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11. 发明专利

TWI540144B 電解質溶液及其製造方法、電解質膜、電極觸媒層、膜電極接合體以及燃料電池有权
简体标题：电解质溶液及其制造方法、电解质膜、电极触媒层、膜电极接合体以及燃料电池
公开(公告)号：TWI540144B
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW103122808
申请日：2014-07-02
申请人：旭化成股份有限公司 , ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA , 大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：多胡貴廣 , TAGO, TAKAHIRO , 村上哲也 , MURAKAMI, TETSUYA , 大塚一宏 , OHTSUKA, KAZUHIRO
IPC分类号： C08F214/18 , C08F216/14 , C08J3/03 , H01M8/10 , H01M8/02 , H01M4/86
CPC分类号： H01M8/1039 , C08F216/14 , C08J5/2237 , H01M4/9008 , H01M8/1004 , H01M8/1023 , H01M8/1081 , H01M2008/1095 , H01M2300/0082 , Y02P70/56

12. 发明专利

TW201544515A 電解質溶液、電解質膜、電極觸媒層、膜電極接合體以及燃料電池审中-公开
简体标题：电解质溶液、电解质膜、电极触媒层、膜电极接合体以及燃料电池
公开(公告)号：TW201544515A
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW104128589
申请日：2014-07-02
申请人：旭化成電子材料股份有限公司 , ASAHI KASEI E-MATERIALS CORPORATION , 大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：多胡貴廣 , TAGO, TAKAHIRO , 村上哲也 , MURAKAMI, TETSUYA , 大塚一宏 , OHTSUKA, KAZUHIRO
IPC分类号： C08F214/18 , C08F216/14 , C08J3/03 , H01M8/10 , H01M8/02 , H01M4/86
CPC分类号： H01M8/1039 , C08F216/14 , C08J5/2237 , H01M4/9008 , H01M8/1004 , H01M8/1023 , H01M8/1081 , H01M2008/1095 , H01M2300/0082 , Y02P70/56
摘要：本發明係提供一種電解質溶液的製造方法，包括：將包含高分子電解質與溶劑的乳狀液連續地供應至溶解設備內的供應步驟；以及加熱前述溶解設備內，連續地溶解前述高分子電解質於前述溶劑，得到電解質溶液之溶解步驟。
简体摘要：本发明系提供一种电解质溶液的制造方法，包括：将包含高分子电解质与溶剂的乳状液连续地供应至溶解设备内的供应步骤；以及加热前述溶解设备内，连续地溶解前述高分子电解质于前述溶剂，得到电解质溶液之溶解步骤。

13. 发明专利

TW201443566A 圖案形成方法、感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、抗蝕劑膜、電子元件的製造方法及電子元件审中-公开
简体标题：图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组成物、抗蚀剂膜、电子组件的制造方法及电子组件
公开(公告)号：TW201443566A
公开(公告)日：2014-11-16
申请号：TW103115448
申请日：2014-04-30
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：滝沢裕雄 , TAKIZAWA, HIROO , 平野修史 , HIRANO, SHUJI , 横川夏海 , YOKOKAWA, NATSUMI , 二橋亘 , NIHASHI, WATARU
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/038 , C08F12/22 , C08F212/14 , C08F216/14 , C08F220/18 , C08F220/26 , C11D11/0047 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2004 , G03F7/2037 , G03F7/32 , G03F7/325 , H01L21/0275
摘要：本發明提供一種極其高水準地同時滿足高感度、高解析度(高解像力等)、膜薄化減少性能的圖案形成方法。該圖案形成方法包括：(1)使用感光化射線性或感放射線性樹脂組成物來形成膜、(2)利用光化射線或放射線對膜進行曝光、以及(3)使用包含有機溶劑的顯影液對經曝光的膜進行顯影，且感光化射線性或感放射線性樹脂組成物含有(A)具有藉由酸的作用而分解並產生極性基的基的樹脂，樹脂(A)具有酚性羥基及/或由藉由酸的作用而脫離的基保護的酚性羥基，進而，包含有機溶劑的顯影液含有與極性基形成離子鍵結、氫鍵結、化學鍵結及偶極相互作用中的至少1種相互作用的添加劑。
简体摘要：本发明提供一种极其高水准地同时满足高感度、高分辨率(高解像力等)、膜薄化减少性能的图案形成方法。该图案形成方法包括：(1)使用感光化射线性或感放射线性树脂组成物来形成膜、(2)利用光化射线或放射线对膜进行曝光、以及(3)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的膜进行显影，且感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有(A)具有借由酸的作用而分解并产生极性基的基的树脂，树脂(A)具有酚性羟基及/或由借由酸的作用而脱离的基保护的酚性羟基，进而，包含有机溶剂的显影液含有与极性基形成离子键结、氢键结、化学键结及偶极相互作用中的至少1种相互作用的添加剂。

