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11. 发明专利

TW201636296A 使用一虛設腔之裝置囊封审中-公开
简体标题：使用一虚设腔之设备囊封
公开(公告)号：TW201636296A
公开(公告)日：2016-10-16
申请号：TW104143636
申请日：2015-12-24
申请人：高通微機電系統科技公司 , QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES, INC.
发明人：洪瑜隆 , HUNG, YU LUNG , 王炫涵 , WANG, HSUAN HAN , 陳明發 , CHEN, MING FA
IPC分类号： B81B7/00 , G02B26/00 , G02B26/08
CPC分类号： G02F1/0107 , B32B7/14 , B32B17/00 , B32B37/0015 , B32B37/0076 , B32B37/1018 , B32B37/1292 , B32B37/18 , B32B38/10 , B32B2255/26 , B32B2307/40 , B32B2309/10 , B32B2309/12 , B32B2310/04 , B32B2363/00 , B32B2457/20 , B81B7/0051 , B81B2201/047 , G02B26/001 , G02B26/0841 , G02F1/21
摘要：本發明提供用於減小一顯示裝置中之基板翹曲的裝置、系統及方法。在一態樣中，該顯示裝置包括一裝置基板及一覆蓋基板，其中該裝置基板包括一或多個顯示元件，且該覆蓋基板包括部分延伸穿過該覆蓋基板之一裝置腔。該等顯示元件中之至少一者可由與該覆蓋基板及該裝置基板接觸且在該覆蓋基板與該裝置基板之間的一初級密封件密封，以界定一裝置區域。在該初級密封件與一次級密封件之間可界定該裝置區域外部的一虛設區域，其中該次級密封件亦與該覆蓋基板及該裝置基板接觸且在該覆蓋基板與該裝置基板之間。該顯示裝置可進一步包括在該虛設區域中部分延伸穿過該覆蓋基板的一虛設腔。
简体摘要：本发明提供用于减小一显示设备中之基板翘曲的设备、系统及方法。在一态样中，该显示设备包括一设备基板及一覆盖基板，其中该设备基板包括一或多个显示组件，且该覆盖基板包括部分延伸穿过该覆盖基板之一设备腔。该等显示组件中之至少一者可由与该覆盖基板及该设备基板接触且在该覆盖基板与该设备基板之间的一初级密封件密封，以界定一设备区域。在该初级密封件与一次级密封件之间可界定该设备区域外部的一虚设区域，其中该次级密封件亦与该覆盖基板及该设备基板接触且在该覆盖基板与该设备基板之间。该显示设备可进一步包括在该虚设区域中部分延伸穿过该覆盖基板的一虚设腔。

12. 发明专利

TW201140192A 光學體 OPTICAL DEVICE 审中-公开
简体标题：光学体 OPTICAL DEVICE
公开(公告)号：TW201140192A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：TW099134231
申请日：2010-10-07
申请人：國立大學法人豐橋技術科學大學
发明人：井上光輝 , 後藤太一 , 山口貴志
IPC分类号： G02F
CPC分类号： G02F1/03 , G02F1/0305 , G02F1/09 , G02F1/21 , G02F2001/213 , G02F2203/15 , G02F2203/50
摘要：本發明提供一種光學體,其可任意且迅速地控制入射光的光學特性。在第一反射層3與第二反射層5之間,使由PLZT等構成之折射率可變層8與由石榴石等構成之磁光材料層9同時存在。若使直線偏振光自第一反射層3側入射,則入射光會與磁光材料層9發生干涉作用而被變換為右圓偏振光與左圓偏振光。兩光之間雖然僅有少許相位差,但相位差在一對反射層3、5之間作多重反射時被放大,且與折射率可變層8的被控制之折射率對應而被控制。該相位差像這樣地被控制、放大後之左右圓偏振光,若再次進入磁光材料層9,發生干涉作用而還原為直線偏振光,則偏振面會對應該相位差而旋轉。
简体摘要：本发明提供一种光学体,其可任意且迅速地控制入射光的光学特性。在第一反射层3与第二反射层5之间,使由PLZT等构成之折射率可变层8与由石榴石等构成之磁光材料层9同时存在。若使直线偏振光自第一反射层3侧入射,则入射光会与磁光材料层9发生干涉作用而被变换为右圆偏振光与左圆偏振光。两光之间虽然仅有少许相位差,但相位差在一对反射层3、5之间作多重反射时被放大,且与折射率可变层8的被控制之折射率对应而被控制。该相位差像这样地被控制、放大后之左右圆偏振光,若再次进入磁光材料层9,发生干涉作用而还原为直线偏振光,则偏振面会对应该相位差而旋转。

