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31. 发明专利

TWI561940B 對準誤差補償方法及圖案化方法有权
简体标题：对准误差补偿方法及图案化方法
公开(公告)号：TWI561940B
公开(公告)日：2016-12-11
申请号：TW103122342
申请日：2014-06-27
申请人：黃天興
发明人：鍾聯盛
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/682 , G03F7/70141 , G03F7/70633 , G03F9/7076 , H01L21/0338 , H01L21/3065 , H01L21/308 , H01L22/12 , H01L22/20

32. 发明专利

TW201628064A 移動體驅動方法及移動體驅動系統、圖案形成方法及圖案形成裝置、曝光方法及曝光裝置、以及元件製造方法审中-公开
简体标题：移动体驱动方法及移动体驱动系统、图案形成方法及图案形成设备、曝光方法及曝光设备、以及组件制造方法
公开(公告)号：TW201628064A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW105112891
申请日：2007-01-19
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：柴崎祐一 , SHIBAZAKI, YUICHI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F9/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G01B11/27 , G01D5/26 , G01D5/266 , G01D18/002 , G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/70483 , G03F7/70516 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70975 , Y10T29/49826
摘要：係使用干涉儀(16y)、與測量值的短期穩定性優於該干涉儀之編碼器((24A,26A1)(24B,26B1))，來測量移動體(RST)在Y軸方向之位置資訊，並根據該測量結果來執行既定之校正動作，以取得對編碼器的測量值進行修正之修正資訊。藉此，能使用干涉儀的測量值來取得修正資訊，該修正資訊係用以修正測量值的短期穩定性優於該干涉儀之編碼器的測量值。又，可根據編碼器的測量值與該修正資訊，來以良好精度將移動體驅動於Y軸方向。
简体摘要：系使用干涉仪(16y)、与测量值的短期稳定性优于该干涉仪之编码器((24A,26A1)(24B,26B1))，来测量移动体(RST)在Y轴方向之位置信息，并根据该测量结果来运行既定之校正动作，以取得对编码器的测量值进行修正之修正信息。借此，能使用干涉仪的测量值来取得修正信息，该修正信息系用以修正测量值的短期稳定性优于该干涉仪之编码器的测量值。又，可根据编码器的测量值与该修正信息，来以良好精度将移动体驱动于Y轴方向。

33. 发明专利

TW201610614A 微影裝置及曝光方法审中-公开
简体标题：微影设备及曝光方法
公开(公告)号：TW201610614A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104117218
申请日：2015-05-28
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：克拉默皮耶特雅各 , KRAMER, PIETER JACOB , 吉利詹姆西羅吉爾 , GILIJAMSE, ROGIER , 拉姆斯尼爾斯 , LAMMERS, NIELS , 史拉特伯恩唐恩毛瑞斯 , SLOTBOOM, DAAN MAURITS
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7046 , G03F7/70141 , G03F7/70483 , G03F7/70525 , G03F7/706 , G03F7/70633 , G03F7/70775 , G03F9/7003 , G03F9/7049 , G03F9/7073
摘要：本發明描述一種曝光方法，該方法包含如下步驟：a)將一第一圖案轉印至一基板之複數個目標部分中每一者上，該第一圖案包括至少一對準標記；b)量測複數個對準標記之一位置，且將用於該複數個對準標記中每一者之一對準標記位移(dx,dy)判定為該對準標記之一各別預定標稱位置與該對準標記之該各別測定位置之間的一差；c)使一數學模型擬合至該複數個對準標記位移以獲得一經擬合數學模型；d)基於該經擬合數學模型判定該複數個目標部分中每一者中之該第一圖案之一位置；e)使用該複數個目標部分中每一者中之該第一圖案之該經判定位置而將一第二圖案轉印至該複數個目標部分中每一者上，其中該數學模型包含多項式Z1及Z2：在極座標(r,θ)中，Z1=r2 cos(2θ) Z2=r2 sin(2θ)，或在笛卡爾座標(x,y)中，Z1=x2-y2Z2=xy。
简体摘要：本发明描述一种曝光方法，该方法包含如下步骤：a)将一第一图案转印至一基板之复数个目标部分中每一者上，该第一图案包括至少一对准标记；b)量测复数个对准标记之一位置，且将用于该复数个对准标记中每一者之一对准标记位移(dx,dy)判定为该对准标记之一各别预定标称位置与该对准标记之该各别测定位置之间的一差；c)使一数学模型拟合至该复数个对准标记位移以获得一经拟合数学模型；d)基于该经拟合数学模型判定该复数个目标部分中每一者中之该第一图案之一位置；e)使用该复数个目标部分中每一者中之该第一图案之该经判定位置而将一第二图案转印至该复数个目标部分中每一者上，其中该数学模型包含多项式Z1及Z2：在极座标(r,θ)中，Z1=r2 cos(2θ) Z2=r2 sin(2θ)，或在笛卡尔座标(x,y)中，Z1=x2-y2Z2=xy。