14. 发明专利

TW200944038A 駐極體及靜電感應型轉換元件审中-公开
简体标题：驻极体及静电感应型转换组件
公开(公告)号：TW200944038A
公开(公告)日：2009-10-16
申请号：TW098105462
申请日：2009-02-20
申请人：旭硝子股份有限公司
发明人：柏木王明
IPC分类号： H04R , C08F
CPC分类号： H01G7/023 , C08F216/14 , C08F216/1416 , H02N1/006 , H02N1/08 , H04R19/016 , H04R31/00
摘要：本發明係提供電荷之熱穩定性優異的駐極體及具有該駐極體之靜電感應型轉換元件。前述駐極體含有下述任一種含氟聚合物：玻璃轉移溫度係110～350℃並包含選自於由重複單位(a)、重複單位(b)及重複單位(c)所構成之群的1種以上重複單位，且該等之合計量係80莫耳％以上的含氟聚合物；包含選自於由重複單位(a1)、重複單位(b)及重複單位(c)所構成之群的1種以上重複單位，且該等之合計量係80莫耳％以上的含氟聚合物；及包含重複單位(a2)、重複單位(b)及/或重複單位(c)，且前述重複單位(b)及(c)之合計量係2莫耳％以上的含氟聚合物。以及，具有該駐極體之靜電感應型轉換元件。
简体摘要：本发明系提供电荷之热稳定性优异的驻极体及具有该驻极体之静电感应型转换组件。前述驻极体含有下述任一种含氟聚合物：玻璃转移温度系110～350℃并包含选自于由重复单位(a)、重复单位(b)及重复单位(c)所构成之群的1种以上重复单位，且该等之合计量系80莫耳％以上的含氟聚合物；包含选自于由重复单位(a1)、重复单位(b)及重复单位(c)所构成之群的1种以上重复单位，且该等之合计量系80莫耳％以上的含氟聚合物；及包含重复单位(a2)、重复单位(b)及/或重复单位(c)，且前述重复单位(b)及(c)之合计量系2莫耳％以上的含氟聚合物。以及，具有该驻极体之静电感应型转换组件。

15. 发明专利

TW201700585A 樹脂、光阻組合物、及光阻圖案之製造方法审中-公开
简体标题：树脂、光阻组合物、及光阻图案之制造方法
公开(公告)号：TW201700585A
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW105110375
申请日：2016-03-31
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：杉原昌子 , SUGIHARA, MASAKO , 西村崇 , NISHIMURA, TAKASHI
IPC分类号： C08L25/18 , C08F8/00 , C08K5/42 , G03F7/039 , G03F7/38 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： C08F216/10 , C08F212/02 , C08F216/12 , C08F216/14 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0751 , G03F7/085
摘要：本發明之目的在於提供一種可製造形狀良好並且抗裂性良好之光阻圖案之光阻組合物。一種光阻組合物，其含有：具有對酸不穩定基之樹脂、含有式(I)所示之結構單元之樹脂、產酸劑及溶劑。 [式中，Ri41為氫原子或甲基；Ri42為碳數2~7之醯基或氫原子、可經羥基取代之碳數1~10之烴基；Ri43為碳數1~6之烷基或碳數1~6之烷氧基；p為0~4之整數；Z表示含有式(Ia)所示之基之碳數3~20之2價烴基，該烴基之亞甲基可經氧原子、硫原子、羰基取代。＊為與氧原子之鍵結鍵；w及r各自獨立地表示1~10之整數，其中，w為1時，Ri42為碳數2~7之醯基。]
简体摘要：本发明之目的在于提供一种可制造形状良好并且抗裂性良好之光阻图案之光阻组合物。一种光阻组合物，其含有：具有对酸不稳定基之树脂、含有式(I)所示之结构单元之树脂、产酸剂及溶剂。 [式中，Ri41为氢原子或甲基；Ri42为碳数2~7之酰基或氢原子、可经羟基取代之碳数1~10之烃基；Ri43为碳数1~6之烷基或碳数1~6之烷氧基；p为0~4之整数；Z表示含有式(Ia)所示之基之碳数3~20之2价烃基，该烃基之亚甲基可经氧原子、硫原子、羰基取代。＊为与氧原子之键结键；w及r各自独立地表示1~10之整数，其中，w为1时，Ri42为碳数2~7之酰基。]

