专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

31. 发明专利

TW201248336A 用於處理諸如晶圓的標靶的微影系統，以及用於操作用於處理諸如晶圓的標靶的微影系統的方法 LITHOGRAPHY SYSTEM FOR PROCESSING A TARGET, SUCH AS A WAFER, AND A METHOD FOR OPERATING A LITHOGRAPHY SYSTEM FOR PROCESSING A TARGET, SUCH AS A WAFER 审中-公开
简体标题：用于处理诸如晶圆的标靶的微影系统，以及用于操作用于处理诸如晶圆的标靶的微影系统的方法 LITHOGRAPHY SYSTEM FOR PROCESSING A TARGET, SUCH AS A WAFER, AND A METHOD FOR OPERATING A LITHOGRAPHY SYSTEM FOR PROCESSING A TARGET, SUCH AS A WAFER
公开(公告)号：TW201248336A
公开(公告)日：2012-12-01
申请号：TW101114338
申请日：2012-04-23
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：寇維利爾斯哥德佛利德斯科諾留斯安東尼歐斯 , 菲格尼爾斯 , 迪包爾古伊杜 , 普蘭德斯恩勞倫斯 , 菲柏格寇兒
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F7/70616 , G03F7/70666 , G03F7/70775 , G03F7/7085 , G03F9/7023 , G03F9/7053
摘要：本發明係有關於一種用於處理諸如晶圓之標靶的微影系統。該微影系統包含一用於提供一圖案化射束之射束源、一用於投射圖案於標靶表面上之最終投射系統、一用於托持標靶之卡盤以及一連接至該最終投射系統並用以偵測表面上之位置標誌的標誌定位系統。
简体摘要：本发明系有关于一种用于处理诸如晶圆之标靶的微影系统。该微影系统包含一用于提供一图案化射束之射束源、一用于投射图案于标靶表面上之最终投射系统、一用于托持标靶之卡盘以及一连接至该最终投射系统并用以侦测表面上之位置标志的标志定位系统。

32. 发明专利

TW201236045A 具有隙縫陣列冷卻之帶電粒子微影系統 CHARGED PARTICLE LITHOGRAPHY SYSTEM WITH APERTURE ARRAY COOLING 审中-公开
简体标题：具有隙缝数组冷却之带电粒子微影系统 CHARGED PARTICLE LITHOGRAPHY SYSTEM WITH APERTURE ARRAY COOLING
公开(公告)号：TW201236045A
公开(公告)日：2012-09-01
申请号：TW100141411
申请日：2011-11-14
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：威蘭德瑪寇傑加寇 , 凡賓艾利克山德亨卓克文森 , 迪將亨卓克傑
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/0437
摘要：一種用於將圖型轉移到目標的表面上之帶電粒子微影系統包含：束產生器，其用於產生複數個帶電粒子射束，複數個射束定義一柱；及，複數個隙縫陣列元件，其包含第一隙縫陣列、熄滅器陣列、束光闌陣列與投射透鏡陣列。各個隙縫陣列元件包含以複數個群所配置的複數個隙縫，隙縫是用於讓射束通過隙縫陣列元件，其中各個隙縫陣列元件的隙縫群形成束區域，其與在束區域之間所形成且不含有任何用於射束通過的隙縫之複數個非束區域為有區別不同，且其中隙縫陣列元件的束區域是經對準以形成束軸，其各者包含複數個射束，且隙縫陣列元件的非束區域是經對準以形成在其中不存在有任何射束的非束軸。第一隙縫陣列元件是備有冷卻通道，其適用於用來使第一隙縫陣列元件冷卻的冷卻媒介之輸送，冷卻通道是設置在第一隙縫陣列元件的非束區域中。
简体摘要：一种用于将图型转移到目标的表面上之带电粒子微影系统包含：束产生器，其用于产生复数个带电粒子射束，复数个射束定义一柱；及，复数个隙缝数组组件，其包含第一隙缝数组、熄灭器数组、束光阑数组与投射透镜数组。各个隙缝数组组件包含以复数个群所配置的复数个隙缝，隙缝是用于让射束通过隙缝数组组件，其中各个隙缝数组组件的隙缝群形成束区域，其与在束区域之间所形成且不含有任何用于射束通过的隙缝之复数个非束区域为有区别不同，且其中隙缝数组组件的束区域是经对准以形成束轴，其各者包含复数个射束，且隙缝数组组件的非束区域是经对准以形成在其中不存在有任何射束的非束轴。第一隙缝数组组件是备有冷却信道，其适用于用来使第一隙缝数组组件冷却的冷却媒介之输送，冷却信道是设置在第一隙缝数组组件的非束区域中。

