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21. 发明专利

TWI247197B 對齊晶圓之方法 METHOD FOR ALIGNING WAFER 失效
简体标题：对齐晶圆之方法 METHOD FOR ALIGNING WAFER
公开(公告)号：TWI247197B
公开(公告)日：2006-01-11
申请号：TW093137829
申请日：2004-12-07
申请人：海力士半導體股份有限公司 HYNIX SEMICONDUCTOR INC.
发明人：潘槿道 BAN, KEUN DO
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F9/7019 , G03F7/70633 , G03F9/7011 , G03F9/7015 , H01L21/682
摘要：本發明揭示一種對齊晶圓之方法，該方法包括：在一曝光裝置中載入並對齊一第一晶圓；從該第一晶圓的複數個晶圓對齊標記中選擇一無缺陷的晶圓對齊標記，並在一工作檔案中將該等無缺陷的晶圓對齊標記儲存為一灰階的參考影像；載入一第二晶圓，並將該第二晶圓的複數個晶圓對齊標記儲存為灰階的晶圓對齊標記影像；分別將該第二晶圓的該等複數個晶圓對齊標記影像中的每一個與該第一晶圓的該參考影像逐像素地進行比較，以獲得該等複數個晶圓對齊標記影像中每一個的匹配值；將該等複數個匹配值中的每一個與該曝光裝置中所設定的一最小值進行比較；用該參考影像來取代所具有的匹配值小於該最小值的該晶圓對齊標記影像；及使用一晶圓對齊感測器來獲得一底層的一對齊資訊。
简体摘要：本发明揭示一种对齐晶圆之方法，该方法包括：在一曝光设备中加载并对齐一第一晶圆；从该第一晶圆的复数个晶圆对齐标记中选择一无缺陷的晶圆对齐标记，并在一工作文档中将该等无缺陷的晶圆对齐标记存储为一灰阶的参考影像；加载一第二晶圆，并将该第二晶圆的复数个晶圆对齐标记存储为灰阶的晶圆对齐标记影像；分别将该第二晶圆的该等复数个晶圆对齐标记影像中的每一个与该第一晶圆的该参考影像逐像素地进行比较，以获得该等复数个晶圆对齐标记影像中每一个的匹配值；将该等复数个匹配值中的每一个与该曝光设备中所设置的一最小值进行比较；用该参考影像来取代所具有的匹配值小于该最小值的该晶圆对齐标记影像；及使用一晶圆对齐传感器来获得一底层的一对齐信息。

22. 发明专利

TW200527149A 光罩固持器及光罩之組件 ASSEMBLY OF A RETICLE HOLDER AND A RETICLE 审中-公开
简体标题：光罩固持器及光罩之组件 ASSEMBLY OF A RETICLE HOLDER AND A RETICLE
公开(公告)号：TW200527149A
公开(公告)日：2005-08-16
申请号：TW093132604
申请日：2004-10-27
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：捷特-詹海尼 HEERENS, GERT-JAN , 巴帝安蘭博特威廉瑪瑪里納范戴凡 VAN DE VEN, BASTIAAN LAMBERTUS WILHELMUS MARINUS
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03B27/42 , G03B27/62 , G03F7/707 , G03F7/70741 , G03F9/7003 , G03F9/7011 , G03F9/7088 , G03F9/7096
摘要：本發明係關於一種光罩及光罩固持器之組件，其中該光罩固持器(1)之狀態係可於型閉合光罩阻塞狀態與光罩釋放狀態之間進行調整，其中當該光罩固持器(1)處於阻塞狀態時，該光罩固持器(1)係配置成於至少一方向(X、Y、Z)至少以型閉合方式固持該光罩(MA)，其中當該光罩固持器(1)處於釋放狀態時，該光罩固持器(1)係配置成釋放該光罩(MA)。本發明亦係關於一種包含一由一光罩(MA)與一光罩固持器(201)組成之組件以及至少一偵測器(250)之系統，其中該光罩(MA)包含一或多個標記(MRK)，其中該光罩固持器(201)及該偵測器(250)係配置成相對於彼此運動地(kinematically)對準，其中該偵測器(250)係配置成偵測該光罩標記(MRK)，藉此以相對於光罩固持器(201)方式來定位光罩(MA)。
简体摘要：本发明系关于一种光罩及光罩固持器之组件，其中该光罩固持器(1)之状态系可于型闭合光罩阻塞状态与光罩释放状态之间进行调整，其中当该光罩固持器(1)处于阻塞状态时，该光罩固持器(1)系配置成于至少一方向(X、Y、Z)至少以型闭合方式固持该光罩(MA)，其中当该光罩固持器(1)处于释放状态时，该光罩固持器(1)系配置成释放该光罩(MA)。本发明亦系关于一种包含一由一光罩(MA)与一光罩固持器(201)组成之组件以及至少一侦测器(250)之系统，其中该光罩(MA)包含一或多个标记(MRK)，其中该光罩固持器(201)及该侦测器(250)系配置成相对于彼此运动地(kinematically)对准，其中该侦测器(250)系配置成侦测该光罩标记(MRK)，借此以相对于光罩固持器(201)方式来定位光罩(MA)。

