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31. 发明专利

TW200827412A 含有金屬微粒子之分散液、其製造方法及具有金屬膜之物品审中-公开
简体标题：含有金属微粒子之分散液、其制造方法及具有金属膜之物品
公开(公告)号：TW200827412A
公开(公告)日：2008-07-01
申请号：TW096124133
申请日：2007-07-03
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：平社英之 HIRAKOSO, HIDEYUKI , 阿部啓介 ABE, KEISUKE , 真田恭宏 SANADA, YASUHIRO
IPC分类号： C09D , B22F , H05K
CPC分类号： H05K1/097 , B22F1/0022 , B22F9/24 , B22F2999/00 , B82Y30/00 , C09D5/24 , C09D11/30 , C09D11/52 , H05K2203/1163 , H05K2203/122 , Y10T428/31678 , B22F2201/02
摘要：本發明提供一種耐氧化性及分散穩定性優越,可形成導電性優越之金屬膜的含金屬微粒子之分散液,其製造方法,及具有導電性優越之金屬膜的物品。
其係將含有分散媒、與分散於該分散媒中之平均粒子為50nm以下的氫化金屬微粒子,與具有胺基之碳數4~1,000的有機化合物之含氫化金屬微粒子的分散液,在惰性氛圍下於60~350℃予以加熱之含有金屬微粒子的分散液之製造方法;藉由製造方法所得之含有金屬微粒子的分散液;在基材上將含金屬微粒子之分散液進行塗佈、燒成所形成之具有金屬膜的物品。
简体摘要：本发明提供一种耐氧化性及分散稳定性优越,可形成导电性优越之金属膜的含金属微粒子之分散液,其制造方法,及具有导电性优越之金属膜的物品。其系将含有分散媒、与分散于该分散媒中之平均粒子为50nm以下的氢化金属微粒子,与具有胺基之碳数4~1,000的有机化合物之含氢化金属微粒子的分散液,在惰性氛围下于60~350℃予以加热之含有金属微粒子的分散液之制造方法;借由制造方法所得之含有金属微粒子的分散液;在基材上将含金属微粒子之分散液进行涂布、烧成所形成之具有金属膜的物品。

32. 发明专利

TWI295299B 全氟聚醚衍生物 PERFLUOROPOLYETHER DERIVATIVES 失效
公开(公告)号：TWI295299B
公开(公告)日：2008-04-01
申请号：TW092129065
申请日：2003-10-17
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：白川大祐 SHIRAKAWA, DAISUKE , 岡添隆 OKAZOE, TAKASHI , 大春一也 OHARU, KAZUYA , 王舒鐘 WANG, SHUZHONG , 村田浩一 MURATA, KOICHI , 川原健吾 KAWAHARA, KENGO
IPC分类号： C08G , C10M , C09D , C09K
CPC分类号： C08G65/007 , C10M107/38 , C10M2213/043 , C10M2213/0606 , C10N2240/204
摘要：本發明係提供不易分解，且無使用時惡化問題之適用為潤滑劑或塗布劑的新穎之全氟聚醚衍生物。即，下列式(1)所示化合物。 HO-(CH2CH2O)r．(CH2CH(OH)CH2O)p-CH2CF2O(CF2CF2O)mCF2CH2O--(CH2CH(OH)CH2O)q．(CH2CH2O)s-H 式(1)式中，m為3至200之整數，p、q、r及s各自獨立為0至100之整數。又，p、q、r及s各自獨立為1以上之整數時，-(CH2CH2O)-單位及-(CH2CH(OH) CH2O)-單位之並列方式無特別限制。r及p任何一方為2以上之整數且另一方為1以上之整數時，或q及s任何一方為2以上之整數且另一方為1以上之整數時，該單位之並列方式可為嵌段狀或無規狀。
简体摘要：本发明系提供不易分解，且无使用时恶化问题之适用为润滑剂或涂布剂的新颖之全氟聚醚衍生物。即，下列式(1)所示化合物。 HO-(CH2CH2O)r．(CH2CH(OH)CH2O)p-CH2CF2O(CF2CF2O)mCF2CH2O--(CH2CH(OH)CH2O)q．(CH2CH2O)s-H 式(1)式中，m为3至200之整数，p、q、r及s各自独立为0至100之整数。又，p、q、r及s各自独立为1以上之整数时，-(CH2CH2O)-单位及-(CH2CH(OH) CH2O)-单位之并列方式无特别限制。r及p任何一方为2以上之整数且另一方为1以上之整数时，或q及s任何一方为2以上之整数且另一方为1以上之整数时，该单位之并列方式可为嵌段状或无规状。

