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1. 发明专利

TW202007959A 溶液性質感測器审中-公开
简体标题：溶液性质传感器
公开(公告)号：TW202007959A
公开(公告)日：2020-02-16
申请号：TW107127668
申请日：2018-08-08
申请人：國立中山大學 , NATIONAL SUN YAT-SEN UNIVERSITY
发明人：林哲信 , LIN, CHE HSIN , 嚴瑋星 , YEN, WEI HSING , 高尉馨 , KAO, WEI SIN
IPC分类号： G01N27/07 , G01K7/16 , G01N27/10
摘要：一種溶液性質感測器，其包含：一基板、一溫度感測元件、一電導度感測元件、一酸鹼值感測元件及一參考電極。本發明係利用不同的感測元件進行各種溶液性質的感測，並且這些感測元件可與基板上的導電圖案進行電連接以及進行固定，從而便於工業上的大量生產或者降低生產難度。
简体摘要：一种溶液性质传感器，其包含：一基板、一温度传感组件、一电导度传感组件、一酸碱值传感组件及一参考电极。本发明系利用不同的传感组件进行各种溶液性质的传感，并且这些传感组件可与基板上的导电图案进行电连接以及进行固定，从而便于工业上的大量生产或者降低生产难度。

2. 发明专利

TWI595549B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI595549B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：TW105102836
申请日：2016-01-29
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO,. LTD.
发明人：中井仁司 , NAKAI, HITOSHI
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306 , G01N27/10
CPC分类号： G01N27/10 , H01L21/304

3. 发明专利

TWI676026B 拋棄式參考電極及其製法有权
简体标题：抛弃式参考电极及其制法
公开(公告)号：TWI676026B
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：TW107113627
申请日：2018-04-20
申请人：禪譜科技股份有限公司 , ZENSOR R&D CORPORATION
发明人：鍾協訓 , CHUN, HSIEH-HSUN , 謝秉羲 , HSIEH, PING-HSI
IPC分类号： G01N27/07 , G01N27/10

4. 发明专利

TWI697687B 測試非侵入性生理資訊探測儀器的測試設備及其方法有权
简体标题：测试非侵入性生理信息探测仪器的测试设备及其方法
公开(公告)号：TWI697687B
公开(公告)日：2020-07-01
申请号：TW107133649
申请日：2018-09-25
申请人：香港商倍靈科技(知識產權)有限公司 , BELUN TECHNOLOGY (IP) COMPANY LIMITED
发明人：郭嘉祥 , 施岳文 , 吳兆楠 , 陶筠威
IPC分类号： G01R33/54 , G01R33/62 , G01N27/72 , G01N27/10

5. 发明专利

TWI667472B 溶液性質感測器有权
简体标题：溶液性质传感器
公开(公告)号：TWI667472B
公开(公告)日：2019-08-01
申请号：TW107127668
申请日：2018-08-08
申请人：國立中山大學 , NATIONAL SUN YAT-SEN UNIVERSITY
发明人：林哲信 , LIN, CHE HSIN , 嚴瑋星 , YEN, WEI HSING , 高尉馨 , KAO, WEI SIN
IPC分类号： G01N27/07 , G01K7/16 , G01N27/10

6. 发明专利

TWI700489B 即時廢棄物品質檢測裝置以及廢棄物回收裝置與方法有权
简体标题：实时废弃物品质检测设备以及废弃物回收设备与方法
公开(公告)号：TWI700489B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW107138168
申请日：2018-10-29
申请人：林修安 , LIN, HSIU-AN
发明人：林修安 , LIN, HSIU-AN
IPC分类号： G01N27/10 , C02F1/00 , C08J11/00 , C09K3/32 , G01N21/93 , G21F9/20 , B09B3/00 , G01C11/36 , C02F103/00

7. 发明专利

TW201703127A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201703127A
公开(公告)日：2017-01-16
申请号：TW105102836
申请日：2016-01-29
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO,. LTD.
发明人：中井仁司 , NAKAI, HITOSHI
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306 , G01N27/10
CPC分类号： G01N27/10 , H01L21/304
摘要：本發明提供一種基板處理裝置，該基板處理裝置之確認部(67)係具備檢查管路(671)、導電率取得部(672)及判斷部(673)。檢查管路(671)係具有在內周面分別朝向長邊方向延伸並且交替地配置於圓周方向的複數個導電部(675)以及複數個絕緣部(676)。導電率取得部(672)係取得二個導電部(675)間的導電率。判斷部(673)係根據導電率取得部(672)取得之導電率以判斷檢查管路(671)內的處理液(71)是否存在、或檢查管路(671)內的處理液(71)之種類。確認部(67)係可以遍及於比較長的檢查管路(671)之全長而判斷處理液(71)是否存在或處理液(71)之種類。因而，可以提高處理液(71)是否存在或種類的確認精度。
简体摘要：本发明提供一种基板处理设备，该基板处理设备之确认部(67)系具备检查管路(671)、导电率取得部(672)及判断部(673)。检查管路(671)系具有在内周面分别朝向长边方向延伸并且交替地配置于圆周方向的复数个导电部(675)以及复数个绝缘部(676)。导电率取得部(672)系取得二个导电部(675)间的导电率。判断部(673)系根据导电率取得部(672)取得之导电率以判断检查管路(671)内的处理液(71)是否存在、或检查管路(671)内的处理液(71)之种类。确认部(67)系可以遍及于比较长的检查管路(671)之全长而判断处理液(71)是否存在或处理液(71)之种类。因而，可以提高处理液(71)是否存在或种类的确认精度。

8. 发明专利

TWI435384B 蝕刻液管理裝置有权
简体标题：蚀刻液管理设备
公开(公告)号：TWI435384B
公开(公告)日：2014-04-21
申请号：TW096132279
申请日：2007-08-30
申请人：平間理化研究所股份有限公司 , HIRAMA LABORATORIES CO., LTD.
发明人：中川俊元 , NAKAGAWA, TOSHIMOTO , 佐藤壽邦 , SATO, HISAKUNI
IPC分类号： H01L21/306 , C23F1/08 , G01N27/10 , G03F7/42 , G02F1/1343

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