33. 发明专利

TW201234405A 帶電粒子束調節器 CHARGED PARTICLE BEAM MODULATOR 审中-公开
简体标题：带电粒子束调节器 CHARGED PARTICLE BEAM MODULATOR
公开(公告)号：TW201234405A
公开(公告)日：2012-08-16
申请号：TW100141408
申请日：2011-11-14
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：威蘭德瑪寇傑加寇 , 傑格雷寇 , 凡賓艾利克山德亨卓克文森 , 史丁柏齡克史丁威稜賀曼卡羅 , 凡戴佩特特意尼斯 , 德爾斯漢克
IPC分类号： H01J , G03F
CPC分类号： H01J37/045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/241 , H01J37/3177 , H01J2237/0437 , H01J2237/2482
摘要：本發明關於一種用於將圖型轉移到目標表面上的帶電粒子微影系統。該種系統包含束產生器、束光闌陣列以及調節裝置。束產生器是經配置用於產生複數個帶電粒子射束,複數個射束定義一柱。束光闌陣列具有用於阻隔射束到達目標表面之表面以及用於允許射束到達目標表面之在表面中的隙縫陣列。調節裝置是經配置用於調節射束來防止射束中的一或多者到達目標表面或允許射束中的一或多者到達目積表面,藉由使射束偏轉或未偏轉以使得射束為由束光闌陣列所阻隔或未阻隔。調節裝置包含其具有關聯調節器的複數個隙縫、以及複數個感光元件,二者均為以陣列所配置。調節裝置的表面區域包含狹長束區域與電力介面區域,狹長束區域包含隙縫陣列與關聯調節器,電力介面區域是用於容納電力配置,其適合用來供電給在調節裝置內的元件。電力介面區域是位在沿著狹長束區域的長側且朝實質平行於其的方向而延伸。
简体摘要：本发明关于一种用于将图型转移到目标表面上的带电粒子微影系统。该种系统包含束产生器、束光阑数组以及调节设备。束产生器是经配置用于产生复数个带电粒子射束,复数个射束定义一柱。束光阑数组具有用于阻隔射束到达目标表面之表面以及用于允许射束到达目标表面之在表面中的隙缝数组。调节设备是经配置用于调节射束来防止射束中的一或多者到达目标表面或允许射束中的一或多者到达目积表面,借由使射束偏转或未偏转以使得射束为由束光阑数组所阻隔或未阻隔。调节设备包含其具有关联调节器的复数个隙缝、以及复数个感光组件,二者均为以数组所配置。调节设备的表面区域包含狭长束区域与电力界面区域,狭长束区域包含隙缝数组与关联调节器,电力界面区域是用于容纳电力配置,其适合用来供电给在调节设备内的组件。电力界面区域是位在沿着狭长束区域的长侧且朝实质平行于其的方向而延伸。