23. 发明专利

TW200520962A 準確定位基板上圖案之方法 METHOD FOR ACCURATELY POSITIONING A PATTERN ON A SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：准确定位基板上图案之方法 METHOD FOR ACCURATELY POSITIONING A PATTERN ON A SUBSTRATE
公开(公告)号：TW200520962A
公开(公告)日：2005-07-01
申请号：TW093120388
申请日：2004-07-07
申请人：皇家飛利浦電子股份有限公司 KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.
发明人：德克詹伯恩哈德凡丹 VAN DAM, DIRKJAN BERNHARD , 李奧那都斯喬翰尼斯柯尼里爾斯凡登貝塞勒 VAN DEN BESSELAAR, LEONARDUS JOHANNES CORNELIUS
IPC分类号： B41J , H05B
CPC分类号： G03F9/7084 , F04B47/02 , G03F7/70791 , G03F9/7003 , G03F9/7011 , G03F9/7019 , G03F9/7088 , H01L51/56
摘要：本發明揭示一種印刷機，其包含一X–Y平台(50)，用以將一基板(30)相對一印刷頭(20)移動。在印刷期間，該基板(30)會移動，而該印刷頭(20)則間歇啟動以射出墨水滴。一照相機(25)係配置用以將該基板(30)之影像提供給一電腦，該電腦係被程式化以辨識圖案。為了讓該印刷頭(20)能夠將一點印刷在該基板(30)之預先決定的位置上，該基板(30)與該印刷頭(20)之預先決定及實際共同位置間的偏移會被量測後加以補償。為了量測該偏移，一測試點(38)係印刷在該基板(30)上，而在該測試點(38)之預先決定與實際上所獲得的位置之間的偏移係籍由圖案辨識來量測。
简体摘要：本发明揭示一种印刷机，其包含一X–Y平台(50)，用以将一基板(30)相对一印刷头(20)移动。在印刷期间，该基板(30)会移动，而该印刷头(20)则间歇启动以射出墨水滴。一照相机(25)系配置用以将该基板(30)之影像提供给一电脑，该电脑系被进程化以辨识图案。为了让该印刷头(20)能够将一点印刷在该基板(30)之预先决定的位置上，该基板(30)与该印刷头(20)之预先决定及实际共同位置间的偏移会被量测后加以补偿。为了量测该偏移，一测试点(38)系印刷在该基板(30)上，而在该测试点(38)之预先决定与实际上所获得的位置之间的偏移系籍由图案辨识来量测。

