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11. 发明专利

TWI475319B 光阻組成物，光阻圖型之形成方法，高分子化合物及化合物有权
简体标题：光阻组成物，光阻图型之形成方法，高分子化合物及化合物
公开(公告)号：TWI475319B
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW098145880
申请日：2009-12-30
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：太宰尚宏 , DAZAI, TAKAHIRO , 鹽野大壽 , SHIONO, DAIJU , 平野智之 , HIRANO, TOMOYUKI , 松宮祐 , MATSUMIYA, TASUKU , 高木大地 , TAKAKI, DAICHI , 森貴敬 , MORI, TAKAYOSHI , 土屋純一 , TSUCHIYA, JUNICHI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , C08F220/38 , H01L21/027 , C07D327/04
CPC分类号： C07D493/18 , C07D327/04 , C08F20/38 , C08F220/38 , C08F2220/283 , C08F2220/382 , G03F7/0382 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , Y10S430/111

12. 发明专利

TW201404787A 包覆材料用樹脂組合物审中-公开
简体标题：包覆材料用树脂组合物
公开(公告)号：TW201404787A
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW102119700
申请日：2013-06-04
申请人：電氣化學工業股份有限公司 , DENKI KAGAKU KOGYO KABUSHIKI KAISHA
发明人：後藤慶次 , GOTO, YOSHITSUGU , 星野貴子 , HOSHINO, TAKAKO , 依田公彦 , YODA, KIMIHIKO
IPC分类号： C08F20/10 , C08F34/04 , C09D4/02 , G02B1/11
CPC分类号： C08F20/38 , C08F28/06 , C09D4/00 , C08F2220/1825 , C08F220/38 , C08F228/06 , C08F2220/185 , C08F2220/301 , C08F220/18
摘要：本發明提供具有高折射率和高透明性並且不必使用溶劑的包覆材料用樹脂組合物。本發明的包覆材料用樹脂組合物中含有：作為(A)成分的、具有1個以上含烯屬不飽和雙鍵的聚合性官能團的特定的二萘並噻吩類化合物；作為(B)成分的、含有1個以上芳香環的單官能(甲基)丙烯酸酯；作為(C)成分的光自由基聚合引發劑，其中，上述(A)成分的含有比例為15~60質量份的範圍，上述(B)成分的含有比例為40~85質量份的範圍。
简体摘要：本发明提供具有高折射率和高透明性并且不必使用溶剂的包覆材料用树脂组合物。本发明的包覆材料用树脂组合物中含有：作为(A)成分的、具有1个以上含烯属不饱和双键的聚合性官能团的特定的二萘并噻吩类化合物；作为(B)成分的、含有1个以上芳香环的单官能(甲基)丙烯酸酯；作为(C)成分的光自由基聚合引发剂，其中，上述(A)成分的含有比例为15~60质量份的范围，上述(B)成分的含有比例为40~85质量份的范围。

13. 发明专利

TW201221527A 聚合性含氟磺酸鹽、含氟磺酸鹽樹脂、阻劑組合物及使用其之圖案形成方法审中-公开
简体标题：聚合性含氟磺酸盐、含氟磺酸盐树脂、阻剂组合物及使用其之图案形成方法
公开(公告)号：TW201221527A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：TW100137177
申请日：2011-10-13
申请人：中央硝子股份有限公司
发明人：瀧花亮三 , 成塚智
IPC分类号： C08F , G03F , H01L , C07C
CPC分类号： C08F28/02 , C07C309/10 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C08F20/38 , C08F220/26 , C08F232/04 , G03F7/00 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2039 , G03F7/2041
摘要：根據本發明,提供一種具有下述通式(3)所示之重複單元之磺酸鹽樹脂。

(式中,X表示氫原子或氟原子,n表示1~10之整數;R1表示氫原子、鹵素原子或者碳數1~3之烷基或含氟烷基;R2表示RAO、RBRCN中之任一者;M+表示一價陽離子)該磺酸鹽樹脂可較佳地用作於側鏈組入磺酸鹽且陰離子固定於樹脂側且對丙二醇單甲醚乙酸酯之溶解度較高的阻劑樹脂。
简体摘要：根据本发明,提供一种具有下述通式(3)所示之重复单元之磺酸盐树脂。 (式中,X表示氢原子或氟原子,n表示1~10之整数;R1表示氢原子、卤素原子或者碳数1~3之烷基或含氟烷基;R2表示RAO、RBRCN中之任一者;M+表示一价阳离子)该磺酸盐树脂可较佳地用作于侧链组入磺酸盐且阴离子固定于树脂侧且对丙二醇单甲醚乙酸酯之溶解度较高的阻剂树脂。