13. 发明专利

TW200947017A 空間光調變器及其製造方法 SPATIAL LIGHT MODULATOR AND MANUFACTURING METHOD THEREOF 失效
简体标题：空间光调制器及其制造方法 SPATIAL LIGHT MODULATOR AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW200947017A
公开(公告)日：2009-11-16
申请号：TW098106746
申请日：2005-02-03
申请人： IDC公司
发明人：克拉倫斯裘伊 , 山普瑟爾傑夫瑞B , 康明斯威廉J , 唐明華
IPC分类号： G02F
CPC分类号： G02F1/21 , G02B26/001 , G02F1/1335 , G02F2001/13356
摘要：一種空間光調變器包含一整合光學補償結構，例如一配置於一基板與複數個可個別定址光調變元件之間之光學補償結構，或一位於與該基板相對之該等光調變元件側面上之光學補償結構。該等可個別定址光調變元件係建構以將透射通過或反射自該透明基板之光線調變。一種製造此空間光調變器之方法係關於將一光學補償結構製於一基板上，及將複數個可個別定址光調變元件製於該光學補償結構上。該光學補償結構可為一被動光學補償結構。該光學補償結構可包括一補充性前光源、一散光片、一黑色遮罩、一繞射光學元件、一濾色片、一抗反射層、一將光線散射之結構、一微透鏡陣列、及一全像膜其中一或多者。
简体摘要：一种空间光调制器包含一集成光学补偿结构，例如一配置于一基板与复数个可个别寻址光调制组件之间之光学补偿结构，或一位于与该基板相对之该等光调制组件侧面上之光学补偿结构。该等可个别寻址光调制组件系建构以将透射通过或反射自该透明基板之光线调制。一种制造此空间光调制器之方法系关于将一光学补偿结构制于一基板上，及将复数个可个别寻址光调制组件制于该光学补偿结构上。该光学补偿结构可为一被动光学补偿结构。该光学补偿结构可包括一补充性前光源、一散光片、一黑色遮罩、一绕射光学组件、一滤色片、一抗反射层、一将光线散射之结构、一微透镜数组、及一全像膜其中一或多者。

14. 发明专利

TW200710444A 雙程光調變器 DOUBLE PASS LIGHT MODULATOR 审中-公开
简体标题：双程光调制器 DOUBLE PASS LIGHT MODULATOR
公开(公告)号：TW200710444A
公开(公告)日：2007-03-16
申请号：TW095122978
申请日：2006-06-26
申请人：惠普研發公司 HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P.
发明人：雷納史考特 LERNER, SCOTT , 史泰納約翰R. STERNER, JOHN R. , 菲爾亞瑟R. PIEHL, ARTHUR R. , 古塔安拉格 GUPTA, ANURAG
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02F1/21 , G02F1/0128 , G02F1/133528 , G02F2201/17 , G02F2203/055 , G02F2203/07
摘要：一種雙程調變器的實施例包含一反射偏振件係能供具有一預定偏振狀態的光通過而反射所有其它的光,一1/4波板被設成可接受並透射來自該反射偏振件的光,該1/4波板會使穿透的光之相對相位相對於該板的光軸移轉45�,及一反射物會接收自來該1/4波板的光,並以一預定方式來調變至少一部份射至其上的光。
简体摘要：一种双程调制器的实施例包含一反射偏振件系能供具有一预定偏振状态的光通过而反射所有其它的光,一1/4波板被设成可接受并透射来自该反射偏振件的光,该1/4波板会使穿透的光之相对相位相对于该板的光轴移转45�,及一反射物会接收自来该1/4波板的光,并以一预定方式来调制至少一部份射至其上的光。

15. 发明专利

TW201726388A 光學裝置审中-公开
简体标题：光学设备
公开(公告)号：TW201726388A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105122886
申请日：2016-07-20
申请人：牛津大學科技創新有限公司 , OXFORD UNIVERSITY INNOVATION LIMITED
发明人：厚思艾尼皮爾曼 , HOSSEINI, PEIMAN , 巴哈斯卡倫哈瑞許 , BHASKARAN, HARISH
IPC分类号： B32B7/02 , G02F1/19 , G02F1/21 , G09F9/00 , G01J3/26 , E06B9/24
CPC分类号： G02F1/0063 , E06B9/24 , E06B2009/2417 , E06B2009/2464 , E06B2009/247 , G01J3/0229 , G02F1/0311 , G02F1/19 , G02F1/21 , G02F2001/213 , G02F2201/08 , G02F2203/055
摘要：一種透射光學裝置，該透射光學裝置包含：處於固態狀態之光吸收劑材料層；部分反射層；以及間隔物層，該間隔物層處於光吸收劑材料之該層與該部分反射層之間。
简体摘要：一种透射光学设备，该透射光学设备包含：处于固态状态之光吸收剂材料层；部分反射层；以及间隔物层，该间隔物层处于光吸收剂材料之该层与该部分反射层之间。

