专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201640178A 在樞紐中沒有金屬層之干涉式調變器鏡面設計审中-公开
简体标题：在枢纽中没有金属层之干涉式调制器镜面设计
公开(公告)号：TW201640178A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：TW105108328
申请日：2016-03-17
申请人：高通微機電系統科技公司 , QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES, INC.
发明人：張泰里斯洋 , CHANG, TALLIS YOUNG , 潘瑤林 , PAN, YAOLING , 文兵 , WEN, BING , 陳傑廉 , CHAN, EDWARD KEAT LEEM
IPC分类号： G02B26/00
CPC分类号： G02F1/21 , G02B26/001
摘要：本文所述之各種實施涉及干涉式調變器(IMOD)，其可為單鏡面IMOD(SMI)。此類IMOD可包括一吸收器堆疊及一鏡面堆疊。該吸收器堆疊及該鏡面堆疊可定義在其間的一間隙且可能能夠相對於彼此定位於複數個位置中以形成複數個間隙高度。一樞紐區域可將該鏡面堆疊與一錨定器區域實體連接。一些此類IMOD具有無任何金屬層的樞紐區域。然而，該樞紐區域可能夠與該鏡面堆疊之至少一個金屬層形成一電連接。舉例而言，此類IMOD可具有一樞紐區域，該樞紐區域包括一非金屬導體。
简体摘要：本文所述之各种实施涉及干涉式调制器(IMOD)，其可为单镜面IMOD(SMI)。此类IMOD可包括一吸收器堆栈及一镜面堆栈。该吸收器堆栈及该镜面堆栈可定义在其间的一间隙且可能能够相对于彼此定位于复数个位置中以形成复数个间隙高度。一枢纽区域可将该镜面堆栈与一锚定器区域实体连接。一些此类IMOD具有无任何金属层的枢纽区域。然而，该枢纽区域可能够与该镜面堆栈之至少一个金属层形成一电连接。举例而言，此类IMOD可具有一枢纽区域，该枢纽区域包括一非金属导体。

2. 发明专利

TWI412814B 空間光調變器及其製造方法失效
简体标题：空间光调制器及其制造方法
公开(公告)号：TWI412814B
公开(公告)日：2013-10-21
申请号：TW098106746
申请日：2005-02-03
申请人：高通微機電系統科技公司 , QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES, INC.
发明人：克拉倫斯裘伊 , CLARENCE, CHUI , 山普瑟爾傑夫瑞B , SAMPSELL, JEFFREY B. , 康明斯威廉J , CUMMINGS, WILLIAM J. , 唐明華 , TUNG, MING-HAU
IPC分类号： G02F1/00 , G02F1/21
CPC分类号： G02F1/21 , G02B26/001 , G02F1/1335 , G02F2001/13356

3. 发明专利

TW200643506A 光調變裝置及光調變系統审中-公开
简体标题：光调制设备及光调制系统
公开(公告)号：TW200643506A
公开(公告)日：2006-12-16
申请号：TW095112900
申请日：2006-04-11
申请人：羅姆股份有限公司 ROHM CO., LTD.
发明人：藤森敬和 FUJIMORI, YOSHIKAZU
IPC分类号： G02F
CPC分类号： G02F1/21 , G02F1/0311 , G02F1/0316 , G02F2001/213 , G02F2201/124 , G02F2201/305
摘要：本發明係提供一種改善光之利用效率的光調變裝置。本發明之光調變裝置10包含發光部22、法布裏–伯羅型共振器16、以及施加控制電壓於共振器16上之控制部12。共振器16包含折射率對應施加之電場而產生變化的光調變膜34、以及施加電場於光調變膜34上之梳形電極35、36。自發光部22發出之光，係與施加於光調變膜34之電場方向實質上垂直，且自光入射面之法線方向傾斜地入射至光入射面上。
简体摘要：本发明系提供一种改善光之利用效率的光调制设备。本发明之光调制设备10包含发光部22、法布里–伯罗型共振器16、以及施加控制电压于共振器16上之控制部12。共振器16包含折射率对应施加之电场而产生变化的光调制膜34、以及施加电场于光调制膜34上之梳形电极35、36。自发光部22发出之光，系与施加于光调制膜34之电场方向实质上垂直，且自光入射面之法线方向倾斜地入射至光入射面上。

