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11. 发明专利

TWI686601B 用於鋼品缺陷辨識系統的特徵門檻建立方法及缺陷特徵有效性確定方法有权
简体标题：用于钢品缺陷辨识系统的特征门槛创建方法及缺陷特征有效性确定方法
公开(公告)号：TWI686601B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW108106109
申请日：2019-02-22
申请人：中國鋼鐵股份有限公司 , CHINA STEEL CORPORATION
发明人：張瀚哲 , CHANG, HAN CHE
IPC分类号： G01N21/892 , G01N21/93 , G01N21/95 , G01N33/20

12. 发明专利

TWI674422B 非接觸式光學量測方法與系統有权
简体标题：非接触式光学量测方法与系统
公开(公告)号：TWI674422B
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：TW107122947
申请日：2018-07-03
申请人：皓琪科技股份有限公司
发明人：邱詩彰 , 陳榮宏
IPC分类号： G01R31/308 , G01N21/93 , G01N21/956

13. 实用新型

TWM571484U 光學檢測設備及其光源尋邊機構有权
简体标题：光学检测设备及其光源寻边机构
公开(公告)号：TWM571484U
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW107202269
申请日：2018-02-13
申请人：特銓股份有限公司
发明人：陳明生
IPC分类号： G01N21/17 , G01N21/93

14. 发明专利

TWI636256B 具有影像容錯功能的檢測方法及其檢測系統有权
简体标题：具有影像容错功能的检测方法及其检测系统
公开(公告)号：TWI636256B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：TW106120368
申请日：2017-06-19
申请人：威剛科技股份有限公司 , ADATA TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：江在民 , CHIANG, TSAI MIN , 尹永興 , YIN, YUNG HSING , 劉庭宏 , LIU, TING HUNG , 田霖 , TIEN, LIN
IPC分类号： G01N33/52 , G01N21/93 , G01N21/25

15. 发明专利

TWI621850B 鋼板的表面缺陷檢查裝置及表面缺陷檢查方法有权
简体标题：钢板的表面缺陷检查设备及表面缺陷检查方法
公开(公告)号：TWI621850B
公开(公告)日：2018-04-21
申请号：TW105128630
申请日：2016-09-05
申请人：日商日新製鋼股份有限公司 , NISSHIN STEEL CO., LTD.
发明人：福井圭太 , FUKUI, KEITA , 志賀駿介 , SHIGA, SYUNSUKE
IPC分类号： G01N21/892 , G01N21/93 , G01N21/47 , G01N33/20
CPC分类号： G01N21/892

16. 发明专利

TWI605248B 監控用於檢測半導體晶圓表面上的缺陷的表面檢查系統的操作狀況的方法有权
简体标题：监控用于检测半导体晶圆表面上的缺陷的表面检查系统的操作状况的方法
公开(公告)号：TWI605248B
公开(公告)日：2017-11-11
申请号：TW104124500
申请日：2015-07-29
申请人：世創電子材料公司 , SILTRONIC AG
发明人：路柏法蘭克 , LAUBE, FRANK
IPC分类号： G01N21/95 , G01N21/93 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/8851 , G01N21/93 , G01N21/9501 , G01N2021/8854