34. 发明专利

TW201133534A 多射束帶電粒子光學系統 MULTIPLE BEAM CHARGED PARTICLE OPTICAL SYSTEM 审中-公开
简体标题：多射束带电粒子光学系统 MULTIPLE BEAM CHARGED PARTICLE OPTICAL SYSTEM
公开(公告)号：TW201133534A
公开(公告)日：2011-10-01
申请号：TW099131590
申请日：2010-09-17
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：克路特彼得 , 宗奈菲力克里斯提恩艾爾諾
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/12 , H01J37/1477 , H01J2237/0435 , H01J2237/04924 , H01J2237/1205
摘要：本發明關於一種多射束帶電粒子光學系統，其包含：帶電粒子源，其用於產生複數個帶電粒子射束；及帶電粒子光學器件，其用於導引帶電粒子射束從帶電粒子源朝向目標，其中各個帶電粒子射束定義射束中心線，該帶電粒子光學器件包含一或多個靜電透鏡陣列，其各者包含用於產生複數個靜電微透鏡的二或多個陣列電極，其中各個微透鏡被配置以將對應帶電粒子射束聚焦，且其中各個微透鏡定義微透鏡光軸，其中該一或多個靜電透鏡陣列的至少一者包含一或多個離軸靜電微透鏡，其中對應帶電粒子射束的射束中心線在離其微透鏡光軸的一段距離處而通過該離軸靜電微透鏡。
简体摘要：本发明关于一种多射束带电粒子光学系统，其包含：带电粒子源，其用于产生复数个带电粒子射束；及带电粒子光学器件，其用于导引带电粒子射束从带电粒子源朝向目标，其中各个带电粒子射束定义射束中心线，该带电粒子光学器件包含一或多个静电透镜数组，其各者包含用于产生复数个静电微透镜的二或多个数组电极，其中各个微透镜被配置以将对应带电粒子射束聚焦，且其中各个微透镜定义微透镜光轴，其中该一或多个静电透镜数组的至少一者包含一或多个离轴静电微透镜，其中对应带电粒子射束的射束中心线在离其微透镜光轴的一段距离处而通过该离轴静电微透镜。

35. 发明专利

TW201123253A 兩次掃描 DUAL PASS SCANNING 审中-公开
简体标题：两次扫描 DUAL PASS SCANNING
公开(公告)号：TW201123253A
公开(公告)日：2011-07-01
申请号：TW099116032
申请日：2010-05-20
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：威蘭德瑪寇傑加寇 , 凡戴佩特特意尼斯 , 胡凡馬克 , 哈根尼斯艾德文 , 范尼馬諾爾
IPC分类号： H01J , G03F
CPC分类号： H01J37/3026 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70475 , G06T1/20 , G06T1/60 , H01J37/045 , H01J37/3002 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/3175 , H01J2237/31761 , H01J2237/31764 , H04N1/405
摘要：本發明提出一種使用複數個帶電粒子小束以將晶圓曝光的方法。該種方法包含：識別在該等小束中的無作用小束；分配該等小束的第一子集，其用於將晶圓的第一部分曝光，第一子集不包括所識別的無作用小束；實行第一掃描，其使用該等小束的第一子集以將晶圓的第一部分曝光；分配該等小束的第二子集，其用於將晶圓的第二部分曝光，第二子集亦不包括所識別的無作用小束；以及，實行第二掃描，其使用該等小束的第二子集以將晶圓的第二部分曝光；其中晶圓的第一與第二部分不重疊且總共包含將被曝光的晶圓的完整區域。
简体摘要：本发明提出一种使用复数个带电粒子小束以将晶圆曝光的方法。该种方法包含：识别在该等小束中的无作用小束；分配该等小束的第一子集，其用于将晶圆的第一部分曝光，第一子集不包括所识别的无作用小束；实行第一扫描，其使用该等小束的第一子集以将晶圆的第一部分曝光；分配该等小束的第二子集，其用于将晶圆的第二部分曝光，第二子集亦不包括所识别的无作用小束；以及，实行第二扫描，其使用该等小束的第二子集以将晶圆的第二部分曝光；其中晶圆的第一与第二部分不重叠且总共包含将被曝光的晶圆的完整区域。