34. 发明专利

TW201520700A 微影投射曝光裝置中照射系統之運作方法审中-公开
简体标题：微影投射曝光设备中照射系统之运作方法
公开(公告)号：TW201520700A
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW104105997
申请日：2009-02-19
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：奈特奧立弗 , NATT, OLIVER , 斯克勒山納法蘭克 , SCHLESENER, FRANK
IPC分类号： G03F7/20 , G03B27/72 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70133 , G03F7/70091 , G03F7/70125 , G03F7/70141 , G03F7/70191
摘要：於一種微影投影曝光裝置之照射系統之運作方法中，首先決定一組照射參數，其描述收斂於欲被照射系統照射之光罩上之點之光束之性質。再者決定光學元件，其對照射參數之光學效應可修正為控制命令之函數，以及決定照射參數對控制命令引起光學元件之調整之靈敏度。然後，考慮先前決定之靈敏度，來決定控制命令，使得照射參數與預定目標照射參數之偏差滿足預定最低標準。在照射光罩前，應用控制命令到光學元件。
简体摘要：于一种微影投影曝光设备之照射系统之运作方法中，首先决定一组照射参数，其描述收敛于欲被照射系统照射之光罩上之点之光束之性质。再者决定光学组件，其对照射参数之光学效应可修正为控制命令之函数，以及决定照射参数对控制命令引起光学组件之调整之灵敏度。然后，考虑先前决定之灵敏度，来决定控制命令，使得照射参数与预定目标照射参数之偏差满足预定最低标准。在照射光罩前，应用控制命令到光学组件。

35. 发明专利

TW201441775A 量測微結構不對稱性的方法及裝置、位置量測方法、位置量測裝置、微影裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：量测微结构不对称性的方法及设备、位置量测方法、位置量测设备、微影设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW201441775A
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW103110545
申请日：2014-03-20
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：麥提森賽門吉司伯喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS
IPC分类号： G03F9/00 , G03F1/38
CPC分类号： G03F7/70141 , G01B11/14 , G03F9/7046 , G03F9/7076 , G03F9/7088 , G03F9/7092
摘要：一種微影裝置，其包括一對準感測器，該對準感測器包括用於讀取包含一週期性結構之一標記之位置的一自參考干涉計。一照明光學系統將不同色彩及偏振之輻射聚焦成掃描該結構之一光點(406)。在一偵測光學系統中偵測(430A、430B)多個位置相依信號IA(G,R,N,F)、IB(G,R,N,F)，且對其進行處理(PU)以獲得多個候選位置量測。每一標記包含一大小小於該光學系統之一解析度的子結構。每一標記係在該等子結構與較大結構之間存在一位置位移的情況下形成，該位置位移為已知(d1、d2)分量及未知(Δd)分量兩者之一組合。使用來自一對標記(702-1、702-2)之信號連同關於該等已知位移之間的差之資訊來計算至少一標記之一測定位置，以便校正該位置位移之該未知分量。
简体摘要：一种微影设备，其包括一对准传感器，该对准传感器包括用于读取包含一周期性结构之一标记之位置的一自参考干涉计。一照明光学系统将不同色彩及偏振之辐射聚焦成扫描该结构之一光点(406)。在一侦测光学系统中侦测(430A、430B)多个位置相依信号IA(G,R,N,F)、IB(G,R,N,F)，且对其进行处理(PU)以获得多个候选位置量测。每一标记包含一大小小于该光学系统之一分辨率的子结构。每一标记系在该等子结构与较大结构之间存在一位置位移的情况下形成，该位置位移为已知(d1、d2)分量及未知(Δd)分量两者之一组合。使用来自一对标记(702-1、702-2)之信号连同关于该等已知位移之间的差之信息来计算至少一标记之一测定位置，以便校正该位置位移之该未知分量。

