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11. 发明专利

TW200817292A 用以處理半導體晶圓之石英玻璃波震機及製造該波震機之方法 QUARTZ GLASS JIG FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFERS AND METHOD FOR PRODUCING THE JIG 失效
简体标题：用以处理半导体晶圆之石英玻璃波震机及制造该波震机之方法 QUARTZ GLASS JIG FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFERS AND METHOD FOR PRODUCING THE JIG
公开(公告)号：TW200817292A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：TW095137054
申请日：2006-10-05
申请人：何瑞斯廓格拉斯公司 HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , 信越石英股份有限公司 SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.
发明人：攸爾根偉伯 JUERGEN WEBER , 托比亞斯波格 TOBBIAS POGGE , 馬丁托墨爾 MARTIN TROMMER , 波多庫恩 BODO KUEHN , 烏利希契爾斯特 ULRICH KIRST , 華陶特衛狄克 WALTRAUD WERDECKER
IPC分类号： C03B , C03C
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/06 , C03B19/09 , C03B32/00 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/24 , C03B2201/32 , C03C15/00 , C03C19/00 , C03C23/0025 , C03C23/006 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2201/32 , C03C2201/50 , C03C2203/54 , C30B25/12 , C30B31/14 , C30B35/00 , Y02P40/57
摘要：一種於有蝕刻效果之環境下用於晶圓波震機之理想石英玻璃,其具特別高純度及高抗乾蝕刻性。為指出一種實質上滿足該等條件之石英玻璃,根據本發明所提供者,係於石英玻璃至少在近表面區域摻雜氮,並具以重量計少於百萬分之三十之平均介穩態羥基含量,其擬溫度低於1250℃且其黏度在1200℃下至少為10^13dPa.s。一種用以產生該石英玻璃之經濟方法包含下列方法步驟:熔化一SiO2原料以獲得一石英玻璃坯,該SiO2原料或該石英玻璃坯接受一脫水處理,SiO2原料或該石英玻璃坯在含氨氣體環境中加熱至1050℃至1850℃範圍內之氮化溫度,藉由溫度處理將該石英玻璃坯之石英玻璃設定為1250℃或較低之擬溫度,並對該石英玻璃坯做表面處理,而形成石英玻璃波震機。
简体摘要：一种于有蚀刻效果之环境下用于晶圆波震机之理想石英玻璃,其具特别高纯度及高抗干蚀刻性。为指出一种实质上满足该等条件之石英玻璃,根据本发明所提供者,系于石英玻璃至少在近表面区域掺杂氮,并具以重量计少于百万分之三十之平均介稳态羟基含量,其拟温度低于1250℃且其黏度在1200℃下至少为10^13dPa.s。一种用以产生该石英玻璃之经济方法包含下列方法步骤:熔化一SiO2原料以获得一石英玻璃坯,该SiO2原料或该石英玻璃坯接受一脱水处理,SiO2原料或该石英玻璃坯在含氨气体环境中加热至1050℃至1850℃范围内之氮化温度,借由温度处理将该石英玻璃坯之石英玻璃设置为1250℃或较低之拟温度,并对该石英玻璃坯做表面处理,而形成石英玻璃波震机。