17. 发明专利

TW201606292A 監控用於檢測半導體晶圓表面上的缺陷的表面檢查系統的操作狀況的方法审中-公开
简体标题：监控用于检测半导体晶圆表面上的缺陷的表面检查系统的操作状况的方法
公开(公告)号：TW201606292A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW104124500
申请日：2015-07-29
申请人：世創電子材料公司 , SILTRONIC AG
发明人：路柏法蘭克 , LAUBE, FRANK
IPC分类号： G01N21/95 , G01N21/93 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/8851 , G01N21/93 , G01N21/9501 , G01N2021/8854
摘要：一種監控用於檢測半導體晶圓表面上的缺陷的表面檢查系統的操作狀況的方法，包括：提供參考半導體晶圓，在所述參考半導體晶圓的檢查表面上具有特定數量和尺寸和密度的缺陷；經由利用所述表面檢查系統來實施參考半導體晶圓的參考檢查和參考半導體晶圓的至少一個控制檢查，來測量所述檢查表面上的缺陷的位置和尺寸；識別出因為其位置而被認為是所述參考檢查和控制檢查的共同缺陷的缺陷；對於每個共同缺陷，確定其基於所述參考檢查和控制檢查的尺寸比較所獲得的尺寸差值；以及基於所確定的尺寸差值來評估所述表面檢查系統的操作狀況。
简体摘要：一种监控用于检测半导体晶圆表面上的缺陷的表面检查系统的操作状况的方法，包括：提供参考半导体晶圆，在所述参考半导体晶圆的检查表面上具有特定数量和尺寸和密度的缺陷；经由利用所述表面检查系统来实施参考半导体晶圆的参考检查和参考半导体晶圆的至少一个控制检查，来测量所述检查表面上的缺陷的位置和尺寸；识别出因为其位置而被认为是所述参考检查和控制检查的共同缺陷的缺陷；对于每个共同缺陷，确定其基于所述参考检查和控制检查的尺寸比较所获得的尺寸差值；以及基于所确定的尺寸差值来评估所述表面检查系统的操作状况。

18. 发明专利

TW201315974A 校正白色光源的方法审中-公开
公开(公告)号：TW201315974A
公开(公告)日：2013-04-16
申请号：TW100135917
申请日：2011-10-04
申请人：潘煜標
发明人：潘煜標 , 周文隆
IPC分类号： G01J3/457 , G01J3/52 , G01N21/93
摘要：一種校正白色光源的方法，包括：用白色光源照射複數個白度樣本，可包括參考黑樣本、參考白樣本以及至少第一、第二、第三及第四白度樣本，係在標準白度的D65光源下具有已知白度；利用影像擷取裝置對該等白度樣本進行拍照以產生相對應影像的原始灰階值；第一、第二、第三及第四白度樣本的原始灰階值減去參考黑樣本的原始灰階值以產生相對應的雜訊校正灰階值，並乘上刻度因子再除以參考白樣本的灰階值以產生相對應的亮度校正灰階值；以及比較已知白度以及其相對應的亮度校正灰階值，用以校正白色光源並達到D65光源的光譜要求。
简体摘要：一种校正白色光源的方法，包括：用白色光源照射复数个白度样本，可包括参考黑样本、参考白样本以及至少第一、第二、第三及第四白度样本，系在标准白度的D65光源下具有已知白度；利用影像截取设备对该等白度样本进行拍照以产生相对应影像的原始灰阶值；第一、第二、第三及第四白度样本的原始灰阶值减去参考黑样本的原始灰阶值以产生相对应的噪声校正灰阶值，并乘上刻度因子再除以参考白样本的灰阶值以产生相对应的亮度校正灰阶值；以及比较已知白度以及其相对应的亮度校正灰阶值，用以校正白色光源并达到D65光源的光谱要求。

19. 发明专利

TWI700489B 即時廢棄物品質檢測裝置以及廢棄物回收裝置與方法有权
简体标题：实时废弃物品质检测设备以及废弃物回收设备与方法
公开(公告)号：TWI700489B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW107138168
申请日：2018-10-29
申请人：林修安 , LIN, HSIU-AN
发明人：林修安 , LIN, HSIU-AN
IPC分类号： G01N27/10 , C02F1/00 , C08J11/00 , C09K3/32 , G01N21/93 , G21F9/20 , B09B3/00 , G01C11/36 , C02F103/00

20. 实用新型

TWM596871U 智慧型光學檢測AI資料蒐集系統有权
简体标题：智能型光学检测AI数据搜集系统
公开(公告)号：TWM596871U
公开(公告)日：2020-06-11
申请号：TW108216076
申请日：2019-12-03
申请人：智泰科技股份有限公司 , 3DFAMILY TECHNOLOGY CO.,LTD.
发明人：廖昭昌 , LIAO, CHAO-CHANG , 魏源鍾 , WEI, YUAN-CHUNG , 許智欽 , HSU, CHIH-CHIN
IPC分类号： G01N21/93 , G06T1/40

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