4. 发明专利

TW200535487A 具有整合光學補償結構之空間光調變器 SPATIAL LIGHT MODULATOR WITH INTEGRATED OPTICAL COMPENSATION STRUCTURE 审中-公开
简体标题：具有集成光学补偿结构之空间光调制器 SPATIAL LIGHT MODULATOR WITH INTEGRATED OPTICAL COMPENSATION STRUCTURE
公开(公告)号：TW200535487A
公开(公告)日：2005-11-01
申请号：TW094103300
申请日：2005-02-03
申请人： IDC公司 IDC, LLC
发明人：克拉倫斯裘伊 CHUI, CLARENCE , 傑夫瑞B 山普瑟爾 SAMPSELL, JEFFREY B. , 威廉J 康明斯 CUMMINGS, WILLIAM J. , 唐明華 TUNG, MING-HAU
IPC分类号： G02F
CPC分类号： G02F1/21 , G02B26/001 , G02F1/1335 , G02F2001/13356
摘要：一種空間光調變器包含一整合光學補償結構，例如一配置於一基板與複數個可個別定址光調變元件之間之光學補償結構，或一位於與該基板相對之該等光調變元件側面上之光學補償結構。該等可個別定址光調變元件係建構以將透射通過或反射自該透明基板之光線調變。一種製造此空間光調變器之方法係關於將一光學補償結構製於一基板上，及將複數個可個別定址光調變元件製於該光學補償結構上。該光學補償結構可為一被動光學補償結構。該光學補償結構可包括一補充性前光源、一散光片、一黑色遮罩、一繞射光學元件、一濾色片、一抗反射層、一將光線散射之結構、一微透鏡陣列、及一全像膜其中一或多者。
简体摘要：一种空间光调制器包含一集成光学补偿结构，例如一配置于一基板与复数个可个别寻址光调制组件之间之光学补偿结构，或一位于与该基板相对之该等光调制组件侧面上之光学补偿结构。该等可个别寻址光调制组件系建构以将透射通过或反射自该透明基板之光线调制。一种制造此空间光调制器之方法系关于将一光学补偿结构制于一基板上，及将复数个可个别寻址光调制组件制于该光学补偿结构上。该光学补偿结构可为一被动光学补偿结构。该光学补偿结构可包括一补充性前光源、一散光片、一黑色遮罩、一绕射光学组件、一滤色片、一抗反射层、一将光线散射之结构、一微透镜数组、及一全像膜其中一或多者。

5. 发明专利

TWI569893B 光學效應層、包括光學效應層之安全文件、產生光學效應層之方法、以及光學效應層之用途有权
简体标题：光学效应层、包括光学效应层之安全文档、产生光学效应层之方法、以及光学效应层之用途
公开(公告)号：TWI569893B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW102116048
申请日：2013-05-06
申请人：西克帕控股有限公司 , SICPA HOLDING SA
发明人：迪加特皮爾 , DEGOTT, PIERRE , 史密特馬修 , SCHMID, MATHIEU , 德斯普蘭得克洛德亞蘭 , DESPLAND, CLAUDE-ALAIN , 埃莫若辛革塞德里克 , AMERASINGHE, CEDRIC
IPC分类号： B05D3/14 , B05D5/06 , B41M3/00 , B42D15/00
CPC分类号： G02F1/09 , B05D3/20 , B05D5/06 , B05D5/065 , B41M3/14 , B42D25/00 , B42D25/20 , B42D25/24 , B42D25/29 , B42D25/30 , B42D25/369 , B42D25/378 , B42D25/40 , B42D2033/16 , B42D2033/18 , B42D2033/20 , B42D2035/20 , C09D11/037 , G02B5/0257 , G02B5/08 , G02F1/0036 , G02F1/21 , G02F2001/094 , G02F2001/213