14. 发明专利

TW201113344A 硬化性組合物、連接構造體及含有巰基之（甲基）丙烯酸酯化合物审中-公开
简体标题：硬化性组合物、连接构造体及含有巯基之（甲基）丙烯酸酯化合物
公开(公告)号：TW201113344A
公开(公告)日：2011-04-16
申请号：TW099126804
申请日：2010-08-11
申请人：積水化學工業股份有限公司
发明人：久保田敬士
IPC分类号： C09J , G03F , C07C
CPC分类号： C08F20/38 , C07C323/12
摘要：本發明提供一種硬化性組合物,可降低硬化後之硬化物之吸濕性、並可提高硬化物與連接對象構件的接著力。本發明並提供一種新穎之含有硫氫基之(甲基)丙烯酸酯化合物,可用作硬化性組合物之材料。本發明之硬化性組合物包含含有巰基之(甲基)丙烯酸酯化合物、及活性能量線聚合起始劑。本發明之含有巰基之(甲基)丙烯酸酯化合物具有下述式(31)所示結構。下述式(31)中,R1及R2分別表示氫或甲基,R3及R4分別表示碳數1~5之伸烷基,X表示特定芳香族基。下述式(31)中,係Z1及Z2均表示巰基,或Z1表示巰基且Z2表示羥基。[化1]
简体摘要：本发明提供一种硬化性组合物,可降低硬化后之硬化物之吸湿性、并可提高硬化物与连接对象构件的接着力。本发明并提供一种新颖之含有硫氢基之(甲基)丙烯酸酯化合物,可用作硬化性组合物之材料。本发明之硬化性组合物包含含有巯基之(甲基)丙烯酸酯化合物、及活性能量线聚合起始剂。本发明之含有巯基之(甲基)丙烯酸酯化合物具有下述式(31)所示结构。下述式(31)中,R1及R2分别表示氢或甲基,R3及R4分别表示碳数1~5之伸烷基,X表示特定芳香族基。下述式(31)中,系Z1及Z2均表示巯基,或Z1表示巯基且Z2表示羟基。[化1]

15. 发明专利

TW201035131A 刺激應答性高分子架橋體及其製造方法审中-公开
简体标题：刺激应答性高分子架桥体及其制造方法
公开(公告)号：TW201035131A
公开(公告)日：2010-10-01
申请号：TW098144931
申请日：2009-12-25
申请人：琳得科股份有限公司
发明人：荒井隆行 , 高田十志和
IPC分类号： C08F
CPC分类号： C08F220/54 , C08F2/48 , C08F20/38 , C08F28/02 , C08F290/062 , C08F220/56
摘要：將具有2個以上環狀部分之聚合物(A)，與其中之一末端具有阻隔基且另一末端具有聚合性官能基之直鏈狀分子(B)混合，製造至少一部分具有內含錯合體的高分子架橋前驅體(C)，其次，介由直鏈狀分子(B)之聚合性官能基，將該直鏈狀分子(B)與刺激應答性化合物(E)共聚合，得到含有輪烷構造之刺激應答性高分子架橋體(E)。
简体摘要：将具有2个以上环状部分之聚合物(A)，与其中之一末端具有阻隔基且另一末端具有聚合性官能基之直链状分子(B)混合，制造至少一部分具有内含错合体的高分子架桥前驱体(C)，其次，介由直链状分子(B)之聚合性官能基，将该直链状分子(B)与刺激应答性化合物(E)共聚合，得到含有轮烷构造之刺激应答性高分子架桥体(E)。