12. 发明专利

TW200800817A 提昇氧化物玻璃螢光强度之方法 THE METHOD OF PROMOTE THE OXIDE GLASS FLUORESCENCE STRENGTH 审中-公开
简体标题：提升氧化物玻璃萤光强度之方法 THE METHOD OF PROMOTE THE OXIDE GLASS FLUORESCENCE STRENGTH
公开(公告)号：TW200800817A
公开(公告)日：2008-01-01
申请号：TW095121532
申请日：2006-06-16
申请人：國立聯合大學 NATIONAL UNITED UNIVERSITY , 丁原傑 DING, TUAN-JYE
发明人：丁原傑 DING, TUAN-JYE , 張智强 ZHANG, ZHI-QIANG
IPC分类号： C03B , C03C
CPC分类号： C03C3/062 , C03B32/00 , C03C3/095 , C03C3/097 , C03C4/12
摘要：本發明係提供一種提昇氧化物玻璃螢光强度之可形成奈米分相(nanophase-separation)之摻稀土氧化物(rare-earthoxides)之方法,該氧化物玻璃主要係指摻稀土氧化物之硼矽酸鹽玻璃(borosilicateglasses)與磷矽鹽玻璃(phosphoroussilicateglasses),為促進玻璃分相之形成,可以適度加入鹼金屬氧化物(alkalioxides)或其他玻璃修飾體(glassmodifier)之氧化物成份,上述成份經高溫熔融後經急速冷卻形成玻璃,此玻璃再經熱處理形成奈米分相結構,所謂分相係指玻璃形成以矽酸鹽為主成份之石英玻璃相(强結構相)及以硼酸鹽為主之硼酸鹽相或磷酸鹽為主之磷酸鹽相(弱結構相);此强結構相是三度空間網狀連續結構,而由硼酸鹽或磷酸鹽所形成之弱結構相可以是連續式網狀分佈或是獨立點狀分佈,由於弱結構相比强結構相容易接納稀土離子,因此多數之稀土離子會進入弱結構相內,由於稀土離子集中於弱結構玻璃相中可以藉由濃度提昇與螢光效率提昇進而使得螢光强度大幅提昇。
简体摘要：本发明系提供一种提升氧化物玻璃萤光强度之可形成奈米分相(nanophase-separation)之掺稀土氧化物(rare-earthoxides)之方法,该氧化物玻璃主要系指掺稀土氧化物之硼硅酸盐玻璃(borosilicateglasses)与磷硅盐玻璃(phosphoroussilicateglasses),为促进玻璃分相之形成,可以适度加入碱金属氧化物(alkalioxides)或其他玻璃修饰体(glassmodifier)之氧化物成份,上述成份经高温熔融后经急速冷却形成玻璃,此玻璃再经热处理形成奈米分相结构,所谓分相系指玻璃形成以硅酸盐为主成份之石英玻璃相(强结构相)及以硼酸盐为主之硼酸盐相或磷酸盐为主之磷酸盐相(弱结构相);此强结构相是三度空间网状连续结构,而由硼酸盐或磷酸盐所形成之弱结构相可以是连续式网状分布或是独立点状分布,由于弱结构相比强结构兼容易接纳稀土离子,因此多数之稀土离子会进入弱结构相内,由于稀土离子集中于弱结构玻璃相中可以借由浓度提升与萤光效率提升进而使得萤光强度大幅提升。

13. 发明专利

TW200600482A 具有抗雷射導致傷害之合成矽石玻璃光學材料 SYNTHETIC SILICA GLASS OPTICAL MATERIAL HAVING HIGH RESISTANCE TO LASER INDUCED DAMAGE 审中-公开
简体标题：具有抗激光导致伤害之合成硅石玻璃光学材料 SYNTHETIC SILICA GLASS OPTICAL MATERIAL HAVING HIGH RESISTANCE TO LASER INDUCED DAMAGE
公开(公告)号：TW200600482A
公开(公告)日：2006-01-01
申请号：TW094105569
申请日：2005-02-23
申请人：康寧公司 CORNING INCORPORATED
发明人：答納克雷布班德 DANA CRAIG BOOKBINDER , 理查米薛耳費亞可 RICHARD MICHAEL FIACCO , 肯尼埃德哈迪納 KENNETH EDWARD HRDINA , 里薩安莫 LISA ANNE MOORE , 蘇參李史奇費貝 SUSAN LEE SCHIEFELBEIN
IPC分类号： C03C
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B32/00 , C03B2201/075 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2207/32 , C03C2201/21 , C03C2201/23
摘要：本發明揭示出合成矽石玻璃光學材料，該材料能夠抵抗紫外線波長範圍內之輻射線光學損壞，特別是波長小於250nm，其呈現出低雷射導致之波前扭曲，其經過操作於193nm以及照射度為70微焦耳／平方公分之100億次雷射脈衝後在633nm下量測呈現出之波前扭曲在–1.0及1.0nm／／cm之間。本發明合成矽石玻璃光學材料含有OH濃度小於600ppm，優先地小於200ppm，以及H2濃度值小於5.0x10^17分子／立方公分，以及優先地小於2.0x10^17分子／立方公分。
简体摘要：本发明揭示出合成硅石玻璃光学材料，该材料能够抵抗紫外线波长范围内之辐射线光学损坏，特别是波长小于250nm，其呈现出低激光导致之波前扭曲，其经过操作于193nm以及照射度为70微焦耳／平方公分之100亿次激光脉冲后在633nm下量测呈现出之波前扭曲在–1.0及1.0nm／／cm之间。本发明合成硅石玻璃光学材料含有OH浓度小于600ppm，优先地小于200ppm，以及H2浓度值小于5.0x10^17分子／立方公分，以及优先地小于2.0x10^17分子／立方公分。