33. 发明专利

TW200812927A 平面面板玻璃用玻璃基板之製造方法失效
简体标题：平面皮肤玻璃用玻璃基板之制造方法
公开(公告)号：TW200812927A
公开(公告)日：2008-03-16
申请号：TW096124771
申请日：2007-07-06
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：竹田諭司 TAKEDA, SATOSHI , 谷井史朗 TANII, SHIROU , 東誠二 HIGASHI, SEIJI , 秋山良司 AKIYAMA, RYOJI
IPC分类号： C03C , C03B
CPC分类号： C03B18/14 , C03C3/087 , C03C17/22 , C03C21/007 , C03C2217/28 , C03C2217/283 , C03C2218/355 , H01J9/241 , H01J2211/34 , Y02P40/57
摘要：本發明之課題在於提供一種可維持良好之耐傷性,並且防止Ag膠體發色之平面面板玻璃用玻璃基板之製造方法、以及利用該製造方法而獲得之平面面板玻璃用玻璃基板。本發明係關於一種平面面板玻璃用玻璃基板之製造方法,其係利用浮式法來製造平面面板玻璃用玻璃基板者;其具備:成形步驟,將熔融玻璃於熔融錫上成形為玻璃基板;以及徐冷步驟,使藉由上述成形步驟而成形之上述玻璃基板徐冷;且具備:第1供給步驟,向上述玻璃基板之與上述熔融錫接觸之側的表面噴附含有鹼金屬之無機物質;以及第2供給步驟,於上述第1供給步驟之後,向上述玻璃基板之與上述熔融錫接觸之側的表面噴附SO2氣體。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种可维持良好之耐伤性,并且防止Ag胶体发色之平面皮肤玻璃用玻璃基板之制造方法、以及利用该制造方法而获得之平面皮肤玻璃用玻璃基板。本发明系关于一种平面皮肤玻璃用玻璃基板之制造方法,其系利用浮式法来制造平面皮肤玻璃用玻璃基板者;其具备:成形步骤,将熔融玻璃于熔融锡上成形为玻璃基板;以及徐冷步骤,使借由上述成形步骤而成形之上述玻璃基板徐冷;且具备:第1供给步骤,向上述玻璃基板之与上述熔融锡接触之侧的表面喷附含有碱金属之无机物质;以及第2供给步骤,于上述第1供给步骤之后,向上述玻璃基板之与上述熔融锡接触之侧的表面喷附SO2气体。

34. 发明专利

TW200811067A 沖壓成型裝置审中-公开
简体标题：冲压成型设备
公开(公告)号：TW200811067A
公开(公告)日：2008-03-01
申请号：TW096102190
申请日：2007-01-19
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：大神聰司 OHGAMI, SATOSHI
IPC分类号： C03B , C21D
CPC分类号： C03B11/005 , C03B11/122 , C03B11/125 , Y02P40/57
摘要：本發明係提供一種沖壓成型裝置,係設置有:在搬運路上加熱放入材料的模具的加熱室;在非氧化性氣體環境中,沖壓前述材料的成型室;及冷卻成型後的前述模具之冷卻室,前述模具依序在該搬運路上搬運,前述加熱室、前述成型室及前述冷卻室,分別具有在沖壓成型時與大氣遮斷,用來遮斷前述成型室及前述冷卻室的手段,且具有將前述非氧化性氣體導入至該沖壓成型裝置內的流入口,前述流入口設置於前述加熱室及前述成型室中至少一方。
简体摘要：本发明系提供一种冲压成型设备,系设置有:在搬运路上加热放入材料的模具的加热室;在非氧化性气体环境中,冲压前述材料的成型室;及冷却成型后的前述模具之冷却室,前述模具依序在该搬运路上搬运,前述加热室、前述成型室及前述冷却室,分别具有在冲压成型时与大气遮断,用来遮断前述成型室及前述冷却室的手段,且具有将前述非氧化性气体导入至该冲压成型设备内的流入口,前述流入口设置于前述加热室及前述成型室中至少一方。