16. 发明专利

TW200829604A 超支鏈聚合物及其製造方法 HYPER-BRANCHED POLYMER AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME 有权
简体标题：超支链聚合物及其制造方法 HYPER-BRANCHED POLYMER AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
公开(公告)号：TW200829604A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：TW096133531
申请日：2007-09-07
申请人：國立大學法人東京工業大學 TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY , 日產化學工業股份有限公司 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：石津浩二 ISHIZU, KOJI , 竹本洋己 TAKEMOTO, HIROKI , 小澤雅昭 OZAWA, MASAAKI
IPC分类号： C08F
CPC分类号： C08F20/38 , C08F2/38 , C08F2/48 , C08F212/14 , C08F220/38 , C08F2438/03 , C08L101/005
摘要：本發明之課題在維持超支鏈構造下,提供調控在所欲折射率下之新穎共聚物狀超支鏈聚合物及其製造方法。更進而言,提供更能精準地調控所欲之折射率,同時在光學上及熱學上安定的新穎超支鏈聚合物及其製造方法。本發明為解決上述課題,提供在具有乙烯基構造之聚合引發點位置上具有乙烯基構造之兩種二硫代胺基甲酸酯化合物所得重複單位為支鏈構造而構成之超支鏈聚合物中,具體言例如由N,N-二乙基二硫代胺基甲醯基甲基苯乙烯酯及N,N-二乙基二硫代胺基甲醯基乙基甲基丙烯酸酯之共存下經活性自由基聚合而製成之超支鏈聚合物者。
简体摘要：本发明之课题在维持超支链构造下,提供调控在所欲折射率下之新颖共聚物状超支链聚合物及其制造方法。更进而言,提供更能精准地调控所欲之折射率,同时在光学上及热学上安定的新颖超支链聚合物及其制造方法。本发明为解决上述课题,提供在具有乙烯基构造之聚合引发点位置上具有乙烯基构造之两种二硫代胺基甲酸酯化合物所得重复单位为支链构造而构成之超支链聚合物中,具体言例如由N,N-二乙基二硫代胺基甲酰基甲基苯乙烯酯及N,N-二乙基二硫代胺基甲酰基乙基甲基丙烯酸酯之共存下经活性自由基聚合而制成之超支链聚合物者。

17. 发明专利

TW201803878A 新穎四硫雜螺化合物、含該化合物之光學用組成物及其製造方法审中-公开
简体标题：新颖四硫杂螺化合物、含该化合物之光学用组成物及其制造方法
公开(公告)号：TW201803878A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW106112390
申请日：2017-04-13
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：福岡弘直 , FUKUOKA, HIRONAO , 堀越裕 , HORIKOSHI, HIROSHI , 青柳直人 , AOYAGI, NAOTO , 遠藤剛 , ENDO, TAKESHI
IPC分类号： C07D495/10 , C08F20/38 , C08G59/40 , G02B1/04
CPC分类号： B01J27/08 , B01J27/10 , B01J31/12 , C07B61/00 , C07D495/10 , C08F12/30 , C08F16/30 , C08F20/38 , C08F28/04 , G02B1/04 , G02C7/00
摘要：本發明係提供可作為單體進行聚合的化合物，其可以提昇的選擇率及簡便且較少的步驟數進行製造之新穎的四硫雜螺化合物及其製造方法。依據一實施形態，可提供下述式(1)所示之四硫雜螺化合物、及包含使下述式(A)所示之三硫代碳酸酯化合物與下述式(B)所示之環硫化物化合物在下述式(C)所示之鋅化合物觸媒的存在下反應的式(1)所示之四硫雜螺化合物之製造方法。
简体摘要：本发明系提供可作为单体进行聚合的化合物，其可以提升的选择率及简便且较少的步骤数进行制造之新颖的四硫杂螺化合物及其制造方法。依据一实施形态，可提供下述式(1)所示之四硫杂螺化合物、及包含使下述式(A)所示之三硫代碳酸酯化合物与下述式(B)所示之环硫化物化合物在下述式(C)所示之锌化合物触媒的存在下反应的式(1)所示之四硫杂螺化合物之制造方法。