14. 发明专利

TW200408612A 石英玻璃製冶工具的再生方法审中-公开
简体标题：石英玻璃制冶工具的再生方法
公开(公告)号：TW200408612A
公开(公告)日：2004-06-01
申请号：TW092127278
申请日：2003-10-02
申请人：江信特殊硝子股份有限公司 , 南風科學工業研究所股份有限公司
发明人：吉田信男
IPC分类号： C03B , C03C
CPC分类号： C03B32/00 , C03C1/002
摘要：〔課題〕提供有關，以高溫火焰處理將石英玻璃再熔化，加工處理去除雜質，將耗損石英玻璃製冶工具再生成再生石英玻璃製冶工具的再生方法之技術。〔解決手段〕如第1圖，本實施形態有關之石英玻璃製冶工具的再生方法係，石英玻璃冶工具再生製造者20將供給自使用者10A之耗損石英玻璃製冶工具(石英玻璃材料)12作再生處理，以附有品質資料24之再生石英玻璃製冶工具22由使用者10B接收之方法。
简体摘要：〔课题〕提供有关，以高温火焰处理将石英玻璃再熔化，加工处理去除杂质，将耗损石英玻璃制冶工具再生成再生石英玻璃制冶工具的再生方法之技术。〔解决手段〕如第1图，本实施形态有关之石英玻璃制冶工具的再生方法系，石英玻璃冶工具再生制造者20将供给自用户10A之耗损石英玻璃制冶工具(石英玻璃材料)12作再生处理，以附有品质数据24之再生石英玻璃制冶工具22由用户10B接收之方法。

