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22. 发明专利

TWI535871B 成形體、其製造方法、電子裝置用元件及電子裝置有权
简体标题：成形体、其制造方法、电子设备用组件及电子设备
公开(公告)号：TWI535871B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW100126543
申请日：2011-07-27
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：岩屋涉 , IWAYA, WATARU , 近藤健 , KONDO, TAKESHI
IPC分类号： C23C14/06 , B32B27/28 , B32B27/30 , C23C14/48
CPC分类号： C23C14/48 , B05D1/62 , B05D7/04 , B05D2252/02 , B29C59/14 , B29C2059/147 , C08J7/045 , C08J7/047 , C08J7/123 , C08J2367/02 , C08J2433/12 , C08J2483/16 , Y10T428/31667

23. 发明专利

TW201607724A 透明性阻氣複合膜及其製備方法审中-公开
简体标题：透明性阻气复合膜及其制备方法
公开(公告)号：TW201607724A
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW103128355
申请日：2014-08-18
申请人：中原大學 , CHUNG-YUAN CHRISTIAN UNIVERSITY.
发明人：陳榮財 , CHEN, JUNG TSAI , 胡蒨傑 , HU, CHIEN CHIEH , 李魁然 , LEE, KUEIR RARN , 賴君義 , LAI, JUIN YIH
IPC分类号： B29C41/12 , C08K3/04 , H05K3/28 , B29K29/00 , B29L7/00
CPC分类号： C08J5/18 , B05D7/04 , C08J2329/04 , C08K3/011 , C08K3/042 , C08K3/20 , C08K3/38 , C08K5/0025 , C08K5/07 , C08K2003/387 , C08L29/04 , C08L2201/14
摘要：本發明係提供一種透明性阻氣複合膜及其製備方法。透明性阻阻氣複合膜，其係由聚乙烯醇、氧化石墨烯及交聯劑，依序進行混摻、交聯、鑄膜及恆溫結晶後而得到之複合膜，氧化石墨烯對聚乙烯醇的重量比為0.1重量%，氧化石墨烯誘導聚乙烯醇結晶，與氧化石墨烯及交聯劑形成一聚乙烯醇結晶與氧化石墨烯、交聯劑所構成的混成結構，聚乙烯醇的結晶度為30%以上，該複合膜的透光度為85%以上，氧氣透過係數為0.005cc/m2/day以下。
简体摘要：本发明系提供一种透明性阻气复合膜及其制备方法。透明性阻阻气复合膜，其系由聚乙烯醇、氧化石墨烯及交联剂，依序进行混掺、交联、铸膜及恒温结晶后而得到之复合膜，氧化石墨烯对聚乙烯醇的重量比为0.1重量%，氧化石墨烯诱导聚乙烯醇结晶，与氧化石墨烯及交联剂形成一聚乙烯醇结晶与氧化石墨烯、交联剂所构成的混成结构，聚乙烯醇的结晶度为30%以上，该复合膜的透光度为85%以上，氧气透过系数为0.005cc/m2/day以下。

24. 发明专利

TW201601940A 氣阻性層積體及其製造方法、電子裝置用元件以及電子裝置审中-公开
简体标题：气阻性层积体及其制造方法、电子设备用组件以及电子设备
公开(公告)号：TW201601940A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104117118
申请日：2015-05-28
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：三村寿文 , MIMURA, TOSHIFUMI , 鈴木悠太 , SUZUKI, YUUTA , 永縄智史 , NAGANAWA, SATOSHI
IPC分类号： B32B9/00 , C23C16/44
CPC分类号： C08J7/047 , B05D1/60 , B05D1/62 , B05D5/00 , B05D7/04 , B05D7/51 , C08J2383/16 , C23C14/0036 , C23C14/086
摘要：本發明係提供一種具備具有基材及改質促進層之基材單元，及形成在前述基材單元的改質促進層側之氣體阻障層之氣體阻障性層積體，其特徵在於：前述改質促進層在23℃之彈性模數為小於30GPa，前述基材單元在溫度40℃、相對濕度90%之水蒸氣透過率為1.0g/(m2．day)以下，前述氣體阻障層，係對在前述基材單元的改質促進層側形成之含有聚矽氮烷系化合物之層的表面，施行改質處理而形成之層，及其製造方法、由前述氣體阻障性層積體所構成之電子裝置用元件、以及具備該電子裝置用元件之電子裝置。依照本發明，能夠提供一種具有優異的氣體阻障性及耐彎曲性之阻障性層積體等。
简体摘要：本发明系提供一种具备具有基材及改质促进层之基材单元，及形成在前述基材单元的改质促进层侧之气体阻障层之气体阻障性层积体，其特征在于：前述改质促进层在23℃之弹性模数为小于30GPa，前述基材单元在温度40℃、相对湿度90%之水蒸气透过率为1.0g/(m2．day)以下，前述气体阻障层，系对在前述基材单元的改质促进层侧形成之含有聚硅氮烷系化合物之层的表面，施行改质处理而形成之层，及其制造方法、由前述气体阻障性层积体所构成之电子设备用组件、以及具备该电子设备用组件之电子设备。依照本发明，能够提供一种具有优异的气体阻障性及耐弯曲性之阻障性层积体等。

