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    • 22. 发明专利
    • 流量調整器用自動壓力調整器
    • 流量调整器用自动压力调整器
    • TW201009528A
    • 2010-03-01
    • TW098114862
    • 2009-05-05
    • 富士金股份有限公司
    • 平田薰杉田勝幸西野功二土肥亮介池田信一
    • G05D
    • G05D7/0635Y10T137/7761
    • 本發明之流量調整器用自動壓力調整器,係在變更流量調整器之輸出流量、或變更所流通的氣體種類時,避免在其輸出側之流量發生超越量(overshoot)。其解決手段在於提供一種供給至流量調整器的氣體供給壓力之自動壓力調整器(20),前述自動壓力調整器(20)係由:壓電元件驅動型壓力調整閥(15)、設置於壓力調整閥(15)之輸出側的控制壓力檢測器(14)、以及控制器(16)所構成,該控制器(16)係輸入有控制壓力檢測器(14)之檢測值P2及控制壓力之設定值Pst,且藉由比例控制方式供給控制信號至壓力調整閥(15)之壓電元件驅動部以進行閥之開啟度調整,並且藉由使積分動作無效,而將控制器之前述比例控制方式當作在控制壓力上產生殘留偏差的控制。
    • 本发明之流量调整器用自动压力调整器,系在变更流量调整器之输出流量、或变更所流通的气体种类时,避免在其输出侧之流量发生超越量(overshoot)。其解决手段在于提供一种供给至流量调整器的气体供给压力之自动压力调整器(20),前述自动压力调整器(20)系由:压电组件驱动型压力调整阀(15)、设置于压力调整阀(15)之输出侧的控制压力检测器(14)、以及控制器(16)所构成,该控制器(16)系输入有控制压力检测器(14)之检测值P2及控制压力之设置值Pst,且借由比例控制方式供给控制信号至压力调整阀(15)之压电组件驱动部以进行阀之打开度调整,并且借由使积分动作无效,而将控制器之前述比例控制方式当作在控制压力上产生残留偏差的控制。
    • 26. 发明专利
    • 液面偵測電路、液面計、具備其之容器、及使用該容器的汽化器
    • 液面侦测电路、液面计、具备其之容器、及使用该容器的汽化器
    • TW201632841A
    • 2016-09-16
    • TW104140166
    • 2015-12-01
    • 富士金股份有限公司FUJIKIN INCORPORATED
    • 平田薰HIRATA, KAORU杉田勝幸SUGITA, KATSUYUKI日高敦志HIDAKA, ATSUSHI西野功二NISHINO, KOUJI池田信一IKEDA, NOBUKAZU
    • G01F23/22
    • G01F23/246G01F23/241G01F23/243
    • 關於本發明的液面計(30)係具備第1電阻測溫體(R11)、配置於第1電阻測溫體的附近的第1溫度測定體(R12)、及根據第1電阻測溫體及第1溫度測定體的溫度,偵測液面的位置的液面偵測部(39),更具備:檢測出第1電阻測溫體及第1溫度測定體的溫度的溫度檢測部(37)、以藉由溫度檢測部所檢測出之第1電阻測溫體的溫度與第1溫度測定體的溫度的差成為第1一定值之方式,決定施加於第1電阻測溫體的電流值的電流控制部(38)、及將決定之電流值的電流,施加於第1電阻測溫體的電源部(32),液面偵測部,係使用施加於第1電阻測溫體的電流值,判定第1電阻測溫體是存在於液體中,或存在於液體外。藉此,可不受到周圍溫度的影響而進行液面的檢測,以定溫度差進行溫度控制,故不會對電阻測溫體施加必要以上的電力,可謀求長壽命化。