15. 发明专利

TW571132B 整體內部布拉格光柵及光學裝置有权
简体标题：整体内部布拉格光栅及光学设备
公开(公告)号：TW571132B
公开(公告)日：2004-01-11
申请号：TW090118830
申请日：2001-07-31
申请人：康寧公司 CORNING INCORPORATED
发明人：維卡答艾迪巴加瓦杜拉 VENKATA ADISESHAIAH BHAGAVATULA , 尼可法西包銳里 NICHOLAS FRANCIS BORRELLI , 模尼卡璃大位司 MONICA KARIN DAVIS , 艾得法西默非 EDWARD FRANCIS MURPHY
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B6/29334 , C03B19/02 , C03B32/00 , C03B2201/21 , C03B2201/31 , C03C3/064 , C03C3/091 , C03C4/085 , C03C17/3411 , C03C23/00 , G02B6/02114 , G02B6/12007 , G02B6/124 , G02B6/125 , G02B6/29319 , G02B2006/12147
摘要：本發明提供一種使用於光學通訊中之光子裝置。光子裝置包含光敏性大塊玻璃物體，該玻璃物體包含布拉格光柵，特別是紫外線光敏性大塊玻璃物體導引光學通訊之波長範圍頻帶。紫外線光敏性大塊玻璃為可熔融配方之鹼金屬-鋁-矽酸鹽大塊玻璃物體。本發明包含光學通訊波長裝置以使用於波長範圍頻帶內，裝置包含輸入光學波導準直器使光學波導發出輸入光束加以準直以提供未被導引之輸入光束，該光束包含至少一種反射性波長範圍頻帶λR以及至少一種波長範圍頻帶λn；內部大塊布拉格光柵包含透明光敏性大塊光柵介質，具有光柵圖案之內部調變折射率光柵以反射至少一種波長範圍頻帶λR；至少一個輸出波長範圍頻帶之輸出耦合器；以及基質結構以固定布拉格光柵相對於輸入準直器以及輸出耦合器，大塊布拉格光柵放置於未導引輸入光束中，其中至少一種波長範圍頻帶λn傳送通過大塊布拉格光柵以及至少一種波長範圍頻帶λR被大塊布拉格光柵反射。
简体摘要：本发明提供一种使用于光学通信中之光子设备。光子设备包含光敏性大块玻璃物体，该玻璃物体包含布拉格光栅，特别是紫外线光敏性大块玻璃物体导引光学通信之波长范围频带。紫外线光敏性大块玻璃为可熔融配方之碱金属-铝-硅酸盐大块玻璃物体。本发明包含光学通信波长设备以使用于波长范围频带内，设备包含输入光学波导准直器使光学波导发出输入光束加以准直以提供未被导引之输入光束，该光束包含至少一种反射性波长范围频带λR以及至少一种波长范围频带λn；内部大块布拉格光栅包含透明光敏性大块光栅介质，具有光栅图案之内部调制折射率光栅以反射至少一种波长范围频带λR；至少一个输出波长范围频带之输出耦合器；以及基质结构以固定布拉格光栅相对于输入准直器以及输出耦合器，大块布拉格光栅放置于未导引输入光束中，其中至少一种波长范围频带λn发送通过大块布拉格光栅以及至少一种波长范围频带λR被大块布拉格光栅反射。

16. 发明专利

TW200300746A 部分區(層)或全部玻化、SiO2成形體之製造方法及其用途 SiO2 shaped body which is vitrified in partial regions or completely, process for its production and use 失效
简体标题：部分区(层)或全部玻化、SiO2成形体之制造方法及其用途 SiO2 shaped body which is vitrified in partial regions or completely, process for its production and use
公开(公告)号：TW200300746A
公开(公告)日：2003-06-16
申请号：TW091134676
申请日：2002-11-28
申请人：瓦克化學公司 WACKER-CHEMIE GMBH
发明人：符瑞芝席維特飛格 , 霍爾格斯齊勒 HOLGER SZILLAT , 珍斯居斯特爾 JENS GUNSTER , 史文顏格勒爾 SVEN ENGLER , 尤爾根漢瑞希 JURGEN HEINRICH
IPC分类号： C03B
CPC分类号： C30B35/002 , C03B19/06 , C03B19/066 , C03B20/00 , C03B32/00 , C30B15/10
摘要：一種製造部分區(層)或全部玻化、SiO2成形體之方法，在該方法中，一無定形、多孔性SiO2預形體係藉助於輻射能之非接觸式加熱而加以燒結或玻化，且在此步驟過程中可免除SiO2成形體受到外來原子之污染，其特徵為所用輻射能係一雷射束。
简体摘要：一种制造部分区(层)或全部玻化、SiO2成形体之方法，在该方法中，一无定形、多孔性SiO2预形体系借助于辐射能之非接触式加热而加以烧结或玻化，且在此步骤过程中可免除SiO2成形体受到外来原子之污染，其特征为所用辐射能系一激光束。