25. 发明专利

TW201545883A 聚酯膜及其製造方法审中-公开
简体标题：聚酯膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201545883A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：TW104113619
申请日：2015-04-29
申请人：可隆股份有限公司 , KOLON INDUSTRIES, INC.
发明人：蓸恩惠 , CHO, EUN HYE , 朴載奉 , PARK, JAE BONG , 白尙鉉 , BAEK, SANG HYUN
IPC分类号： B32B27/36 , B32B7/04 , C09D183/04 , C09D7/12 , C08J5/18 , B29C55/12
CPC分类号： C08J7/065 , B05D3/12 , B05D7/04 , B05D7/24 , B29C47/0004 , B29C47/0021 , B29C47/0057 , B29C55/005 , B29C55/143 , B29K2067/00 , B29K2067/003 , B29K2105/162 , C08J5/18 , C08J7/04 , C08J7/06 , C08J2367/02 , C09D1/00 , C09D5/02 , C09D7/61 , C09D7/63 , C09D7/67 , C09D7/68
摘要：本發明提供一種用於轉移膜之聚酯膜。更具體而言，本發明是有關於一種用於轉移膜之聚酯膜及其製造方法，所述聚酯膜具有能夠附著於硬塗層表面之塗層，以使得在形成硬塗層時，在施用硬塗層溶液後在固化硬塗層溶液之過程中光滑地形成所述表面，以賦予室內產品表面光澤度，且所述聚酯膜具有極佳的脫模特性以易於在硬塗層完全固化後移除。
简体摘要：本发明提供一种用于转移膜之聚酯膜。更具体而言，本发明是有关于一种用于转移膜之聚酯膜及其制造方法，所述聚酯膜具有能够附着于硬涂层表面之涂层，以使得在形成硬涂层时，在施用硬涂层溶液后在固化硬涂层溶液之过程中光滑地形成所述表面，以赋予室内产品表面光泽度，且所述聚酯膜具有极佳的脱模特性以易于在硬涂层完全固化后移除。

26. 发明专利

TW201510091A 可固化組合物、製備固化物品之方法及由其所形成之固化物品审中-公开
简体标题：可固化组合物、制备固化物品之方法及由其所形成之固化物品
公开(公告)号：TW201510091A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103117388
申请日：2014-05-16
申请人：道康寧公司 , DOW CORNING CORPORATION
发明人：艾伐瑞茲克里斯多福艾德華 , ALVAREZ, KHRISTOPHER EDWARD , 安伯查德馬丁 , AMB, CHAD MARTIN , 布麗德莎拉凱特 , BREED, SARAH KATE , 司瓦托斯基布藍登 , SWATOWSKI, BRANDON
IPC分类号： C08L83/06 , C08G77/14 , C08K5/5435 , C08J5/18 , G02B6/122
CPC分类号： C09D183/06 , B05D3/0254 , B05D7/04 , B05D7/584 , C07F7/0812 , C07F7/0818 , C08J7/047 , C08J2379/08 , C08J2483/06 , G02B1/045 , G02B6/138
摘要：一種可固化組合物，其包含陽離子可聚合材料。該可固化組合物進一步包含含有具有單一矽鍵結之陽離子可聚合基團之矽烷化合物之稀釋劑組份。亦揭示利用該可固化組合物形成固化物品之方法。該方法包含在基板上施加該可固化組合物以形成膜。該方法進一步包含使該基板上之該膜固化以形成該固化物品。本發明亦提供根據該方法形成之該固化物品。
简体摘要：一种可固化组合物，其包含阳离子可聚合材料。该可固化组合物进一步包含含有具有单一硅键结之阳离子可聚合基团之硅烷化合物之稀释剂组份。亦揭示利用该可固化组合物形成固化物品之方法。该方法包含在基板上施加该可固化组合物以形成膜。该方法进一步包含使该基板上之该膜固化以形成该固化物品。本发明亦提供根据该方法形成之该固化物品。