35. 发明专利

TW200808697A 新穎之含氟芳香族化合物,有機半導體材料及有機薄膜裝置审中-公开
简体标题：新颖之含氟芳香族化合物,有机半导体材料及有机薄膜设备
公开(公告)号：TW200808697A
公开(公告)日：2008-02-16
申请号：TW096121871
申请日：2007-06-15
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED , 國立大學法人九州大學 KYUSHU UNIVERSITY, NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION
发明人：柏木王明 KASHIWAGI, KIMIAKI , 筒井哲夫 TSUTSUI, TETSUO , 安田剛 YASUDA, TAKESHI
IPC分类号： C07C , H01L
摘要：於作為有機半導體材料之有機薄膜裝置所使用的場合,提供一種載體移動度等優異,與烴芳香族基及含氟芳香族性基結合所成之��共軛化合物,以及將該��共軛化合物作為電荷輸送材料使用之有機半導體材料。下述式(1)所示之含氟芳香族化合物(式中,Ar^F為全氟芳香族性基(但,前述全氟芳香族性基中之氟原子可被全氟烷基所取代)。n為1~4之整數。Q為下述式(2)所示之構造減去n個氫原子所得之n價芳香族性基(但,前述芳香族性基中之氫原子為碳數1~8之烷基或為碳數1~8之含氟烷基所取代)。p為0~4之整數。)。包含含氟素芳香族化合物之有機半導體材料。
096121871P01.bmp
简体摘要：于作为有机半导体材料之有机薄膜设备所使用的场合,提供一种载体移动度等优异,与烃芳香族基及含氟芳香族性基结合所成之��共轭化合物,以及将该��共轭化合物作为电荷输送材料使用之有机半导体材料。下述式(1)所示之含氟芳香族化合物(式中,Ar^F为全氟芳香族性基(但,前述全氟芳香族性基中之氟原子可被全氟烷基所取代)。n为1~4之整数。Q为下述式(2)所示之构造减去n个氢原子所得之n价芳香族性基(但,前述芳香族性基中之氢原子为碳数1~8之烷基或为碳数1~8之含氟烷基所取代)。p为0~4之整数。)。包含含氟素芳香族化合物之有机半导体材料。 096121871P01.bmp

36. 发明专利

TW200808619A 板狀體之收納方法及收納裝置审中-公开
简体标题：板状体之收纳方法及收纳设备
公开(公告)号：TW200808619A
公开(公告)日：2008-02-16
申请号：TW096124001
申请日：2007-07-02
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：野瀨雄彥 NOSE, TAKEHIKO , 豐一也 TOYOSHIMA, KAZUYA
IPC分类号： B65D
CPC分类号： B65G49/068 , B65G49/067 , B65G2249/02 , H01L21/6734 , H01L21/67769
摘要：本發明之目的係提供一種板狀體之收納方法及收納裝置,以良好地將大型玻璃基板等的大型板狀體逐片收納於托板。玻璃基板用收納裝置係具備托板傾斜裝置,將定位構件呈L型配置之托板裝載於該玻璃基板用收納裝置,藉由前述托板傾斜裝置將該托板傾斜成供積層板狀體之表面材面與水平面之夾角形成40度以上,並使該托板的下邊與水平面之夾角形成10度以上,對於該傾斜姿勢之托板,將逐片搬入之玻璃基板以端緣部抵接於呈L型配置的定位構件之方式進行定位收納。
简体摘要：本发明之目的系提供一种板状体之收纳方法及收纳设备,以良好地将大型玻璃基板等的大型板状体逐片收纳于托板。玻璃基板用收纳设备系具备托板倾斜设备,将定位构件呈L型配置之托板装载于该玻璃基板用收纳设备,借由前述托板倾斜设备将该托板倾斜成供积层板状体之表面材面与水平面之夹角形成40度以上,并使该托板的下边与水平面之夹角形成10度以上,对于该倾斜姿势之托板,将逐片搬入之玻璃基板以端缘部抵接于呈L型配置的定位构件之方式进行定位收纳。