6. 发明专利

TW201703878A 產生光學效應層的裝置及方法审中-公开
简体标题：产生光学效应层的设备及方法
公开(公告)号：TW201703878A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105132689
申请日：2013-05-06
申请人：西克帕控股有限公司 , SICPA HOLDING SA
发明人：迪加特皮爾 , DEGOTT,PIERRE , 史密特馬修 , SCHMID,MATHIEU , 德斯普蘭得克洛德亞蘭 , DESPLAND,CLAUDE-ALAIN , 埃莫若辛革塞德里克 , AMERASINGHE,CEDRIC
IPC分类号： B05D3/00 , B05D5/06 , B42D25/00
CPC分类号： G02F1/09 , B05D3/20 , B05D5/06 , B05D5/065 , B41M3/14 , B42D25/00 , B42D25/20 , B42D25/24 , B42D25/29 , B42D25/30 , B42D25/369 , B42D25/378 , B42D25/40 , B42D2033/16 , B42D2033/18 , B42D2033/20 , B42D2035/20 , C09D11/037 , G02B5/0257 , G02B5/08 , G02F1/0036 , G02F1/21 , G02F2001/094 , G02F2001/213
摘要：本發明涉及圖形元件領域、並且是針對一光學效應層(OEL)、用於產生它的一種裝置和一種方法。本發明解決了提供一光學效應的問題，該光學效應本身易於檢測並且在視角相對於該OEL變化時在一定延伸的長度上展現出多個圖像特徵的一視角依賴性表觀運動。此目的藉由提供一種OEL來實現，該OEL包含至少部分透明的一黏合劑材料和分散於該層內的多個顆粒。每個顆粒具有各向異性反射率並且可以為磁性或可磁化的。該等顆粒的定向形成了在該OEL之延伸表面內的一定長度上延伸的一定向圖案，這樣使得在所述OEL的大致上垂直於所述延伸表面的並且沿著所述第一方向x的一第一截面中，在(i)沿著與所述第一截面相交的那些非球形顆粒的對應截面形狀內所觀察到的最長尺寸的一條直線與(ii)所述第一方向x之間的角局部平均值根據一位置(P)沿著所述第一方向的一函數(θ)而變化，該函數是所述位置的一單調遞增或遞減第一函數(θ1 )與所述位置的一交變第二函數(θ2 )之和。還揭露了用於產生該OEL的多種裝置的不同態樣和一種方法。
简体摘要：本发明涉及图形组件领域、并且是针对一光学效应层(OEL)、用于产生它的一种设备和一种方法。本发明解决了提供一光学效应的问题，该光学效应本身易于检测并且在视角相对于该OEL变化时在一定延伸的长度上展现出多个图像特征的一视角依赖性表观运动。此目的借由提供一种OEL来实现，该OEL包含至少部分透明的一黏合剂材料和分散于该层内的多个颗粒。每个颗粒具有各向异性反射率并且可以为磁性或可磁化的。该等颗粒的定向形成了在该OEL之延伸表面内的一定长度上延伸的一定向图案，这样使得在所述OEL的大致上垂直于所述延伸表面的并且沿着所述第一方向x的一第一截面中，在(i)沿着与所述第一截面相交的那些非球形颗粒的对应截面形状内所观察到的最长尺寸的一条直线与(ii)所述第一方向x之间的角局部平均值根据一位置(P)沿着所述第一方向的一函数(θ)而变化，该函数是所述位置的一单调递增或递减第一函数(θ1 )与所述位置的一交变第二函数(θ2 )之和。还揭露了用于产生该OEL的多种设备的不同态样和一种方法。