17. 发明专利

TW449539B 由矽石粉塵擠製之矽石玻璃蜂巢結構體有权
简体标题：由硅石粉尘挤制之硅石玻璃蜂巢结构体
公开(公告)号：TW449539B
公开(公告)日：2001-08-11
申请号：TW089106936
申请日：2000-04-11
申请人：康寧公司
发明人：肯尼埃德哈迪納 , 吉地摩卡 , 詹佛雷懷特 , 余振希
IPC分类号： B28B , B29C , C03B
CPC分类号： G02B6/02347 , B01D63/066 , B01D71/027 , B01D71/04 , C02F1/32 , C03B19/025 , C03B19/06 , C03B23/047 , C03B23/06 , C03B23/065 , C03B32/00 , C03B37/0124 , C03B2203/14 , C03B2203/42 , G02B6/02357 , G02B6/02371 , G02B6/02376 , Y10T428/24149 , Y10T428/24165
摘要：本發明說明一種玻璃蜂巢體結構,其具有不同形狀以及尺寸,其決定於最終應用。不像先前技術由陶瓷製造出之蜂巢體結構,本發明玻璃蜂巢體能夠立即地彎曲及/或再抽拉。除此,本發明蜂巢體結構為輕重量,然而能夠支撐重負載於其端部表面。因此,本發明蜂巢體能夠使用作為例如為反射鏡物體之輕重量支撐。擠製玻璃蜂巢體其他有用的特性為高軟化溫度,其對紫外線以及可見光為透明的,以及能夠作再抽拉之能力。依賴這些一種或多種特性之實施例包含:生物反應器,薄膜反應器,毛細流量控制器,高效率過濾系統,水質處理,高溫介電質材料,以及光子頻帶間隙材料。
简体摘要：本发明说明一种玻璃蜂巢体结构,其具有不同形状以及尺寸,其决定于最终应用。不像先前技术由陶瓷制造出之蜂巢体结构,本发明玻璃蜂巢体能够立即地弯曲及/或再抽拉。除此,本发明蜂巢体结构为轻重量,然而能够支撑重负载于其端部表面。因此,本发明蜂巢体能够使用作为例如为反射镜物体之轻重量支撑。挤制玻璃蜂巢体其他有用的特性为高软化温度,其对紫外线以及可见光为透明的,以及能够作再抽拉之能力。依赖这些一种或多种特性之实施例包含:生物反应器,薄膜反应器,毛细流量控制器,高效率过滤系统,水质处理,高温介电质材料,以及光子频带间隙材料。

18. 发明专利

TW201742840A 二氧化矽玻璃構件及其製造方法审中-公开
简体标题：二氧化硅玻璃构件及其制造方法
公开(公告)号：TW201742840A
公开(公告)日：2017-12-16
申请号：TW106111713
申请日：2017-04-07
申请人：闊斯泰股份有限公司 , COORSTEK KK
发明人：深澤祐司 , FUKASAWA, YUJI , 加藤幸子 , KATO, SACHIKO
IPC分类号： C03C3/06 , C03C4/00 , C03B19/14 , C03B32/00 , C03B25/02
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/1461 , C03B25/02 , C03B27/02 , C03B27/028 , C03B27/04 , C03B32/00 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03C4/0085
摘要：本發明提供一種真空紫外光之光透過性高且於室溫附近具有4.0×10-7/K以下之低熱膨脹性的二氧化矽玻璃構件，尤其提供一種適合作為以ArF準分子雷射(193nm)作為光源之雙重圖案化曝光步驟中所用的光罩基板之二氧化矽玻璃構件。前述二氧化矽玻璃構件係以真空紫外光作為光源之光微影步驟中所使用的二氧化矽玻璃，並且氟濃度為1wt%以上5wt%以下，且20℃至50℃之熱膨脹係數為4.0×10-7/K以下。
简体摘要：本发明提供一种真空紫外光之光透过性高且于室温附近具有4.0×10-7/K以下之低热膨胀性的二氧化硅玻璃构件，尤其提供一种适合作为以ArF准分子激光(193nm)作为光源之双重图案化曝光步骤中所用的光罩基板之二氧化硅玻璃构件。前述二氧化硅玻璃构件系以真空紫外光作为光源之光微影步骤中所使用的二氧化硅玻璃，并且氟浓度为1wt%以上5wt%以下，且20℃至50℃之热膨胀系数为4.0×10-7/K以下。

