专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

11. 发明专利

TW202021815A 擦除裝置以及擦除方法审中-公开
简体标题：擦除设备以及擦除方法
公开(公告)号：TW202021815A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108142462
申请日：2019-11-22
申请人：日商東和化成股份有限公司 , TOWA KASEI CO., LTD.
发明人：洞口勝則 , HORAGUCHI, KATSUNORI , 洞口勝也 , HORAGUCHI, KATSUYA
IPC分类号： B32B38/10 , B05C9/10
摘要：本發明將擦除部件連續地或以規定的時間間隔斷續地且穩定地向擦除對象物（25）移送。擦除裝置（10）具備放卷輥（11）、擦除頭（13）、驅動輥（15）以及卷取輥（17），在放卷輥、擦除頭、驅動輥、卷取輥之間懸架有擦除部件（23），放卷輥包括具有力矩調整單元的第一力矩馬達，驅動輥包括以第一力矩馬達的力矩以上的力把持擦除部件的夾持輥以及在驅動時以第一力矩馬達的力矩以上的力將擦除部件向卷取輥側移送的驅動馬達，卷取輥包括第二力矩馬達，該第二力矩馬達具有能夠卷取從驅動馬達被移送的擦除部件的力矩以上的力矩且具有力矩調整單元。
简体摘要：本发明将擦除部件连续地或以规定的时间间隔断续地且稳定地向擦除对象物（25）移送。擦除设备（10）具备放卷辊（11）、擦除头（13）、驱动辊（15）以及卷取辊（17），在放卷辊、擦除头、驱动辊、卷取辊之间悬架有擦除部件（23），放卷辊包括具有力矩调整单元的第一力矩马达，驱动辊包括以第一力矩马达的力矩以上的力把持擦除部件的夹持辊以及在驱动时以第一力矩马达的力矩以上的力将擦除部件向卷取辊侧移送的驱动马达，卷取辊包括第二力矩马达，该第二力矩马达具有能够卷取从驱动马达被移送的擦除部件的力矩以上的力矩且具有力矩调整单元。

12. 发明专利

TWI670467B 使用深度影像偵測的加工方法有权
简体标题：使用深度影像侦测的加工方法
公开(公告)号：TWI670467B
公开(公告)日：2019-09-01
申请号：TW107136201
申请日：2018-10-15
申请人：立普思股份有限公司 , LIPS CORPORATION
发明人：簡瑜萱 , CHIEN, YU HSUAN
IPC分类号： G01B11/22 , B05C9/10

13. 发明专利

TWI665023B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI665023B
公开(公告)日：2019-07-11
申请号：TW107106635
申请日：2018-02-27
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：太田喬 , OTA, TAKASHI , 林昌之 , HAYASHI, MASAYUKI , 奥田次郎 , OKUDA, JIRO , 中島章宏 , NAKASHIMA, AKIHIRO
IPC分类号： B05C5/02 , B05C9/10 , B05C9/14 , B05C11/10 , B05D1/26 , B05D3/00

14. 发明专利

TWI615206B 排氣系統有权
简体标题：排气系统
公开(公告)号：TWI615206B
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：TW103120367
申请日：2014-06-12
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：堀內展雄 , HORIUCHI, NOBUO
IPC分类号： B05C9/10 , B05C5/02

15. 发明专利

TWI601577B 膜形成裝置以及膜形成方法有权
简体标题：膜形成设备以及膜形成方法
公开(公告)号：TWI601577B
公开(公告)日：2017-10-11
申请号：TW103100989
申请日：2014-01-10
申请人：石井表記股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA ISHII HYOKI
发明人：小澤康博 , KOZAWA, YASUHIRO , 吉岡正博 , YOSHIOKA, MASAHIRO
IPC分类号： B05C9/10 , B05C11/10 , B05D1/32 , H01L21/31

16. 发明专利

TWI573628B 液體自動供給機構及具備此機構之塗佈裝置有权
简体标题：液体自动供给机构及具备此机构之涂布设备
公开(公告)号：TWI573628B
公开(公告)日：2017-03-11
申请号：TW100133333
申请日：2011-09-16
申请人：武藏工業股份有限公司 , MUSASHI ENGINEERING, INC.
发明人：生島和正 , IKUSHIMA, KAZUMASA
IPC分类号： B05B9/03 , B05C9/10
CPC分类号： B01D19/00