27. 发明专利

TW201418014A 樹脂薄膜及其製造方法审中-公开
简体标题：树脂薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201418014A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102129485
申请日：2013-08-16
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：北岸一志 , KITAGISHI, HITOSHI , 國方智 , KUNIKATA, SATORU , 宮武稔 , MIYATAKE, MINORU
IPC分类号： B32B27/08 , B32B7/12 , C09J175/04 , C09K3/16
CPC分类号： G02B5/305 , B05D3/0473 , B05D3/12 , B05D7/04 , B29C55/026 , B29C55/12 , B29K2067/003 , B29K2081/00 , B29K2105/256 , B29K2995/0005 , B29L2011/0066 , C08J7/047 , C08J2375/04 , C09D5/00 , C09D5/24 , C09D165/00 , G02B1/16 , Y10T428/24355
摘要：本發明之樹脂薄膜係具有：基材薄膜、及設於基材薄膜一側且包括黏結劑樹脂和導電性材料的抗靜電層。上述黏結劑樹脂係聚胺酯系樹脂，抗靜電層表面的算術平均粗糙度Ra為10nm以上，且導電性材料為導電性聚合物。
简体摘要：本发明之树脂薄膜系具有：基材薄膜、及设于基材薄膜一侧且包括黏结剂树脂和导电性材料的抗静电层。上述黏结剂树脂系聚胺酯系树脂，抗静电层表面的算术平均粗糙度Ra为10nm以上，且导电性材料为导电性聚合物。

28. 发明专利

TWI415735B 基材之表面濕潤性質的改良技術有权
简体标题：基材之表面湿润性质的改良技术
公开(公告)号：TWI415735B
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：TW096139235
申请日：2007-10-19
申请人：新加坡科技研究局 , AGENCY FOR SCIENCE, TECHNOLOGY AND RESEARCH
发明人：劉弘宇 , LOW, HONG YEE , 張鳳翔 , ZHANG, FENGXIANG
IPC分类号： B29C59/02 , B05D3/00
CPC分类号： B29C59/022 , B05D3/12 , B05D5/00 , B05D5/08 , B05D7/04 , B29C59/02 , B29C2059/023 , Y10T428/24479

