氢气存储合金的氢气存储/排放容器作为热交换目标时,可以有效地实施氢气的存储或排放。

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