    • 关于本发明的液面计(30)系具备第1电阻测温体(R11)、配置于第1电阻测温体的附近的第1温度测定体(R12)、及根据第1电阻测温体及第1温度测定体的温度,侦测液面的位置的液面侦测部(39),更具备:检测出第1电阻测温体及第1温度测定体的温度的温度检测部(37)、以借由温度检测部所检测出之第1电阻测温体的温度与第1温度测定体的温度的差成为第1一定值之方式,决定施加于第1电阻测温体的电流值的电流控制部(38)、及将决定之电流值的电流,施加于第1电阻测温体的电源部(32),液面侦测部,系使用施加于第1电阻测温体的电流值,判定第1电阻测温体是存在于液体中,或存在于液体外。借此,可不受到周围温度的影响而进行液面的检测,以定温度差进行温度控制,故不会对电阻测温体施加必要以上的电力,可谋求长寿命化。
    • 28. 发明专利
    • 流量計及具備該流量計的流量控制裝置
    • 流量计及具备该流量计的流量控制设备
    • TW201531668A
    • 2015-08-16
    • TW103137005
    • 2014-10-27
    • 富士金股份有限公司FUJIKIN INCORPORATED
    • 永瀬正明NAGASE, MASAAKI池田信一IKEDA, NOBUKAZU西野功二NISHINO, KOUJI土肥亮介DOHI, RYOUSUKE日高敦志HIDAKA, ATSUSHI杉田勝幸SUGITA, KATSUYUKI
    • G01F1/34G05D7/06
    • G05D7/0647F16K31/004F16K31/06G01F1/34G01F1/363G01F1/42G01F1/6847G01F15/002G01F15/005G01F15/04
    • 本發明提供一種:有效地利用壓力式流量控制部所具備的高耐壓力變動特性,藉由將衰減式流量監測部組合於壓力式流量控制部的上游側,執行趨近於即時(real time)的流量監測,並藉由可對應於流量區域來切換監測流量,而能擴大監測流量範圍與提升監測精確度和流量控制之精確度之具有流量範圍切換型流量監測器的壓力式流量控制裝置。 本發明,是由「設於上游側的衰減式流量監測部BDM」、和「設於其下游側的壓力式流量控制部FCS」、和「連結衰減式流量監測部BDM與壓力式流量控制部FCS,將衰減式流量監測部BDM的監測流量Q朝壓力式流量控制部FCS傳送的訊號傳送迴路CT」、及「設於壓力式流量控制部FCS,根據來自於前述衰減式流量監測部BDM的監測流量Q,調整壓力式流量控制部FCS之設定流量Qs的流量設定值調整機構QSR」所構成之具有衰減式流量監測器的壓力式流量控制裝置,前述衰減式流量監測部BDM的監測流量演算控 制部CPb形成:當大流量時,使前述出口側開閉切換閥PV2保持開放狀態,並將入口側開閉切換閥PV1的出口側與流量控制部FCS的控制閥CV之間的氣體通路內容積,作為衰減容積而演算大監測流量Q1,此外,當小流量時,使入口側開閉切換閥PV1保持開放狀態,並將出口側開閉切換閥PV2的出口側與流量控制部FCS的控制閥CV之間的氣體通路內容積而演算小監測流量Q2的構造。
    • 本发明提供一种:有效地利用压力式流量控制部所具备的高耐压力变动特性,借由将衰减式流量监测部组合于压力式流量控制部的上游侧,运行趋近于实时(real time)的流量监测,并借由可对应于流量区域来切换监测流量,而能扩大监测流量范围与提升监测精确度和流量控制之精确度之具有流量范围切换型流量监测器的压力式流量控制设备。 本发明,是由“设于上游侧的衰减式流量监测部BDM”、和“设于其下游侧的压力式流量控制部FCS”、和“链接衰减式流量监测部BDM与压力式流量控制部FCS,将衰减式流量监测部BDM的监测流量Q朝压力式流量控制部FCS发送的信号发送回路CT”、及“设于压力式流量控制部FCS,根据来自于前述衰减式流量监测部BDM的监测流量Q,调整压力式流量控制部FCS之设置流量Qs的流量设置值调整机构QSR”所构成之具有衰减式流量监测器的压力式流量控制设备,前述衰减式流量监测部BDM的监测流量演算控 制部CPb形成:当大流量时,使前述出口侧开闭切换阀PV2保持开放状态,并将入口侧开闭切换阀PV1的出口侧与流量控制部FCS的控制阀CV之间的气体通路内容积,作为衰减容积而演算大监测流量Q1,此外,当小流量时,使入口侧开闭切换阀PV1保持开放状态,并将出口侧开闭切换阀PV2的出口侧与流量控制部FCS的控制阀CV之间的气体通路内容积而演算小监测流量Q2的构造。