16. 发明专利

TWI562965B 冷卻水系統的處理方法以及處理劑的製造方法有权
简体标题：冷却水系统的处理方法以及处理剂的制造方法
公开(公告)号：TWI562965B
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：TW102111292
申请日：2013-03-29
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：西田育子 , NISHIDA, IKUKO , 藤田和久 , FUJITA, KAZUHISA , 村野靖 , MURANO, YASUSHI , 中野真人 , NAKANO, MASATO , 佐野友紀 , SANO, YUKI
IPC分类号： C02F5/10 , C08F220/06
CPC分类号： F28F25/00 , C02F5/10 , C02F2103/023 , C02F2303/08 , C08F216/14 , C08F216/1466 , C08F220/06 , C08F222/1006 , C09K5/10 , C23F11/173 , C23F14/02 , F28F2025/005

17. 发明专利

TW201609999A 單體組成物及含有該單體組成物之硬化性組成物审中-公开
简体标题：单体组成物及含有该单体组成物之硬化性组成物
公开(公告)号：TW201609999A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104120701
申请日：2015-06-26
申请人：大賽璐股份有限公司 , DAICEL CORPORATION
发明人：水田智也 , MIZUTA, TOMOYA , 井上慶三 , INOUE, KEIZO
IPC分类号： C09D11/10 , C09D11/101 , C09D11/30
CPC分类号： C08G65/2603 , C08F16/14 , C08F216/14 , C09D4/00 , C09D11/101 , C09D11/30
摘要：本發明提供一種單體組成物，其係具有快速硬化性，且即使在氧氣、水分的存在下也能快速硬化，並對於廣泛範圍的基材亦可形成有優良密著性之硬化物。本發明的單體組成物係含有：多官能乙烯基醚化合物10至80重量%、以下述式(b)所示的2官能氧雜環丁烷化合物0.5至20重量%、以下述式(b’)所示之單官能氧雜環丁烷化合物5至80重量%。下述式中，環Z是表示芳香族烴環，或是2個以上的芳香族烴環為經由單鍵或是連結基而結合之結構。又，R是表示1價的脂肪族烴基，R’是表示氫原子或是乙基，m是表示0以上的整數。
简体摘要：本发明提供一种单体组成物，其系具有快速硬化性，且即使在氧气、水分的存在下也能快速硬化，并对于广泛范围的基材亦可形成有优良密着性之硬化物。本发明的单体组成物系含有：多官能乙烯基醚化合物10至80重量%、以下述式(b)所示的2官能氧杂环丁烷化合物0.5至20重量%、以下述式(b’)所示之单官能氧杂环丁烷化合物5至80重量%。下述式中，环Z是表示芳香族烃环，或是2个以上的芳香族烃环为经由单键或是链接基而结合之结构。又，R是表示1价的脂肪族烃基，R’是表示氢原子或是乙基，m是表示0以上的整数。

18. 发明专利

TW201403224A 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、使用其的抗蝕劑膜及圖案形成方法、半導體元件的製造方法及半導體元件审中-公开
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、使用其的抗蚀剂膜及图案形成方法、半导体组件的制造方法及半导体组件
公开(公告)号：TW201403224A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102119349
申请日：2013-05-31
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：川端健志 , KAWABATA, TAKESHI , 椿英明 , TSUBAKI, HIDEAKI , 滝沢裕雄 , TAKIZAWA, HIROO , 横川夏海 , YOKOKAWA, NATSUMI
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0388 , C08F12/20 , C08F12/22 , C08F12/30 , C08F212/14 , C08F212/32 , C08F216/10 , C08F216/14 , C08F216/1416 , C08F220/30 , C08F2220/301 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/325
摘要：提供一種感光化射線性或感放射線性樹脂組成物，其包括具有重複單元(A)之樹脂(P)，重複單元(A)由特定式(I)表示，能夠在用光化射線或放射線照射時在所述樹脂之側鏈上產生酸；及一種抗蝕劑膜，其用所述感光化射線性或感放射線性樹脂組成物形成；及一種圖案形成方法，其包括：將所述抗蝕劑膜曝光，及使經曝光之抗蝕劑膜顯影；及一種半導體元件之製造方法，其含有所述圖案形成方法；及一種半導體元件，其藉由所述半導體元件製造方法製造。
简体摘要：提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其包括具有重复单元(A)之树脂(P)，重复单元(A)由特定式(I)表示，能够在用光化射线或放射线照射时在所述树脂之侧链上产生酸；及一种抗蚀剂膜，其用所述感光化射线性或感放射线性树脂组成物形成；及一种图案形成方法，其包括：将所述抗蚀剂膜曝光，及使经曝光之抗蚀剂膜显影；及一种半导体组件之制造方法，其含有所述图案形成方法；及一种半导体组件，其借由所述半导体组件制造方法制造。