16. 发明专利

TW201640477A 基於照明以調整經顯示之原色之系統及方法审中-公开
简体标题：基于照明以调整经显示之原色之系统及方法
公开(公告)号：TW201640477A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：TW104143634
申请日：2015-12-24
申请人：高通微機電系統科技公司 , QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES, INC.
发明人：飛斯克湯瑪士傑瑞德 , FISKE, THOMAS GERALD , 齊滌非 , QI, DIFEI , 王申格 , WANG, SHEN-GE
IPC分类号： G09G3/34 , G09G5/06 , G02F1/21
CPC分类号： G09G3/3413 , G02F1/21 , G09G3/346 , G09G3/3466 , G09G5/06 , G09G2320/0242 , G09G2320/0666 , G09G2320/08 , G09G2340/06 , G09G2360/144 , G09G2360/145
摘要：本發明提供用於在不同照明條件下使用一致的色彩效能在包括具有多個原色之顯示元件之顯示器件上顯示影像的包括經編碼於電腦儲存媒體上之電腦程式的系統、方法及裝置。本文所描述之該等系統、方法及裝置可經組態以針對不同照明條件在不同原色集合之間進行選擇。
简体摘要：本发明提供用于在不同照明条件下使用一致的色彩性能在包括具有多个原色之显示组件之显示器件上显示影像的包括经编码于电脑存储媒体上之电脑进程的系统、方法及设备。本文所描述之该等系统、方法及设备可经组态以针对不同照明条件在不同原色集合之间进行选择。

17. 发明专利

TWI528050B 濾光器及分析機器有权
简体标题：滤光器及分析机器
公开(公告)号：TWI528050B
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW100108982
申请日：2011-03-16
申请人：精工愛普生股份有限公司 , SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：新東晉 , SHINTO, SUSUMU , 山崎成二 , YAMAZAKI, SEIJI
IPC分类号： G02B26/00 , G02B5/20
CPC分类号： G02B26/001 , G01J3/26 , G02B5/284 , G02F1/21 , G02F2001/213 , G03F7/70575

18. 发明专利

TWI338168B 空間光調變器 SPATIAL LIGHT MODULATOR 有权
简体标题：空间光调制器 SPATIAL LIGHT MODULATOR
公开(公告)号：TWI338168B
公开(公告)日：2011-03-01
申请号：TW094103300
申请日：2005-02-03
申请人：高通微機電系統科技公司
发明人：克拉倫斯裘伊 , 傑夫瑞B 山普瑟爾 , 威廉J 康明斯 , 唐明華
IPC分类号： G02F
CPC分类号： G02F1/21 , G02B26/001 , G02F1/1335 , G02F2001/13356
摘要：一種空間光調變器包含一整合光學補償結構，例如一配置於一基板與複數個可個別定址光調變元件之間之光學補償結構，或一位於與該基板相對之該等光調變元件側面上之光學補償結構。該等可個別定址光調變元件係建構以將透射通過或反射自該透明基板之光線調變。一種製造此空間光調變器之方法係關於將一光學補償結構製於一基板上，及將複數個可個別定址光調變元件製於該光學補償結構上。該光學補償結構可為一被動光學補償結構。該光學補償結構可包括一補充性前光源、一散光片、一黑色遮罩、一繞射光學元件、一濾色片、一抗反射層、一將光線散射之結構、一微透鏡陣列、及一全像膜其中一或多者。
简体摘要：一种空间光调制器包含一集成光学补偿结构，例如一配置于一基板与复数个可个别寻址光调制组件之间之光学补偿结构，或一位于与该基板相对之该等光调制组件侧面上之光学补偿结构。该等可个别寻址光调制组件系建构以将透射通过或反射自该透明基板之光线调制。一种制造此空间光调制器之方法系关于将一光学补偿结构制于一基板上，及将复数个可个别寻址光调制组件制于该光学补偿结构上。该光学补偿结构可为一被动光学补偿结构。该光学补偿结构可包括一补充性前光源、一散光片、一黑色遮罩、一绕射光学组件、一滤色片、一抗反射层、一将光线散射之结构、一微透镜数组、及一全像膜其中一或多者。