7. 发明专利

TW201400197A 光學效應層审中-公开
简体标题：光学效应层
公开(公告)号：TW201400197A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102116048
申请日：2013-05-06
申请人：西克帕控股有限公司 , SICPA HOLDING SA
发明人：迪加特皮爾 , DEGOTT, PIERRE , 史密特馬修 , SCHMID, MATHIEU , 德斯普蘭得克洛德亞蘭 , DESPLAND, CLAUDE-ALAIN , 埃莫若辛革塞德里克 , AMERASINGHE, CEDRIC
IPC分类号： B05D3/14 , B05D5/06 , B41M3/00 , B42D15/00
CPC分类号： G02F1/09 , B05D3/20 , B05D5/06 , B05D5/065 , B41M3/14 , B42D25/00 , B42D25/20 , B42D25/24 , B42D25/29 , B42D25/30 , B42D25/369 , B42D25/378 , B42D25/40 , B42D2033/16 , B42D2033/18 , B42D2033/20 , B42D2035/20 , C09D11/037 , G02B5/0257 , G02B5/08 , G02F1/0036 , G02F1/21 , G02F2001/094 , G02F2001/213
摘要：本發明涉及圖形元件領域、並且是針對一光學效應層(OEL)、用於產生它的一種裝置和一種方法。本發明解決了提供一光學效應的問題，該光學效應本身易於檢測並且在視角相對於該OEL變化時在一定延伸的長度上展現出多個圖像特徵的一視角依賴性表觀運動。此目的藉由提供一種OEL來實現，該OEL包含至少部分透明的一黏合劑材料和分散於該層內的多個顆粒。每個顆粒具有各向異性反射率並且可以為磁性或可磁化的。該等顆粒的定向形成了在該OEL之延伸表面內的一定長度上延伸的一定向圖案，這樣使得在所述OEL的大致上垂直於所述延伸表面的並且沿著所述第一方向x的一第一截面中，在(i)沿著與所述第一截面相交的那些非球形顆粒的對應截面形狀內所觀察到的最長尺寸的一條直線與(ii)所述第一方向x之間的角局部平均值根據一位置(P)沿著所述第一方向的一函數(θ)而變化，該函數是所述位置的一單調遞增或遞減第一函數(θ1)與所述位置的一交變第二函數(θ2)之和。還揭露了用於產生該OEL的多種裝置的不同態樣和一種方法。
简体摘要：本发明涉及图形组件领域、并且是针对一光学效应层(OEL)、用于产生它的一种设备和一种方法。本发明解决了提供一光学效应的问题，该光学效应本身易于检测并且在视角相对于该OEL变化时在一定延伸的长度上展现出多个图像特征的一视角依赖性表观运动。此目的借由提供一种OEL来实现，该OEL包含至少部分透明的一黏合剂材料和分散于该层内的多个颗粒。每个颗粒具有各向异性反射率并且可以为磁性或可磁化的。该等颗粒的定向形成了在该OEL之延伸表面内的一定长度上延伸的一定向图案，这样使得在所述OEL的大致上垂直于所述延伸表面的并且沿着所述第一方向x的一第一截面中，在(i)沿着与所述第一截面相交的那些非球形颗粒的对应截面形状内所观察到的最长尺寸的一条直线与(ii)所述第一方向x之间的角局部平均值根据一位置(P)沿着所述第一方向的一函数(θ)而变化，该函数是所述位置的一单调递增或递减第一函数(θ1)与所述位置的一交变第二函数(θ2)之和。还揭露了用于产生该OEL的多种设备的不同态样和一种方法。

8. 发明专利

TW200530623A 光干涉式反射單元以及其修理方法 INTERFERENCE REFLECTIVE ELEMENT AND REPAIRING METHOD THEREOF 失效
简体标题：光干涉式反射单元以及其修理方法 INTERFERENCE REFLECTIVE ELEMENT AND REPAIRING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW200530623A
公开(公告)日：2005-09-16
申请号：TW093106396
申请日：2004-03-10
申请人：元太科技工業股份有限公司 PRIME VIEW INTERNATIONAL CO., LTD.
发明人：洪柏鍾 HUNG, POCHUNG , 蔡熊光 TSAI, HSIUNG KUANG , 林文堅 LIN, WEN JIAN
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B26/001 , G02F1/21 , G09G3/3466 , G09G2330/08
摘要：本發明之光干涉式反射單元具有一光入射電極以及一光反射電極，此兩電極之一或兩者均包含一顯示部分以及一導線部分，且此顯示部分與導線部分則利用一連接部分相互電性連接。上述之複數個光干涉式反射單元之電極之間，係利用其導線部分相互連結成一電極線結構，以供其所形成之光干涉式反射結構操作於被動陣列驅動模式時使用。
简体摘要：本发明之光干涉式反射单元具有一光入射电极以及一光反射电极，此两电极之一或两者均包含一显示部分以及一导线部分，且此显示部分与导线部分则利用一连接部分相互电性连接。上述之复数个光干涉式反射单元之电极之间，系利用其导线部分相互链接成一电极线结构，以供其所形成之光干涉式反射结构操作于被动数组驱动模式时使用。