37. 发明专利

TW200807449A 透明導電膜及其製造方法、以及其製造時所用之濺鍍靶审中-公开
简体标题：透明导电膜及其制造方法、以及其制造时所用之溅镀靶
公开(公告)号：TW200807449A
公开(公告)日：2008-02-01
申请号：TW096120168
申请日：2007-06-05
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：小高秀文 ODAKA, HIDEFUMI , 光井彰 MITSUI, AKIRA
IPC分类号： H01B , C01B , C23C
CPC分类号： C01G19/00 , C23C14/086 , C23C14/3414 , G02F1/13439
摘要：本發明係提供一種對玻璃粉的侵蝕具有强耐性,在與玻璃粉接觸的狀態下燒成也不會增加電阻之透明導電膜及其製造方法。該透明導電膜其係以氧化錫為主要成分之透明導電膜,該透明導電膜係含有選自鎢、鉭、鈮、鉬以及鉍所成之群之至少一種元素作為摻雜劑,且實質上不含銻以及銦,使該透明導電膜中所含作為摻雜劑之該元素的總量為MA,使該透明導電膜中所含的錫元素的量為Sn時,滿足下述式(1)、(2):
0.8
简体摘要：本发明系提供一种对玻璃粉的侵蚀具有强耐性,在与玻璃粉接触的状态下烧成也不会增加电阻之透明导电膜及其制造方法。该透明导电膜其系以氧化锡为主要成分之透明导电膜,该透明导电膜系含有选自钨、钽、铌、钼以及铋所成之群之至少一种元素作为掺杂剂,且实质上不含锑以及铟,使该透明导电膜中所含作为掺杂剂之该元素的总量为MA,使该透明导电膜中所含的锡元素的量为Sn时,满足下述式(1)、(2): 0.8<(Sn)/(Sn+MA)<1.0...(1) 0.01<(MA)/(Sn+MA)<0.2...(2)。

38. 发明专利

TW200805005A 裝置基板之洗淨方法审中-公开
简体标题：设备基板之洗净方法
公开(公告)号：TW200805005A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：TW096112102
申请日：2007-04-04
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED , NTT先進科技股份有限公司 NTT ADVANCED TECHNOLOGY CORPORATION
发明人：岡本秀一 OKAMOTO, HIDEKAZU , 生津英夫 NAMATSU, HIDEO
IPC分类号： G03F , C11D , H01L
CPC分类号： H01L21/0337 , C11D7/5018 , C11D11/0047 , G03F7/426 , H01L21/31133
摘要：本發明係提供一種可充分除去附著於裝置基板之光阻,尤其,附著於長寬比大之微細圖案的孔部之光阻的裝置基板之洗淨方法。本發明之裝置基板之洗淨方法,係具備使用溶劑而除去附著於裝置基板之光阻的洗淨步驟,其特徵在於:該溶劑為含有:至少一種選自由氫氟醚、氫氟碳化物及全氟碳化物所構成之群中的含氟化合物、與含氟醇之組成物。
简体摘要：本发明系提供一种可充分除去附着于设备基板之光阻,尤其,附着于长宽比大之微细图案的孔部之光阻的设备基板之洗净方法。本发明之设备基板之洗净方法,系具备使用溶剂而除去附着于设备基板之光阻的洗净步骤,其特征在于:该溶剂为含有:至少一种选自由氢氟醚、氢氟碳化物及全氟碳化物所构成之群中的含氟化合物、与含氟醇之组成物。