24. 发明专利

TW546700B 對準方法、曝光方法、曝光裝置及元件製造方法有权
简体标题：对准方法、曝光方法、曝光设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW546700B
公开(公告)日：2003-08-11
申请号：TW090105969
申请日：2001-03-14
申请人：尼康股份有限公司
发明人：水谷英夫
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/70691 , G03F9/7011 , G03F9/7076
摘要：在晶圓台23A上透過晶圓保持器24A保持塗布有光阻之晶圓W1，並在晶圓保持器24A之圓周部上預先形成二維之基準標記34A、34B。對準時，使用軸外(off-axis)方式之對準感測器12A檢測基準標記34A、34B及晶圓W1上之既定之晶圓標記，以求得對晶圓保持器24A之晶圓W1之相對位置。透過投影光學系統PL對標線板R1之圖案曝光之際，利用TTL(Through-The-Lens)方式之標線板對準顯微鏡5A、5B檢測基準標記34A、34B之位置，並根據該檢測結果及先前所求得之相對位置來驅動晶圓台23A。
简体摘要：在晶圆台23A上透过晶圆保持器24A保持涂布有光阻之晶圆W1，并在晶圆保持器24A之圆周部上预先形成二维之基准标记34A、34B。对准时，使用轴外(off-axis)方式之对准传感器12A检测基准标记34A、34B及晶圆W1上之既定之晶圆标记，以求得对晶圆保持器24A之晶圆W1之相对位置。透过投影光学系统PL对标线板R1之图案曝光之际，利用TTL(Through-The-Lens)方式之标线板对准显微镜5A、5B检测基准标记34A、34B之位置，并根据该检测结果及先前所求得之相对位置来驱动晶圆台23A。

25. 发明专利

TW522287B 微影投影裝置、校正微影投影裝置之方法、使用微影投影裝置製造一裝置之方法、及利用該方法製造之裝置有权
简体标题：微影投影设备、校正微影投影设备之方法、使用微影投影设备制造一设备之方法、及利用该方法制造之设备
公开(公告)号：TW522287B
公开(公告)日：2003-03-01
申请号：TW090100449
申请日：2001-01-09
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：羅傑赫曼馬提司葛洛尼佛 , 艾瑞克羅勒夫洛普斯托拉 , 傑可伯柏杭 , 里昂馬汀里發瑟 , 亞歷山卓史卓耶
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F9/7019 , F41H7/04 , G03F9/7011 , G03F9/7034
摘要：在微影裝置，一安裝在晶圓台WT之參考光柵11，以一入射在一獨立於晶圓台傾斜之方向之測量束20予以照明。衍射級藉檢測器30予以檢測，並用以確定在晶圓台自非零亞伯支臂，及因而亞伯支臂所產生之橫向移位，以供校正目的。檢測器30可為一也供晶圓及晶圓台離軸對準使用之檢測器。
简体摘要：在微影设备，一安装在晶圆台WT之参考光栅11，以一入射在一独立于晶圆台倾斜之方向之测量束20予以照明。衍射级藉检测器30予以检测，并用以确定在晶圆台自非零亚伯支臂，及因而亚伯支臂所产生之横向移位，以供校正目的。检测器30可为一也供晶圆及晶圆台离轴对准使用之检测器。

26. 发明专利

TW201730928A 位置測量方法、位置控制方法、測量方法、裝載方法、曝光方法及曝光裝置、及元件製造方法审中-公开
简体标题：位置测量方法、位置控制方法、测量方法、装载方法、曝光方法及曝光设备、及组件制造方法
公开(公告)号：TW201730928A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW106115617
申请日：2005-11-17
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：安田雅彥 , YASUDA, MASAHIKO , 杉原太郎 , SUGIHARA, TAROU
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70691 , G03F7/707 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/70975 , G03F9/7011 , G03F9/7088 , Y10T29/49002
摘要：能管理位置測量用標記未存在之移動體之位置。將以可拆裝方式搭載既定形狀之板件50之移動體WST的位置，以供界定其移動座標系統之測量裝置(18等)來測量，並以對準系統ALG檢測出板件50之一部分，根據其檢測結果與對應之該測量裝置之測量結果，來取得板件50外周邊緣之位置資訊。據此，即使於該移動體WST上位置測量用之標記(基準標記)等未存在，仍可根據板件外周邊緣之位置資訊，在以該測量裝置所界定之移動座標系統上管理板件的位置(亦即移動體之位置)。
简体摘要：能管理位置测量用标记未存在之移动体之位置。将以可拆装方式搭载既定形状之板件50之移动体WST的位置，以供界定其移动座标系统之测量设备(18等)来测量，并以对准系统ALG检测出板件50之一部分，根据其检测结果与对应之该测量设备之测量结果，来取得板件50外周边缘之位置信息。据此，即使于该移动体WST上位置测量用之标记(基准标记)等未存在，仍可根据板件外周边缘之位置信息，在以该测量设备所界定之移动座标系统上管理板件的位置(亦即移动体之位置)。