17. 发明专利

TW201507040A 成膜系統审中-公开
简体标题：成膜系统
公开(公告)号：TW201507040A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：TW103122662
申请日：2014-07-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：寺田尚司 , TERADA, TAKASHI , 原壮吾 , HARA, SHOGO
IPC分类号： H01L21/56 , B05C9/10
CPC分类号： H01L21/67103 , H01L21/67051 , H01L21/67092 , H01L21/6715 , H01L21/67167
摘要：本發明之課題在於往表面被形成複數電路之基板上之塗布液供給量可抑制在少量，且適切地進行往基板上的塗布膜的成膜處理。本發明之解決手段之成膜系統係具有研削晶圓(W)表面的塗布膜之研削裝置(50)、洗淨塗布膜被研削的晶圓(W)之洗淨裝置(51)、與搬送晶圓(W)之搬送裝置(55)。洗淨裝置(51)係具有洗淨晶圓(W)表面之表面洗淨單元(350)、洗淨晶圓(W)裏面之裏面洗淨單元(351)、與最終修整洗淨晶圓(W)表面之最終修整洗淨單元(352)。搬送裝置(55)係具有第1搬送臂(420)、第2搬送臂(421)、與第3搬送臂(422)。
简体摘要：本发明之课题在于往表面被形成复数电路之基板上之涂布液供给量可抑制在少量，且适切地进行往基板上的涂布膜的成膜处理。本发明之解决手段之成膜系统系具有研削晶圆(W)表面的涂布膜之研削设备(50)、洗净涂布膜被研削的晶圆(W)之洗净设备(51)、与搬送晶圆(W)之搬送设备(55)。洗净设备(51)系具有洗净晶圆(W)表面之表面洗净单元(350)、洗净晶圆(W)里面之里面洗净单元(351)、与最终修整洗净晶圆(W)表面之最终修整洗净单元(352)。搬送设备(55)系具有第1搬送臂(420)、第2搬送臂(421)、与第3搬送臂(422)。

18. 发明专利

TW201406468A 密封膠條製造機之出膠裝置审中-公开
简体标题：密封胶条制造机之出胶设备
公开(公告)号：TW201406468A
公开(公告)日：2014-02-16
申请号：TW101129345
申请日：2012-08-14
申请人：王錦燕 , WANG, CHIN YEN , 王志猛 , WANG, CHIH MENG , 卓金星 , CHUO, CHIN HSING
发明人：王錦燕 , WANG, CHIN YEN , 王志猛 , WANG, CHIH MENG , 卓金星 , CHUO, CHIN HSING
IPC分类号： B05C5/02 , B05C9/10
摘要：本發明提供一種密封膠條製造機之出膠裝置，包括一本體、一攪拌裝置、一出膠頭和一出膠控制器。該本體設有複數入料孔及一第一容室。該攪拌裝置設於該本體。該出膠頭設有一出膠口及一第二容室，該第二容室連通於該第一容室。該出膠控制器設於該出膠頭，該出膠控制器可於一關閉位置與一開啟位置之間位移。本發明之密封膠條製造機之出膠裝置透過出膠控制器選擇性地啟閉出膠口，達到精確地控制開始出膠以及停止出膠的時機，並且還可達到將不同膠體原料攪拌而成之密封膠條均勻地注入一工件中，提升出膠的效率以及注膠的良率。
简体摘要：本发明提供一种密封胶条制造机之出胶设备，包括一本体、一搅拌设备、一出胶头和一出胶控制器。该本体设有复数入料孔及一第一容室。该搅拌设备设于该本体。该出胶头设有一出胶口及一第二容室，该第二容室连通于该第一容室。该出胶控制器设于该出胶头，该出胶控制器可于一关闭位置与一打开位置之间位移。本发明之密封胶条制造机之出胶设备透过出胶控制器选择性地启闭出胶口，达到精确地控制开始出胶以及停止出胶的时机，并且还可达到将不同胶体原料搅拌而成之密封胶条均匀地注入一工件中，提升出胶的效率以及注胶的良率。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式