39. 发明专利

TW200804970A EUV微影術用之反射性空白遮光罩及用於彼之具有功能性薄膜的基板 REFLECTIVE MASK BLANK FOR EUV LITHOGRAPHY AND SUBSTRATE WITH FUNCTIONAL FILM FOR THE SAME 失效
简体标题： EUV微影术用之反射性空白遮光罩及用于彼之具有功能性薄膜的基板 REFLECTIVE MASK BLANK FOR EUV LITHOGRAPHY AND SUBSTRATE WITH FUNCTIONAL FILM FOR THE SAME
公开(公告)号：TW200804970A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：TW096120167
申请日：2007-06-05
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：林和幸 HAYASHI, KAZUYUKI , 門一生 KADOWAKI, KAZUO , 杉山享司 SUGIYAMA, TAKASHI , 三上正樹 MIKAMI, MASAKI
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F1/24 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/22 , G21K1/062
摘要：本發明係提供一種制止在EUV曝光期間反射率下降之EUV空白遮光罩,以及用於生產該等EUV空白遮光罩之具有功能性薄膜的基板。具有用於EUV微影術之反射層的基板包含基板及在該基板上依序形成之用於反射EUV光之反射層與用於保護該反射層之保護層,其中保護層包括釕(Ru)及至少一種選自硼(B)及鋯(Zr)之元素;以及在保護層中,Ru含量係從70原子%至95原子%,而B與Zr之總含量係從5原子%至30原子%。
简体摘要：本发明系提供一种制止在EUV曝光期间反射率下降之EUV空白遮光罩,以及用于生产该等EUV空白遮光罩之具有功能性薄膜的基板。具有用于EUV微影术之反射层的基板包含基板及在该基板上依序形成之用于反射EUV光之反射层与用于保护该反射层之保护层,其中保护层包括钌(Ru)及至少一种选自硼(B)及锆(Zr)之元素;以及在保护层中,Ru含量系从70原子%至95原子%,而B与Zr之总含量系从5原子%至30原子%。

40. 发明专利

TW200804447A 胺基甲酸乙酯樹脂之製造方法及黏著劑审中-公开
简体标题：胺基甲酸乙酯树脂之制造方法及黏着剂
公开(公告)号：TW200804447A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：TW096104653
申请日：2007-02-08
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：中村牧人 NAKAMURA, MAKITO , 下間仁 SHIMOMA, HITOSHI , 佐藤壽 SATO, HISASHI , 安達泰仁 ADACHI, YASUHITO
IPC分类号： C08G , C09J
CPC分类号： C09J175/04 , C08G18/10 , C08G18/3281 , C08G2170/40 , C08G18/3206 , C08G18/8022
摘要：本發明之課題為,提供不受限於聚異氰酸酯種類,易控制胺基甲酸乙酯樹脂之分子量,可製造適用於强黏著領域至微黏著領域之廣泛範圍的再剝離性黏著劑用胺基甲酸乙酯樹脂之胺基甲酸乙酯樹脂的製造方法。本發明之胺基甲酸乙酯樹脂的製造方法之特徵為,以異氰酸酯基過剩之比率使聚醇與第1之聚異氰酸酯化合物反應,得異氰酸酯基末端預聚物後,使該異氰酸酯基末端預聚物與鏈延長劑反應,再與末端停止劑反應之胺基甲酸乙酯樹脂的製造方法中,鏈延長劑含有,具有3個以上能與異氰酸酯基反應之官能基的多官能化合物(Ⅹ),且該多官能化合物(Ⅹ)之官能基中2個為1級羥基,剩餘之官能基為2級羥基或3級羥基。
简体摘要：本发明之课题为,提供不受限于聚异氰酸酯种类,易控制胺基甲酸乙酯树脂之分子量,可制造适用于强黏着领域至微黏着领域之广泛范围的再剥离性黏着剂用胺基甲酸乙酯树脂之胺基甲酸乙酯树脂的制造方法。本发明之胺基甲酸乙酯树脂的制造方法之特征为,以异氰酸酯基过剩之比率使聚醇与第1之聚异氰酸酯化合物反应,得异氰酸酯基末端预聚物后,使该异氰酸酯基末端预聚物与链延长剂反应,再与末端停止剂反应之胺基甲酸乙酯树脂的制造方法中,链延长剂含有,具有3个以上能与异氰酸酯基反应之官能基的多官能化合物(Ⅹ),且该多官能化合物(Ⅹ)之官能基中2个为1级羟基,剩余之官能基为2级羟基或3级羟基。

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