36. 发明专利

TW201439690A 照明光學系統、曝光裝置、光學元件及其製造方法、以及元件製造方法审中-公开
简体标题：照明光学系统、曝光设备、光学组件及其制造方法、以及组件制造方法
公开(公告)号：TW201439690A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW103122813
申请日：2008-09-12
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：谷津修 , TANITSU, OSAMU
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/00 , H01L21/027 , G02B5/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G02B26/00 , G02B26/02 , G02B27/0927 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70141 , G03F7/70158
摘要：本發明之照明光學系統，係藉由來自光源(1)之光照明被照射面，具備：第1光路，繞射光學元件(6)可配置於其第1位置；第2光路，具有二維排列並可個別控制之複數個光學元件(3a)的空間光調變器(3)可配置於其第2位置；以及第3光路，係經過第1光路及第2光路中之至少一者之光的光路，並配置有分布形成光學系統(11)。分布形成光學系統(11)，係藉由經過第1及第2光路中之至少一者之光，於位在第3光路中之照明光瞳形成既定光強度分布。
简体摘要：本发明之照明光学系统，系借由来自光源(1)之光照明被照射面，具备：第1光路，绕射光学组件(6)可配置于其第1位置；第2光路，具有二维排列并可个别控制之复数个光学组件(3a)的空间光调制器(3)可配置于其第2位置；以及第3光路，系经过第1光路及第2光路中之至少一者之光的光路，并配置有分布形成光学系统(11)。分布形成光学系统(11)，系借由经过第1及第2光路中之至少一者之光，于位在第3光路中之照明光瞳形成既定光强度分布。

37. 发明专利

TWI433213B 可調節波長照明系統有权
简体标题：可调节波长照明系统
公开(公告)号：TWI433213B
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW099109700
申请日：2010-03-30
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：丹伯夫艾瑞傑佛瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 賽威爾哈利 , SEWELL, HARRY , 安德森凱斯威廉 , ANDRESEN, KEITH WILLIAM , 艾伯特二世鄂爾威廉 , EBERT JR., EARL WILLIAM , 席恩山傑夫庫馬 , SINGH, SANJEEV KUMAR
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70141 , G01B11/14 , G02F1/116 , G03F7/70191 , G03F9/7065

38. 发明专利

TW201400990A 調整微影投射曝光裝置中光學系統的方法审中-公开
简体标题：调整微影投射曝光设备中光学系统的方法
公开(公告)号：TW201400990A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102108860
申请日：2013-03-13
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：翔杰印哥 , SAENGER, INGO , 楚特巴斯汀 , TRAUTER, BASTIAN
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08 , G02B27/28
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B26/0833 , G02B27/286 , G03F7/70116 , G03F7/70141 , G03F7/70566
摘要：本發明有關調整微影投射曝光裝置中光學系統的方法，其中該光學系統包含：一具有複數個反射鏡元件的反射鏡配置，該複數個反射鏡元件可彼此獨立地進行調整以改變由該反射鏡配置反射之光的角分布；及一極化影響光學配置，其具有至少一個極化影響組件，其中可藉由位移此極化影響組件，按可變化的方式設定該極化影響組件及該反射鏡配置之間的重疊度。根據本發明的方法包含以下步驟：針對該極化影響組件(111、112、113、310、320、411、511)的給定實際位置，建立投射曝光裝置光瞳平面中的IPS值分布，其中每個IPS值代表在反射鏡配置(120、200、400、500)之相應反射鏡元件處反射之光線之預定極化狀態的實現度；及基於該建立的分布改變該極化影響組件的位置。
简体摘要：本发明有关调整微影投射曝光设备中光学系统的方法，其中该光学系统包含：一具有复数个反射镜组件的反射镜配置，该复数个反射镜组件可彼此独立地进行调整以改变由该反射镜配置反射之光的角分布；及一极化影响光学配置，其具有至少一个极化影响组件，其中可借由位移此极化影响组件，按可变化的方式设置该极化影响组件及该反射镜配置之间的重叠度。根据本发明的方法包含以下步骤：针对该极化影响组件(111、112、113、310、320、411、511)的给定实际位置，创建投射曝光设备光瞳平面中的IPS值分布，其中每个IPS值代表在反射镜配置(120、200、400、500)之相应反射镜组件处反射之光线之预定极化状态的实现度；及基于该创建的分布改变该极化影响组件的位置。