    • 30. 发明专利
    • 半導體製造裝置之氣體分流供應裝置
    • 半导体制造设备之气体分流供应设备
    • TW201405269A
    • 2014-02-01
    • TW102112366
    • 2013-04-08
    • 富士金股份有限公司FUJIKIN INCORPORATED
    • 西野功二NISHINO, KOUJI土肥亮介DOHI, RYOUSUKE平田薰HIRATA, KAORU杉田勝幸SUGITA, KATSUYUKI池田信一IKEDA, NOBUKAZU
    • G05D7/06
    • G05D7/0641G05D7/0664Y10T137/87772
    • 本發明的課題為實現半導體製造裝置之氣體分流供應裝置的大幅小型化,並且對同時進行並行之相同處理的複數處理室,可從一個氣體供應源將製程氣體以高精度流量控制的同時加以分流供應。其解決手段為該半導體製造裝置之氣體分流供應裝置,具備:連接在製程氣體入口(11)之壓力式流量控制部(1a)構成用的控制閥(3);連通於控制閥(3)下游側的氣體供應主管(8);以並列狀連接在氣體供應主管(8)下游側的複數分岐管路(9a、9n);間設在各分岐管路(9a、9n)的分岐管路開閉閥(10a、10n);設置在分岐管路開閉閥(10a、10n)下游側的節流孔(6a、6n);設置在上述控制閥(3)和節流孔(6a、6n)之間的製程氣體通路附近的溫度感測器(4);設置在上述控制閥(3)和節流孔(6a、6n)之間的製程氣體通路的壓力感測器(5);設置在上述節流孔(6a、6n)出口側的分流氣體出口(11a、11n);及被輸入有來自於上述壓力感測器(5)的壓力訊號及來自於溫度感測器(4)的溫度訊號,對流通在上述節流孔(6a、6n)的製程氣體之總流量(Q)進行運算的同時,對閥驅動部(3a)輸出使上述控制閥(3)朝運算出之流量值與流量設定值的差值之減少方向開閉動作的控制訊號(Pd)之壓力式流量運算控制部(7a)所成的運算控制部(7),構成為由壓力式流量控制部(1a)執行流量控制。
    • 本发明的课题为实现半导体制造设备之气体分流供应设备的大幅小型化,并且对同时进行并行之相同处理的复数处理室,可从一个气体供应源将制程气体以高精度流量控制的同时加以分流供应。其解决手段为该半导体制造设备之气体分流供应设备,具备:连接在制程气体入口(11)之压力式流量控制部(1a)构成用的控制阀(3);连通于控制阀(3)下游侧的气体供应主管(8);以并列状连接在气体供应主管(8)下游侧的复数分岐管路(9a、9n);间设在各分岐管路(9a、9n)的分岐管路开闭阀(10a、10n);设置在分岐管路开闭阀(10a、10n)下游侧的节流孔(6a、6n);设置在上述控制阀(3)和节流孔(6a、6n)之间的制程气体通路附近的温度传感器(4);设置在上述控制阀(3)和节流孔(6a、6n)之间的制程气体通路的压力传感器(5);设置在上述节流孔(6a、6n)出口侧的分流气体出口(11a、11n);及被输入有来自于上述压力传感器(5)的压力信号及来自于温度传感器(4)的温度信号,对流通在上述节流孔(6a、6n)的制程气体之总流量(Q)进行运算的同时,对阀驱动部(3a)输出使上述控制阀(3)朝运算出之流量值与流量设置值的差值之减少方向开闭动作的控制信号(Pd)之压力式流量运算控制部(7a)所成的运算控制部(7),构成为由压力式流量控制部(1a)运行流量控制。