36. 发明专利

TW201123252A 微影機器及基板處理的配置 LITHOGRAPHY MACHINE AND SUBSTRATE HANDLING ARRANGEMENT 审中-公开
简体标题：微影机器及基板处理的配置 LITHOGRAPHY MACHINE AND SUBSTRATE HANDLING ARRANGEMENT
公开(公告)号：TW201123252A
公开(公告)日：2011-07-01
申请号：TW099105121
申请日：2010-02-22
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：迪包爾古伊杜 , 迪將亨卓克傑 , 柏圖森山德
IPC分类号： H01J , H01L
摘要：一種包括複數個帶電粒子微影設備的配置，每一帶電粒子微影設備皆具有一真空反應室(400)。該配置進一步包括：一共用機器人(305)，用以將晶圓運送到該等複數個微影設備；以及一晶圓裝載單元(303)，用於每一帶電粒子微影設備，經配置在每一個別真空反應室(400)的正面。該等複數個微影設備會被配置在一列中，俾讓該等微影設備的正面面向一通道(310)用以讓該共用機器人(305)通過，以便將晶圓運送至每一設備；以及，每一微影設備的背面則面向一接取廊道(306)，且每一真空反應室的後壁部皆具備一接取出入門，用以接取該個別的微影設備。
简体摘要：一种包括复数个带电粒子微影设备的配置，每一带电粒子微影设备皆具有一真空反应室(400)。该配置进一步包括：一共享机器人(305)，用以将晶圆运送到该等复数个微影设备；以及一晶圆装载单元(303)，用于每一带电粒子微影设备，经配置在每一个别真空反应室(400)的正面。该等复数个微影设备会被配置在一列中，俾让该等微影设备的正面面向一信道(310)用以让该共享机器人(305)通过，以便将晶圆运送至每一设备；以及，每一微影设备的背面则面向一接取廊道(306)，且每一真空反应室的后壁部皆具备一接取出入门，用以接取该个别的微影设备。

37. 发明专利

TW201106107A 用於微影機器的準備單元 PREPARATION UNIT FOR LITHOGRAPHY MACHINE 审中-公开
简体标题：用于微影机器的准备单元 PREPARATION UNIT FOR LITHOGRAPHY MACHINE
公开(公告)号：TW201106107A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：TW099105117
申请日：2010-02-22
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：迪將亨卓克傑
IPC分类号： G03F
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01L21/00
摘要：一種帶電粒子微影系統,包含一準備單元(112)。此準備單元包含一外殼,此外殼具有:一第一裝載口(131),用以裝載一基板(22、82、122)到該外殼內及/或將該基板從該外殼中卸除;一基板運送單元(127),用以將該基板放置在該外殼內的一基板支撐結構(23、83、123)中;以及一第二裝載口(132),用以裝載及/或卸載支撐該基板的該基板支撐結構。
简体摘要：一种带电粒子微影系统,包含一准备单元(112)。此准备单元包含一外壳,此外壳具有:一第一装载口(131),用以装载一基板(22、82、122)到该外壳内及/或将该基板从该外壳中卸除;一基板运送单元(127),用以将该基板放置在该外壳内的一基板支撑结构(23、83、123)中;以及一第二装载口(132),用以装载及/或卸载支撑该基板的该基板支撑结构。

38. 发明专利

TW201100972A 真空腔中產生真空的帶電粒子微影設備及方法 CHARGED PARTICLE LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD OF GENERATING VACUUM IN A VACUUM CHAMBER 审中-公开
简体标题：真空腔中产生真空的带电粒子微影设备及方法 CHARGED PARTICLE LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD OF GENERATING VACUUM IN A VACUUM CHAMBER
公开(公告)号：TW201100972A
公开(公告)日：2011-01-01
申请号：TW099105109
申请日：2010-02-22
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：柏圖森山德 , 迪包爾古伊杜 , 亭潘提斯法蘭斯 , 瑪金克胡歌馬丁
IPC分类号： G03F , H01J , H01L
CPC分类号： H01J37/16 , H01J37/18 , H01J2237/166 , H01L21/67161 , H01L21/6719
摘要：本發明提供一種包含用於封閉一內部空間之複數個壁板(510)的真空腔(400),其中該等壁板使用複數個用於以預定配置對該等壁板定位之連接部件(504、524、528)而可卸除地連接以形成腔室。該真空腔另外包含一或多個在該等壁板之邊緣處提供之密封部件(522)。該等壁板經配置,使得因該內部空間形成一真空而在該等壁板之邊緣處形成一真空緊密密封。
简体摘要：本发明提供一种包含用于封闭一内部空间之复数个壁板(510)的真空腔(400),其中该等壁板使用复数个用于以预定配置对该等壁板定位之连接部件(504、524、528)而可卸除地连接以形成腔室。该真空腔另外包含一或多个在该等壁板之边缘处提供之密封部件(522)。该等壁板经配置,使得因该内部空间形成一真空而在该等壁板之边缘处形成一真空紧密密封。