9. 发明专利

TW482926B 顯示裝置及其製造方法失效
简体标题：显示设备及其制造方法
公开(公告)号：TW482926B
公开(公告)日：2002-04-11
申请号：TW086112913
申请日：1997-09-23
申请人：精工愛普生股份有限公司
发明人：久保田兼光 , 小山智子 , 木村睦
IPC分类号： G02F
CPC分类号： G02F1/13471 , G02F1/21 , G02F2203/02 , G02F2203/05
摘要：本發明係挾持於一對基板間交互堆積複數層薄膜和液晶層的複合多層膜，於前述複合多層膜施加電壓，控制該複合多層膜的光反射率。又，具備控制交互堆積複數層薄膜和液晶層的複合多層膜之光反射率的顯示裝置中，對使用於前述液晶層之液晶所定波長(λn)之光的長軸方向折射率nLC1(λn)及短軸方向折射率nLC2(λn)，和對前述薄膜之前述所定之波長(λn)之光的前述薄膜面內的相互者正交的X軸方向和y軸方向的各折射率 nF1(λn)及nF2(λn)，於前述複合多層膜之前述薄膜和液晶層中的至少鄰接之一組薄膜和液晶層間，滿足下述(1)及(2)之條件者，(1)nLC1(λn)≧(nF1(λn)或nLC1(λn)CCnF1(λn)(2)nLC2(λn)CCnF2(λn)中
nLC1(λn)>nLC2(λn)、nF1(λn)>nF2(λn)
简体摘要：本发明系挟持于一对基板间交互堆积复数层薄膜和液晶层的复合多层膜，于前述复合多层膜施加电压，控制该复合多层膜的光反射率。又，具备控制交互堆积复数层薄膜和液晶层的复合多层膜之光反射率的显示设备中，对使用于前述液晶层之液晶所定波长(λn)之光的长轴方向折射率nLC1(λn)及短轴方向折射率nLC2(λn)，和对前述薄膜之前述所定之波长(λn)之光的前述薄膜面内的相互者正交的X轴方向和y轴方向的各折射率 nF1(λn)及nF2(λn)，于前述复合多层膜之前述薄膜和液晶层中的至少邻接之一组薄膜和液晶层间，满足下述(1)及(2)之条件者，(1)nLC1(λn)≧(nF1(λn)或nLC1(λn)CCnF1(λn)(2)nLC2(λn)CCnF2(λn)中 nLC1(λn)>nLC2(λn)、nF1(λn)>nF2(λn)

10. 发明专利

TW201719261A 使用石墨烯的可調諧式光調變审中-公开
简体标题：使用石墨烯的可调谐式光调制
公开(公告)号：TW201719261A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105106768
申请日：2016-03-04
申请人：康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：布魯內尼瓦來里奧 , PRUNERI, VALERIO , 余任文 , YU, RENWEN , 迪阿巴喬法蘭西斯科賈維爾嘉夏
IPC分类号： G02F1/21 , H01S3/106
CPC分类号： H01S3/1062 , G02F1/21 , G02F2001/213 , G02F2202/36 , G02F2203/15 , H01S3/106 , H01S3/1118
摘要：本文描述的是基於二維材料的光學裝置及用於製造這種裝置的方法。特別是，本文描述的製品可用於經由石墨烯的單或多層控制和調變光。用於改善從形成基板轉移石墨烯到目標基板的方法。改良的製品在vis-NIR的光透射中提供極高的調變深度、具有小的插入損耗，從而顯示出石墨烯用於這種技術上重要的光頻率範圍內的快速電-光元件的潛力。
简体摘要：本文描述的是基于二维材料的光学设备及用于制造这种设备的方法。特别是，本文描述的制品可用于经由石墨烯的单或多层控制和调制光。用于改善从形成基板转移石墨烯到目标基板的方法。改良的制品在vis-NIR的光透射中提供极高的调制深度、具有小的插入损耗，从而显示出石墨烯用于这种技术上重要的光频率范围内的快速电-光组件的潜力。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式