19. 发明专利

TW201731783A 支持玻璃基板的製造方法及半導體封裝體的製造方法审中-公开
简体标题：支持玻璃基板的制造方法及半导体封装体的制造方法
公开(公告)号：TW201731783A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105140524
申请日：2016-12-08
申请人：日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
发明人：鈴木良太 , SUZUKI, RYOTA
IPC分类号： C03B32/00 , H01L21/683 , H01L23/12
CPC分类号： C03B32/00 , H01L21/683 , H01L23/12
摘要：本發明的支持玻璃基板的製造方法為用於支持加工基板的支持玻璃基板的製造方法，所述支持玻璃基板的製造方法的特徵在於包括：成形步驟，將支持玻璃基板成形；以及熱處理步驟，對成形後的支持玻璃基板進行熱處理而使支持玻璃基板的熱膨脹係數發生變動。
简体摘要：本发明的支持玻璃基板的制造方法为用于支持加工基板的支持玻璃基板的制造方法，所述支持玻璃基板的制造方法的特征在于包括：成形步骤，将支持玻璃基板成形；以及热处理步骤，对成形后的支持玻璃基板进行热处理而使支持玻璃基板的热膨胀系数发生变动。

20. 发明专利

TW201639707A 具已確定密實性的積層玻璃物品及其成形方法审中-公开
简体标题：具已确定密实性的积层玻璃物品及其成形方法
公开(公告)号：TW201639707A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：TW104141132
申请日：2015-12-08
申请人：康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：奇贊斯基提摩西詹姆斯 , KICZENSKI, TIMOTHY JAMES , 寇斯巴山繆約翰 , KOSEBA, SAMUEL JOHN , 文卡塔拉曼納特桑 , VENKATARAMAN, NATESAN
IPC分类号： B32B17/06 , C03C3/091 , C03C3/085 , C03C3/087 , H01L23/15 , H01L29/786 , G02F1/1333 , C03B25/04
CPC分类号： B32B17/06 , B32B2250/03 , C03B17/02 , C03B17/064 , C03B17/067 , C03B25/08 , C03B25/12 , C03B32/00 , H01L21/02422 , H01L21/02488 , H01L21/02532
摘要：強化玻璃物品包括第一與第二玻璃包覆層以及配置於第一與第二玻璃包覆層中的玻璃核心層。各個包覆層的CTE低於核心層的CTE至少1x10-7℃-1。各個核心層與包覆層的應變點低於700℃。玻璃物品的壓實度至多約20ppm。方法包括形成玻璃物品與/或加熱玻璃物品到至少約400℃的第一溫度。玻璃物品具有玻璃核心層與鄰近核心層的玻璃包覆層。將玻璃物品維持在約400℃至約600℃的溫度範圍中達約30分至約90分的固持時間週期並接著在約30秒至約5分的冷卻時間週期冷卻到至多約50℃的溫度。
简体摘要：强化玻璃物品包括第一与第二玻璃包覆层以及配置于第一与第二玻璃包覆层中的玻璃内核层。各个包覆层的CTE低于内核层的CTE至少1x10-7℃-1。各个内核层与包覆层的应变点低于700℃。玻璃物品的压实度至多约20ppm。方法包括形成玻璃物品与/或加热玻璃物品到至少约400℃的第一温度。玻璃物品具有玻璃内核层与邻近内核层的玻璃包覆层。将玻璃物品维持在约400℃至约600℃的温度范围中达约30分至约90分的固持时间周期并接着在约30秒至约5分的冷却时间周期冷却到至多约50℃的温度。

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