27. 发明专利

TW201624149A 預對準測量裝置和方法审中-公开
简体标题：预对准测量设备和方法
公开(公告)号：TW201624149A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW104144552
申请日：2015-12-30
申请人：上海微電子裝備有限公司
发明人：杜榮 , DU, RONG , 于大維 , YU, DAWEI , 於陳慧 , YU, CHENHUI
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G01B11/272 , G03F9/7011 , G03F9/7088
摘要：本發明公開一種預對準測量裝置，其沿光線行進方向依次包括雷射器、第一柱面鏡、第一成像鏡片、照明光欄、第二成像鏡片、第二柱面鏡和CCD探測器。被測物位於第一柱面鏡和第一成像鏡片之間且由工件臺承載。雷射器、被測物和CCD探測器分別位於整個測量裝置所形成的三角形的頂點上，所述三角形所在平面與被測物所在平面垂直，且三角形所在面相切於被測物的邊緣。雷射器出射的光束經過第一柱面鏡後變成線光源；經過被測物反射的光線通過第二柱面鏡後，在CCD探測器上成像形成CCD影像；CCD影像的水平向與垂直向放大倍率不同，使得水平向與垂直向解析度與量程匹配，實現了被測物及工件臺形成的臺階位置資訊和臺階高度資訊。本發明還公開了一種預對準測量方法。
简体摘要：本发明公开一种预对准测量设备，其沿光线行进方向依次包括激光器、第一柱面镜、第一成像镜片、照明光栏、第二成像镜片、第二柱面镜和CCD探测器。被测物位于第一柱面镜和第一成像镜片之间且由工件台承载。激光器、被测物和CCD探测器分别位于整个测量设备所形成的三角形的顶点上，所述三角形所在平面与被测物所在平面垂直，且三角形所在面相切于被测物的边缘。激光器出射的光束经过第一柱面镜后变成线光源；经过被测物反射的光线通过第二柱面镜后，在CCD探测器上成像形成CCD影像；CCD影像的水平向与垂直向放大倍率不同，使得水平向与垂直向分辨率与量程匹配，实现了被测物及工件台形成的台阶位置信息和台阶高度信息。本发明还公开了一种预对准测量方法。

28. 发明专利

TWI460558B 用於光罩對準之方法及使用數個掩膜以形成裝置在晶圓上之方法有权
简体标题：用于光罩对准之方法及使用数个掩膜以形成设备在晶圆上之方法
公开(公告)号：TWI460558B
公开(公告)日：2014-11-11
申请号：TW095117690
申请日：2006-05-18
申请人：泛林股份有限公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：史沙加地 , SADJADI, S. M. REZA
IPC分类号： G03F9/00 , G03F1/38 , G03F7/09 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F9/7011 , G03F9/7019 , G03F9/7046 , Y10S438/975

29. 发明专利

TWI460549B 微影裝置及元件製造方法失效
简体标题：微影设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI460549B
公开(公告)日：2014-11-11
申请号：TW100103175
申请日：2011-01-27
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：帕迪亞歷山卓 , PADIY, ALEXANDER , 曼徹奇可夫伯瑞斯 , MENCHTCHIKOV, BORIS
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70616 , G03F7/70516 , G03F9/7011 , G03F9/7019

30. 发明专利

TWI411522B 基材對準技術有权
简体标题：基材对准技术
公开(公告)号：TWI411522B
公开(公告)日：2013-10-11
申请号：TW098137220
申请日：2009-11-03
申请人：分子壓模公司 , MOLECULAR IMPRINTS, INC.
发明人：崔炳鎮 , CHOI, BYUNG-JIN , 尼瑪卡耶拉包溫K , NIMMAKAYALA, PAWAN KUMAR , 葛納帕席薩巴拉曼奈恩瑪哈德文 , GANAPATHISUBRAMANIAN, MAHADEVAN
IPC分类号： B29C59/02
CPC分类号： G03F9/7011 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/7053 , G03F9/7084 , Y10S425/81

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