39. 发明专利

TW201234122A 微影投射曝光裝置之光學系統以及降低影像配置誤差之方法 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF REDUCING IMAGE PLACEMENT ERRORS 审中-公开
简体标题：微影投射曝光设备之光学系统以及降低影像配置误差之方法 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF REDUCING IMAGE PLACEMENT ERRORS
公开(公告)号：TW201234122A
公开(公告)日：2012-08-16
申请号：TW100134520
申请日：2011-09-26
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司
发明人：勞夫喬哈尼斯 , 紐曼詹斯提摩 , 季摩曼約格 , 海爾衛格德克 , 俊傑德克
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70141 , G03F7/70116 , G03F7/70466 , G03F7/70566 , G03F7/70633
摘要：一種降低微影投射曝光裝置中之影像配置誤差的方法，該方法包含以下步驟：提供一遮罩(16)、一光敏表面(22)及一微影投射曝光裝置(10)，該微影投射曝光裝置使用投射光將該遮罩(16)中所含特徵(19)成像於光敏表面(22)上。在下一個步驟中，利用模擬或在計量上決定與該光敏表面(22)上所形成特徵之一影像相關聯的影像配置誤差。然後，將投射光的輸入極化狀態變更為被選擇致使降低影像配置誤差的輸出橢圓極化狀態。
简体摘要：一种降低微影投射曝光设备中之影像配置误差的方法，该方法包含以下步骤：提供一遮罩(16)、一光敏表面(22)及一微影投射曝光设备(10)，该微影投射曝光设备使用投射光将该遮罩(16)中所含特征(19)成像于光敏表面(22)上。在下一个步骤中，利用仿真或在计量上决定与该光敏表面(22)上所形成特征之一影像相关联的影像配置误差。然后，将投射光的输入极化状态变更为被选择致使降低影像配置误差的输出椭圆极化状态。

40. 发明专利

TW201224669A 微影投射曝光裝置之多鏡面反射鏡 MULTI FACET MIRROR OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
简体标题：微影投射曝光设备之多镜面反射镜 MULTI FACET MIRROR OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
公开(公告)号：TW201224669A
公开(公告)日：2012-06-16
申请号：TW100119952
申请日：2011-06-08
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司
发明人：雷塞松斯頓 , 赫夫馬可斯
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B26/0816 , G03F7/70075 , G03F7/70141 , G03F7/70825
摘要：本發明揭示一種微影投影曝光裝置之多鏡面反射鏡(26),包含複數個反射鏡鏡面單元。每一單元都包含具有一本體(40)的一反射鏡構件(32)、一反射塗佈(44),位於在該本體(40)的一末端上以及一致動表面(50),位於一相反末端上。該單元進一步包含一放置構件(70),其上放置該致動表面(50),而不移動該反射鏡構件(32),以及一致動器(72),其繞著一傾斜軸(52)傾斜該反射鏡構件。該致動器具有一接觸表面(80)以及一抬升構件(74),其沿著一抬升方向(Z)移動該致動表面。在該抬升構件的一第一操作狀態中,該致動表面放置在該放置構件上,並且在一第二操作狀態下,放置在該接觸表面上。只有該抬升構件在該第二操作狀態中,一位移構件(76,78)才會沿著一側向方向位移該接觸表面。
简体摘要：本发明揭示一种微影投影曝光设备之多镜面反射镜(26),包含复数个反射镜镜面单元。每一单元都包含具有一本体(40)的一反射镜构件(32)、一反射涂布(44),位于在该本体(40)的一末端上以及一致动表面(50),位于一相反末端上。该单元进一步包含一放置构件(70),其上放置该致动表面(50),而不移动该反射镜构件(32),以及一致动器(72),其绕着一倾斜轴(52)倾斜该反射镜构件。该致动器具有一接触表面(80)以及一抬升构件(74),其沿着一抬升方向(Z)移动该致动表面。在该抬升构件的一第一操作状态中,该致动表面放置在该放置构件上,并且在一第二操作状态下,放置在该接触表面上。只有该抬升构件在该第二操作状态中,一位移构件(76,78)才会沿着一侧向方向位移该接触表面。

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