19. 发明专利

TW201348150A 冷卻水系統的處理方法审中-公开
简体标题：冷却水系统的处理方法
公开(公告)号：TW201348150A
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW102111292
申请日：2013-03-29
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD. , 日本觸媒股份有限公司 , NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.
发明人：西田育子 , NISHIDA, IKUKO , 藤田和久 , FUJITA, KAZUHISA , 村野靖 , MURANO, YASUSHI , 中野真人 , NAKANO, MASATO , 佐野友紀 , SANO, YUKI
IPC分类号： C02F5/10 , C08F220/06
CPC分类号： F28F25/00 , C02F5/10 , C02F2103/023 , C02F2303/08 , C08F216/14 , C08F216/1466 , C08F220/06 , C08F222/1006 , C09K5/10 , C23F11/173 , C23F14/02 , F28F2025/005
摘要：本發明提供一種冷卻水系統的處理方法，其於將回收水(再處理水)用於補充水的水垢成分及腐蝕性離子濃度高的水質中，防止鈣系水垢對配管或熱交換器的附著而防止傳熱障礙、流量降低等障礙，並且防止配管或熱交換器等的金屬的腐蝕。本發明的冷卻水系統的處理方法是於鈣硬度以CaCO3計而為300 mg/L以上、且氯化物離子及/或硫酸根離子濃度為1000 mg/L以上的冷卻水系統中，添加含有(甲基)丙烯酸系共聚物而成的處理劑的冷卻水系統的處理方法，並且上述(甲基)丙烯酸系共聚物含有來源於(甲基)丙烯酸系單體(A)的結構單元(a)、及來源於特定的(甲基)烯丙醚系單體(B)的結構單元(b)，且於所有來源於單體的結構單元100 mol%中，結構單元(a)的含量為80 mol%~90 mol%，結構單元(b)的含量為10 mol%~20 mol%，上述(甲基)丙烯酸系共聚物的至少一個主鏈末端為磺酸基或其鹽。
简体摘要：本发明提供一种冷却水系统的处理方法，其于将回收水(再处理水)用于补充水的水垢成分及腐蚀性离子浓度高的水质中，防止钙系水垢对配管或热交换器的附着而防止传热障碍、流量降低等障碍，并且防止配管或热交换器等的金属的腐蚀。本发明的冷却水系统的处理方法是于钙硬度以CaCO3计而为300 mg/L以上、且氯化物离子及/或硫酸根离子浓度为1000 mg/L以上的冷却水系统中，添加含有(甲基)丙烯酸系共聚物而成的处理剂的冷却水系统的处理方法，并且上述(甲基)丙烯酸系共聚物含有来源于(甲基)丙烯酸系单体(A)的结构单元(a)、及来源于特定的(甲基)烯丙醚系单体(B)的结构单元(b)，且于所有来源於单体的结构单元100 mol%中，结构单元(a)的含量为80 mol%~90 mol%，结构单元(b)的含量为10 mol%~20 mol%，上述(甲基)丙烯酸系共聚物的至少一个主链末端为磺酸基或其盐。

20. 发明专利

TWI378128B 塗布組成物、光學薄膜、抗反射薄膜、偏光板及使用它之顯示單元 COATING COMPOSITION, OPTICAL FILM, ANTI-REFLECTION FILM, POLARIZING PLATE, AND DISPLAY UNIT USING THEM 有权
简体标题：涂布组成物、光学薄膜、抗反射薄膜、偏光板及使用它之显示单元 COATING COMPOSITION, OPTICAL FILM, ANTI-REFLECTION FILM, POLARIZING PLATE, AND DISPLAY UNIT USING THEM
公开(公告)号：TWI378128B
公开(公告)日：2012-12-01
申请号：TW094133341
申请日：2005-09-26
申请人：富士軟片股份有限公司
发明人：鈴木貴登
IPC分类号： C09D , G02B
CPC分类号： C09D133/16 , C08F216/14 , C08F222/1006 , G02B1/111 , G02B5/30 , Y10T428/261
摘要：一種塗布組成物，其包含：含氟-脂族基之共聚物，其包含與含氟-脂族基單體相應的重複單元A、和與至少一種單體相應的重複單元B，其中組成該重複單元B的至少一種單體各別之I/O值為1.0以下。
简体摘要：一种涂布组成物，其包含：含氟-脂族基之共聚物，其包含与含氟-脂族基单体相应的重复单元A、和与至少一种单体相应的重复单元B，其中组成该重复单元B的至少一种单体各别之I/O值为1.0以下。

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