39. 发明专利

TW201032258A 靜電透鏡結構 ELECTROSTATIC LENS STRUCTURE 审中-公开
简体标题：静电透镜结构 ELECTROSTATIC LENS STRUCTURE
公开(公告)号：TW201032258A
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：TW098133357
申请日：2009-10-01
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：史提賓克史提恩威廉卡瑞爾赫曼 , 寇尼約漢胡斯特 , 維爾特曼彼得
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/12 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/004 , H01J2237/0203 , H01J2237/03 , H01J2237/04924 , Y10T29/49
摘要：靜電透鏡包含具有第一孔洞的第一傳導薄板;具有第二孔洞的第二傳導薄板,該第二孔洞實質地與第一孔洞對齊;電壓供應器,其用於供應第一電壓至第一傳導薄板和第二電壓至第二傳導薄板,第一電壓是低於第二電壓,以及絕緣結構,其用於將第一傳導薄板與第二傳導薄板分離。絕緣結構包含與第一傳導薄板接觸的第一部分和與第二傳導薄板接觸的第二部分,在絕緣結構的邊緣處第一部分具有突出部分而第二部分具有凹入部分,使得間隔是形成在突出部分和第二傳導薄板之間。
简体摘要：静电透镜包含具有第一孔洞的第一传导薄板;具有第二孔洞的第二传导薄板,该第二孔洞实质地与第一孔洞对齐;电压供应器,其用于供应第一电压至第一传导薄板和第二电压至第二传导薄板,第一电压是低于第二电压,以及绝缘结构,其用于将第一传导薄板与第二传导薄板分离。绝缘结构包含与第一传导薄板接触的第一部分和与第二传导薄板接触的第二部分,在绝缘结构的边缘处第一部分具有突出部分而第二部分具有凹入部分,使得间隔是形成在突出部分和第二传导薄板之间。

40. 发明专利

TW201009519A 帶電粒子射束微影系統以及目標物定位裝置 CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND TARGET POSITIONING DEVICE 审中-公开
简体标题：带电粒子射束微影系统以及目标物定位设备 CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND TARGET POSITIONING DEVICE
公开(公告)号：TW201009519A
公开(公告)日：2010-03-01
申请号：TW098127675
申请日：2009-08-18
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：佩斯特傑瑞 , 迪包爾古伊杜
IPC分类号： G03F , H01J
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/20 , H01J37/26 , H01J2237/026 , H01J2237/202 , H01J2237/304
摘要：本發明係關於一種帶電粒子射束微影系統，其包括：一帶電粒子光學柱，其會被排列在一真空室之中，用以將一帶電粒子射束投射至一目標物之上，其中，該柱體包括偏折構件，用以將該帶電粒子射束偏折在一偏折方向中，一目標物定位裝置，其包括一用於攜載該目標物的載體，以及一用於攜載並且沿著第一方向來移動該載體的平台，其中，該第一方向不同於該偏折方向，其中，該目標物定位裝置包括一第一致動器，用於相對於該帶電粒子光學柱而在該第一方向中移動該平台，其中，該載體係以可移動的方式被排列在該平台之上，且其中，該目標物定位裝置包括固持構件，用於依照該平台而將該載體固持在第一相對位置中。
简体摘要：本发明系关于一种带电粒子射束微影系统，其包括：一带电粒子光学柱，其会被排列在一真空室之中，用以将一带电粒子射束投射至一目标物之上，其中，该柱体包括偏折构件，用以将该带电粒子射束偏折在一偏折方向中，一目标物定位设备，其包括一用于携载该目标物的载体，以及一用于携载并且沿着第一方向来移动该载体的平台，其中，该第一方向不同于该偏折方向，其中，该目标物定位设备包括一第一致动器，用于相对于该带电粒子光学柱而在该第一方向中移动该平台，其中，该载体系以可移动的方式被排列在该平台之上，且其中，该目标物定位设备包括固持构件，用于依照该平台而将该载体固持在第一相对位置中。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式