19. 发明专利

TW571128B 動態光學濾波器失效
简体标题：动态光学滤波器
公开(公告)号：TW571128B
公开(公告)日：2004-01-11
申请号：TW091118717
申请日：2002-08-13
申请人：康寧公司 CORNING INCORPORATED
发明人：陳塊水 QIUSHUI CHEN , 江華 HUA JIANG , 保羅梅耳曼 PAUL MELMAN , 張迪 DEAN TSANG , 王費琳 FEILING WANG , 趙錦 JING ZHAO , 周穎引 YINGYIN ZOU
IPC分类号： G02B , G02F
CPC分类号： G02F1/21 , G02F2001/212 , G02F2202/40 , G02F2203/055 , G02F2203/48
摘要：本發明揭示出對光學輸入濾波之方法及裝置。在實施例中光學輸入沿著分離路徑分裂為偏極分量。偏極分量再供應至第一電-光裝置，該裝置包含一組電極，電壓施加該電極以調整裝置波長透射特性。位於電極間之第一電-光裝置區段具有雙折射性，該雙折射性依據施加於電極兩端之電壓加以調整。光學輸入經調整分量再加以合併以產生光學輸出。因而，光學輸出能夠依據施加於第一電-光電極兩端之電壓加以衰減。
简体摘要：本发明揭示出对光学输入滤波之方法及设备。在实施例中光学输入沿着分离路径分裂为偏极分量。偏极分量再供应至第一电-光设备，该设备包含一组电极，电压施加该电极以调整设备波长透射特性。位于电极间之第一电-光设备区段具有双折射性，该双折射性依据施加于电极两端之电压加以调整。光学输入经调整分量再加以合并以产生光学输出。因而，光学输出能够依据施加于第一电-光电极两端之电压加以衰减。

20. 发明专利

TW524996B 光學濾波組件及干涉濾波器濾波特性穩定之方法失效
简体标题：光学滤波组件及干涉滤波器滤波特性稳定之方法
公开(公告)号：TW524996B
公开(公告)日：2003-03-21
申请号：TW089119173
申请日：2000-09-17
申请人：康寧公司
发明人：威廉藍代抱頓 , 庫特里查法西司 , 史考特密雪赫曼 , 米其優地司基 , 比德及累位革來
IPC分类号： G02B , G02F
CPC分类号： G02B5/285 , G02B7/006 , G02B7/008 , G02F1/0128 , G02F1/21 , Y10S359/90
摘要：一種溫度補償之光學濾波組件，其包含一組多層折射率與溫度相關之薄膜沉積於玻璃基質上以形成傳統干涉濾波器於基質上面。玻璃基質黏接性地連結至金屬支座使得沉積薄膜之干涉濾波器位於玻璃基質與沿著支座按裝表面分佈黏接劑層之間。因而，第一熱不相匹配應力藉由玻璃基質施加於干涉濾波器內層上及第二不相匹配應力藉由支座施加於干涉濾波器外層上，其中第一及第二不相匹配應力決定於濾波器組件之溫度。玻璃基質，黏接劑，以及支座優先地由一些材料所構成，其機械特性將使得第一及第二不相匹配應力補償薄膜與溫度相關之折射率影響以保持濾波器組件隨著溫度變化之頻譜特性為均勻地。在一項實施例中，在形成過程中額外地自由度藉由電/磁致伸縮地對薄膜堆疊施加預力。在另外一項實施例中，使用主動應力管理系統。
简体摘要：一种温度补偿之光学滤波组件，其包含一组多层折射率与温度相关之薄膜沉积于玻璃基质上以形成传统干涉滤波器于基质上面。玻璃基质黏接性地链接至金属支座使得沉积薄膜之干涉滤波器位于玻璃基质与沿着支座按装表面分布黏接剂层之间。因而，第一热不相匹配应力借由玻璃基质施加于干涉滤波器内层上及第二不相匹配应力借由支座施加于干涉滤波器外层上，其中第一及第二不相匹配应力决定于滤波器组件之温度。玻璃基质，黏接剂，以及支座优先地由一些材料所构成，其机械特性将使得第一及第二不相匹配应力补偿薄膜与温度相关之折射率影响以保持滤波器组件随着温度变化之频谱特性为均匀地。在一项实施例中，在形成过程中额外地自由度借由电/磁致伸缩地对薄膜堆栈施加预力。在另外一项实施例中，使用主动应力管理系统。

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