18. 发明专利

TW201700631A 近紅外線吸收性色素多聚體、組成物、膜、光學濾波器、圖案形成方法及裝置审中-公开
简体标题：近红外线吸收性色素多聚体、组成物、膜、光学滤波器、图案形成方法及设备
公开(公告)号：TW201700631A
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW105114484
申请日：2016-05-11
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：荒山恭平 , ARAYAMA, KYOHEI , 尾田和也 , OOTA, KAZUYA
IPC分类号： C09B69/10 , G03F7/004 , G02B5/20 , G03F7/26 , H01L27/146 , H04N5/225 , H04N5/335
CPC分类号： C08F220/06 , C08F2/50 , C08F20/34 , C08F20/38 , C08F220/36 , C08F220/38 , C08F2220/365 , C08F2220/387 , C09B69/10 , C09B69/105 , C09B69/108 , C09B69/109 , C09K3/00 , G02B5/208 , G02B5/22 , G03F7/2004 , G03F7/322
摘要：近紅外線吸收性色素多聚體在700～1200nm的範圍具有極大吸收波長。該近紅外線吸收性色素多聚體具有選自吡咯并吡咯色素、花青色素、方酸菁色素、二亞銨色素、酞菁色素、萘酞菁色素、芮（rylene）色素、二硫醇錯合物色素、克酮鎓色素、氧雜菁色素、三芳基甲烷色素、吡咯甲川色素、次甲基偶氮色素、蒽醌色素及二苯并呋喃酮色素中之至少一種近紅外線吸收性色素結構為較佳。
简体摘要：近红外线吸收性色素多聚体在700～1200nm的范围具有极大吸收波长。该近红外线吸收性色素多聚体具有选自吡咯并吡咯色素、花青色素、方酸菁色素、二亚铵色素、酞菁色素、萘酞菁色素、芮（rylene）色素、二硫醇错合物色素、克酮鎓色素、氧杂菁色素、三芳基甲烷色素、吡咯甲川色素、次甲基偶氮色素、蒽醌色素及二苯并呋喃酮色素中之至少一种近红外线吸收性色素结构为较佳。

19. 发明专利

TW201538461A 聚合性單體、高分子化合物、光硬化性樹脂組成物、液晶顯示元件用密封劑、上下導通材料及液晶顯示元件审中-公开
简体标题：聚合性单体、高分子化合物、光硬化性树脂组成物、液晶显示组件用密封剂、上下导通材料及液晶显示组件
公开(公告)号：TW201538461A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW103141889
申请日：2014-12-03
申请人：積水化學工業股份有限公司 , SEKISUI CHEMICAL CO., LTD.
发明人：林秀幸 , HAYASHI, HIDEYUKI
IPC分类号： C07C229/60 , C07D311/16 , C07D335/16 , C07D303/16 , C07F7/18 , C08F20/36 , C08F20/38 , C08G77/26 , C08G77/28 , C08L33/14 , C08L83/08 , G02F1/1339 , C09K3/10
CPC分类号： C07C229/60 , C07D311/16 , C07D335/16 , C07F7/1812 , C08F20/36 , C08F20/38 , C08F220/30 , C08F2220/283 , C08L33/14 , C09K3/1006 , G02F1/1339
摘要：本發明之目的在於提供一種對液晶之污染性低、對長波長之光為高感度且增感效果亦優異之聚合性單體、及使該聚合性單體聚合所獲得之高分子化合物。又，本發明之目的在於提供一種含有該聚合性單體及/或該高分子化合物之光硬化性樹脂組成物、使用該光硬化性樹脂組成物而成之液晶顯示元件用密封劑、及使用該液晶顯示元件用密封劑所製造之上下導通材料及液晶顯示元件。本發明係關於一種聚合性單體，其係使二烷基胺基苯甲酸系化合物或具有可與環氧基反應之官能基之9-氧硫衍生物、與具有不飽和雙鍵之環氧化合物或具有烷氧基矽基(alkoxysilyl)之環氧化合物反應而獲得。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种对液晶之污染性低、对长波长之光为高感度且增感效果亦优异之聚合性单体、及使该聚合性单体聚合所获得之高分子化合物。又，本发明之目的在于提供一种含有该聚合性单体及/或该高分子化合物之光硬化性树脂组成物、使用该光硬化性树脂组成物而成之液晶显示组件用密封剂、及使用该液晶显示组件用密封剂所制造之上下导通材料及液晶显示组件。本发明系关于一种聚合性单体，其系使二烷基胺基苯甲酸系化合物或具有可与环氧基反应之官能基之9-氧硫衍生物、与具有不饱和双键之环氧化合物或具有烷氧基硅基(alkoxysilyl)之环氧化合物反应而获得。

20. 发明专利

TWI503337B 刺激應答性高分子架橋體及其製造方法有权
简体标题：刺激应答性高分子架桥体及其制造方法
公开(公告)号：TWI503337B
公开(公告)日：2015-10-11
申请号：TW098144931
申请日：2009-12-25
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：荒井隆行 , ARAI, TAKAYUKI , 高田十志和 , TAKATA, TOSHIKAZU
IPC分类号： C08F251/00 , C08F283/00 , C08F290/06
CPC分类号： C08F220/54 , C08F2/48 , C08F20/38 , C08F28/02 , C08F290/062 , C08F220/56

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