29. 发明专利

TW201343396A 積層薄膜及其製造方法审中-公开
简体标题：积层薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201343396A
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW102109142
申请日：2013-03-15
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：阿部悠 , ABE, YU , 尾形雅美 , OGATA, MASAMI , 高田育 , TAKADA, YASUSHI
IPC分类号： B32B27/36 , B32B27/30 , B32B27/18 , B29C55/04
CPC分类号： C09D133/10 , B05D3/02 , B05D7/04 , B05D7/26 , B05D2201/02 , B05D2502/00 , B05D2508/00 , B29D7/01 , B29K2033/00 , B29K2033/04 , B29K2033/08 , B29K2033/12 , B29K2067/00 , B29K2105/0005 , B29K2105/256 , B29K2995/0051 , B32B27/08 , B32B27/20 , B32B27/30 , B32B27/308 , B32B27/36 , B32B2038/0028 , B32B2250/02 , B32B2250/24 , B32B2264/10 , B32B2264/102 , B32B2333/08 , B32B2333/12 , B32B2367/00 , B32B2457/202 , B32B2457/206 , B32B2457/208 , C08F220/18 , C08K3/013 , C08K5/0025 , C08K5/3415 , C08K5/34922 , C08K5/353 , C08K2003/2237 , C08K2003/2241 , C08K2003/2244 , C09D133/02 , C09D133/04 , C09D133/062 , C09D133/066 , C09D133/08 , C09D133/12 , C09D133/14 , C09D161/28 , C09D167/00 , C09D167/02 , C09D167/03 , Y10T428/265 , Y10T428/269 , Y10T428/31797 , Y10T428/31935 , C08F2220/1891 , C08F2220/1875 , C08F220/20
摘要：本發明係一種積層薄膜，其係於聚酯薄膜之至少單面設置有樹脂層之積層薄膜，其中該樹脂層至少含有數量平均粒徑為3nm以上50nm以下之金屬氧化物粒子(A)、丙烯酸樹脂(B)、與來自唑啉(oxazoline)系化合物之成分(C1)及/或來自三聚氰胺系化合物之成分(C2)，該丙烯酸樹脂(B)為具有單體單元(b1)、單體單元(b2)、與單體單元(b3)之樹脂。本發明能以低成本提供積層薄膜，其係具有優異的透明性、積層高折射率硬塗層時之干涉斑抑制、與高折射率硬塗層之密合性、高溫高濕下之接著性(濕熱接著性)的積層薄膜。
简体摘要：本发明系一种积层薄膜，其系于聚酯薄膜之至少单面设置有树脂层之积层薄膜，其中该树脂层至少含有数量平均粒径为3nm以上50nm以下之金属氧化物粒子(A)、丙烯酸树脂(B)、与来自唑啉(oxazoline)系化合物之成分(C1)及/或来自三聚氰胺系化合物之成分(C2)，该丙烯酸树脂(B)为具有单体单元(b1)、单体单元(b2)、与单体单元(b3)之树脂。本发明能以低成本提供积层薄膜，其系具有优异的透明性、积层高折射率硬涂层时之干涉斑抑制、与高折射率硬涂层之密合性、高温高湿下之接着性(湿热接着性)的积层薄膜。

30. 发明专利

TW201221668A 成形體、其製造方法、電子裝置用元件及電子裝置审中-公开
简体标题：成形体、其制造方法、电子设备用组件及电子设备
公开(公告)号：TW201221668A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：TW100126543
申请日：2011-07-27
申请人：琳得科股份有限公司
发明人：岩屋涉 , 近藤健
IPC分类号： C23C , B32B
CPC分类号： C23C14/48 , B05D1/62 , B05D7/04 , B05D2252/02 , B29C59/14 , B29C2059/147 , C08J7/045 , C08J7/047 , C08J7/123 , C08J2367/02 , C08J2433/12 , C08J2483/16 , Y10T428/31667
摘要：本發明係一種成形體、該成形體之製造方法、由前述成形體而組成之電子裝置用元件、以及包括該元件之電子裝置,本發明係具有氣體障蔽層之成形體,該氣體障蔽層係至少具有由包含碳原子、氧原子和矽原子之材料而構成之表層部,該表層部之碳原子相對於碳原子、氧原子、氮原子和矽原子之整體存在量之存在比例係超過0%而70%以下,氧原子之存在比例係10%以上而70%以下,氮原子之存在比例係0%以上而35%以下,矽原子之存在比例係20%以上而55%以下。本發明之成形體係具有良好之氣體障蔽性、透明性及耐彎曲性。如果藉由本發明之成形體之製造方法的話,則能夠以一製程,呈安全且簡便地製造前述成形體。本發明之電子裝置用元件係可以適度地使用於顯示器、太陽能電池等之電子裝置。
简体摘要：本发明系一种成形体、该成形体之制造方法、由前述成形体而组成之电子设备用组件、以及包括该组件之电子设备,本发明系具有气体障蔽层之成形体,该气体障蔽层系至少具有由包含碳原子、氧原子和硅原子之材料而构成之表层部,该表层部之碳原子相对于碳原子、氧原子、氮原子和硅原子之整体存在量之存在比例系超过0%而70%以下,氧原子之存在比例系10%以上而70%以下,氮原子之存在比例系0%以上而35%以下,硅原子之存在比例系20%以上而55%以下。本发明之成形体系具有良好之气体障蔽性、透明性及耐弯曲性。如果借由本发明之成形体之制造方法的话,则能够以一制程,呈安全且简便地制造前述成形体。本发明之电子设备用组件系可以适度地使用于显示器、太阳能电池等之电子设备。

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